JPS60256902A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS60256902A JPS60256902A JP11254884A JP11254884A JPS60256902A JP S60256902 A JPS60256902 A JP S60256902A JP 11254884 A JP11254884 A JP 11254884A JP 11254884 A JP11254884 A JP 11254884A JP S60256902 A JPS60256902 A JP S60256902A
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- JP
- Japan
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- glass
- gap
- magnetic
- magnetic head
- core
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気記録再生装置に用いる磁気ヘッドの製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
磁性体をスパッタリング又は蒸着等により基板上に形成
させ、それを用いてリンク状の磁気ヘッドを構成する方
法として、従来は次の２例があった。
させ、それを用いてリンク状の磁気ヘッドを構成する方
法として、従来は次の２例があった。
先ず第１の例は、すべてを薄膜プロセスで形成する方法
である。すなわち第９図に示す様に、基板（２１）上に
磁性体層（２２）を形成し、磁気ギャップに相当するス
ペーサ（２３）をその」二に形成し、再度磁性体層（２
４）を形成することにより、リング状磁気ヘッドとする
。巻線（２５）は、スペーサ（２３）を形成する時に作
られ、二ＩＬらの工程はマスキングされた上へのスパッ
タリング又は蒸着により各層が形成され、最終的にオー
バーコート（２６）でもって覆われる。これらのヘッド
はテープ摺動面（２７）で磁気コアの接触長さが充分数
れないため、耐摩耗性の点で欠点があり、しかもバルク
状の基板とスパッタ等の手段で形成した薄膜との耐摩耗
性の差に基因する段差による空隙損失のため、ビデオ信
号の記録の様な短波長・高周波数の記録再生が行なえな
かった。
である。すなわち第９図に示す様に、基板（２１）上に
磁性体層（２２）を形成し、磁気ギャップに相当するス
ペーサ（２３）をその」二に形成し、再度磁性体層（２
４）を形成することにより、リング状磁気ヘッドとする
。巻線（２５）は、スペーサ（２３）を形成する時に作
られ、二ＩＬらの工程はマスキングされた上へのスパッ
タリング又は蒸着により各層が形成され、最終的にオー
バーコート（２６）でもって覆われる。これらのヘッド
はテープ摺動面（２７）で磁気コアの接触長さが充分数
れないため、耐摩耗性の点で欠点があり、しかもバルク
状の基板とスパッタ等の手段で形成した薄膜との耐摩耗
性の差に基因する段差による空隙損失のため、ビデオ信
号の記録の様な短波長・高周波数の記録再生が行なえな
かった。
そのため第２の例として、磁性体を基板で両側からサン
ドイッチ構造に積層するタイプが検討され、ビデオヘッ
ド等の、テープ摺動時の耐摩耗性が必要となる用途に用
いられている。しかしこのヘッドは、ギャップ長の精度
に問題があった。すなわち第１０図に示す如く、磁性体
（３１）を基板（３２）（３３）ではさんで積層した状
態の左右コアをスペーサ（３４）を介して接合材（３５
）でもって接合する事によりギャップ形成するのである
が、この時の左右のコアブロックの平面性や加工時のそ
り、ダレなどが直接磁気ギャップ長の精度に影響し、ビ
デオヘッドの様に狭ギャップ長（０，３ミクロン以下）
を高精度に作成する事は非常に困難であった。左右コア
の接合材（３５）には↓ポキシ樹脂等の有機接着剤やガ
ラスなどの無機接着剤が検討されたが、前者の場合は耐
候性において信頼性が得られず、後者の場合はその処理
温度でのより確実な左右コアの突き合わせが必要であっ
た。またこの接合材（３５）だけの接着強度では、その
後の機械加工に耐え得ない欠点があった。
ドイッチ構造に積層するタイプが検討され、ビデオヘッ
ド等の、テープ摺動時の耐摩耗性が必要となる用途に用
いられている。しかしこのヘッドは、ギャップ長の精度
に問題があった。すなわち第１０図に示す如く、磁性体
（３１）を基板（３２）（３３）ではさんで積層した状
態の左右コアをスペーサ（３４）を介して接合材（３５
）でもって接合する事によりギャップ形成するのである
が、この時の左右のコアブロックの平面性や加工時のそ
り、ダレなどが直接磁気ギャップ長の精度に影響し、ビ
デオヘッドの様に狭ギャップ長（０，３ミクロン以下）
を高精度に作成する事は非常に困難であった。左右コア
の接合材（３５）には↓ポキシ樹脂等の有機接着剤やガ
ラスなどの無機接着剤が検討されたが、前者の場合は耐
候性において信頼性が得られず、後者の場合はその処理
温度でのより確実な左右コアの突き合わせが必要であっ
た。またこの接合材（３５）だけの接着強度では、その
後の機械加工に耐え得ない欠点があった。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、高精度な狭
ギャップを得ることができ、しかもへラドチップの機械
加」―に対する強度にも何ら問題の生じることがない磁
気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
ギャップを得ることができ、しかもへラドチップの機械
加」―に対する強度にも何ら問題の生じることがない磁
気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
発明の構成
上記目的を達成するため、本発明の磁気ヘッドの製造方
法は、磁性体を両側より基板でサンドインチした構造に
積層したコアブロックを切断して一対のコアバーを形成
し、その切断面を磁気ギャップ面として、磁性体切断面
に沿ってガラス溜り部を設け１次に磁心窓を磁性体切断
面と直交する様に複数個設け、ギャップ面を平面に研磨
し、スペーサを介して一対のコアバーを突き合せ、加熱
加圧して再接合し、磁心窓毎に個別に切断を行なう構成
としたものである。
法は、磁性体を両側より基板でサンドインチした構造に
積層したコアブロックを切断して一対のコアバーを形成
し、その切断面を磁気ギャップ面として、磁性体切断面
に沿ってガラス溜り部を設け１次に磁心窓を磁性体切断
面と直交する様に複数個設け、ギャップ面を平面に研磨
し、スペーサを介して一対のコアバーを突き合せ、加熱
加圧して再接合し、磁心窓毎に個別に切断を行なう構成
としたものである。
かかる構成によれば、ギャップ形成面にガラス溜り部を
設け、ギャップ面を境界面として左右コアを押し当てた
状態とし、加熱するので、昇温時にガラス溜り部のガラ
スは軟化温度以上で液体のふるまいをし、ギャップ長は
スペーサの厚みそのものとなる。また軟化温度共」二で
ガラスは左右の基板に侵食していき、融合した状態とな
る。したがって、強固でしかも高精度な磁気ギャップが
得られるのである。
設け、ギャップ面を境界面として左右コアを押し当てた
状態とし、加熱するので、昇温時にガラス溜り部のガラ
スは軟化温度以上で液体のふるまいをし、ギャップ長は
スペーサの厚みそのものとなる。また軟化温度共」二で
ガラスは左右の基板に侵食していき、融合した状態とな
る。したがって、強固でしかも高精度な磁気ギャップが
得られるのである。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について、図面に基づいて説明
すや。
すや。
第１図〜第４図は本発明の一実施例における磁気ヘッド
の製造方法の説明図で、この実施例は、家庭用ＶＴＲな
どに用いられるビデオヘッドの製；伽−＃辿で訊ス 廓
デ 笛１１切り一、モす闘Ｌ７ ７Ｘノマス記録用の傾
斜角Ｏ３を有する結晶化ガラス基板（１）の上下両面を
平面に研磨し、その両面にＧｏ”Ｎｏ−Ｚｒよりなるア
モルファス磁性体（２ａ）（２ｂ）を形成した。この時
スパッタ膜の全厚は３０ミクロンであるが、磁性体の周
波数特性の改善のため、磁性体層は３層構造とし、１層
の厚さを１０ミクロンどし、層間をＳｕｎ、で電気的に
絶縁を行なった。
の製造方法の説明図で、この実施例は、家庭用ＶＴＲな
どに用いられるビデオヘッドの製；伽−＃辿で訊ス 廓
デ 笛１１切り一、モす闘Ｌ７ ７Ｘノマス記録用の傾
斜角Ｏ３を有する結晶化ガラス基板（１）の上下両面を
平面に研磨し、その両面にＧｏ”Ｎｏ−Ｚｒよりなるア
モルファス磁性体（２ａ）（２ｂ）を形成した。この時
スパッタ膜の全厚は３０ミクロンであるが、磁性体の周
波数特性の改善のため、磁性体層は３層構造とし、１層
の厚さを１０ミクロンどし、層間をＳｕｎ、で電気的に
絶縁を行なった。
結晶化ガラス基板（１）の耐熱限界は６００℃であり、
アモルファス磁性体（２ａ） （２ｂ）の結晶化温度は
５２０℃であった。
アモルファス磁性体（２ａ） （２ｂ）の結晶化温度は
５２０℃であった。
次に第２図のように、同種の結晶化ガラス基板（３ａ）
（３ｂ）を用意し、その表面に厚さ１μｍの低融ガラス
Ｍ （４ａ） （４ｂ）を塗布して、両側より磁性体を
有する結晶化ガラス基板（１）をはさむ構造に積層し、
加熱・加圧し、融着させた。
（３ｂ）を用意し、その表面に厚さ１μｍの低融ガラス
Ｍ （４ａ） （４ｂ）を塗布して、両側より磁性体を
有する結晶化ガラス基板（１）をはさむ構造に積層し、
加熱・加圧し、融着させた。
次に第３図のように、第２図における■−■線に沿フて
切断し、一対のコアブロックとし、前記切断面を平面に
研磨して磁気ギャップ面（５ａ） （５ｂ）とした。こ
の磁気ギャップ面（５ａ） （５ｂ）の中に接合用のガ
ラス溜を作成するのであるが、先ず幅２００ミクロン、
深さ１５０ミクロンの溝をアモルファス磁性体（２ａ）
（２ｂ）に沿って（磁性体よりの間隙は２５ミクロン）
加工した。その溝中にクロム膜（６ａ） （６ｂ）（７
ａ） （７ｂ）をスパッタリングで形成し、その上から
低融点ガラス（８ａ） （８ｂ） （９ａ） （９ｂ）
を充填した。この詳細を第５図に示す。この場合、クロ
ム膜（６ａ）（６ｂ） （７ａ） （７ｂ）の厚さは０
．】ミクロンであり、低融点ガラス（８ａ） （８ｂ）
（９ａ） （９ｂ）として高鉛ガラスを用いた時に、
低融点ガラス（８ａ） （８ｂ） （９ａ） （９ｂ）
の結晶化ガラス基板（１）へのぬれ性を著しく改善する
効果があった。このガラス充填処理温度は４８０℃であ
り、充填ガラスの鉛の含有量はｐｂ○で８０％ｗｔに近
いものである。かくして得られた、ガラス充填溝を有す
るコアブロックの一方に、ギャップスペーサ（１０）を
スパッタリングにより形成しく厚さ０．２４ミクロン）
、巻線のための複数の巻線溝（１１）を形成し、左右コ
アブロックを治旦で押し当てた。
切断し、一対のコアブロックとし、前記切断面を平面に
研磨して磁気ギャップ面（５ａ） （５ｂ）とした。こ
の磁気ギャップ面（５ａ） （５ｂ）の中に接合用のガ
ラス溜を作成するのであるが、先ず幅２００ミクロン、
深さ１５０ミクロンの溝をアモルファス磁性体（２ａ）
（２ｂ）に沿って（磁性体よりの間隙は２５ミクロン）
加工した。その溝中にクロム膜（６ａ） （６ｂ）（７
ａ） （７ｂ）をスパッタリングで形成し、その上から
低融点ガラス（８ａ） （８ｂ） （９ａ） （９ｂ）
を充填した。この詳細を第５図に示す。この場合、クロ
ム膜（６ａ）（６ｂ） （７ａ） （７ｂ）の厚さは０
．】ミクロンであり、低融点ガラス（８ａ） （８ｂ）
（９ａ） （９ｂ）として高鉛ガラスを用いた時に、
低融点ガラス（８ａ） （８ｂ） （９ａ） （９ｂ）
の結晶化ガラス基板（１）へのぬれ性を著しく改善する
効果があった。このガラス充填処理温度は４８０℃であ
り、充填ガラスの鉛の含有量はｐｂ○で８０％ｗｔに近
いものである。かくして得られた、ガラス充填溝を有す
るコアブロックの一方に、ギャップスペーサ（１０）を
スパッタリングにより形成しく厚さ０．２４ミクロン）
、巻線のための複数の巻線溝（１１）を形成し、左右コ
アブロックを治旦で押し当てた。
なお、ギャップスペーサ（１０）はＳｉｏ２を主成分と
する層と鉛ガラス層との２層構造とした。次に左右コア
ブロックを治具で押しつつ、窒素雰囲気中で４８０℃ま
で昇温し、３０分間その温度を保持し、室温までそのま
ま冷却した。この時結晶化ガラス基板（］）（３ａ）（
３ｂ）の熱膨張係数は１２０ Ｘ １０”／ ’Ｃであ
り（室温３６０℃）、低融点ガラス（８ａ）（８ｂ）
（９ａ） （９ｂ）は、軟化点が３６０℃で、軟化点以
下の熱膨張率は結晶化ガラス基板（１）の熱膨張係数よ
り２０％大きいガラスを用いた。軟化点以上では、ガラ
ス溜りの低融点ガラス（８ａ） （８ｂ） （９ａ）
（９ｂ）は液状であり、それ以下では固体に変化して行
き、軟化点以上で融着した状態から固体となることによ
り、熱膨張係数の差により、低融点ガラス（８ａ） （
８ｂ） （９ａ） （９ｂ）には引張りカが、また左右
の結晶化ガラス基板（１）（３ａ） （３ｂ）について
は磁気ギャップ面（５ａ）（５ｂ）で圧縮力が働き、左
右コアを磁気キャップ面（５ａ）（５ｂ）にて押し付け
る結果となり、強固でしかもギャップスペーサ（１０）
に相当する高精度のギャップ長を得ることが出来た。
する層と鉛ガラス層との２層構造とした。次に左右コア
ブロックを治具で押しつつ、窒素雰囲気中で４８０℃ま
で昇温し、３０分間その温度を保持し、室温までそのま
ま冷却した。この時結晶化ガラス基板（］）（３ａ）（
３ｂ）の熱膨張係数は１２０ Ｘ １０”／ ’Ｃであ
り（室温３６０℃）、低融点ガラス（８ａ）（８ｂ）
（９ａ） （９ｂ）は、軟化点が３６０℃で、軟化点以
下の熱膨張率は結晶化ガラス基板（１）の熱膨張係数よ
り２０％大きいガラスを用いた。軟化点以上では、ガラ
ス溜りの低融点ガラス（８ａ） （８ｂ） （９ａ）
（９ｂ）は液状であり、それ以下では固体に変化して行
き、軟化点以上で融着した状態から固体となることによ
り、熱膨張係数の差により、低融点ガラス（８ａ） （
８ｂ） （９ａ） （９ｂ）には引張りカが、また左右
の結晶化ガラス基板（１）（３ａ） （３ｂ）について
は磁気ギャップ面（５ａ）（５ｂ）で圧縮力が働き、左
右コアを磁気キャップ面（５ａ）（５ｂ）にて押し付け
る結果となり、強固でしかもギャップスペーサ（１０）
に相当する高精度のギャップ長を得ることが出来た。
ギャップ形成後は、第４図に示すように、通常のビデオ
ヘッドの加工工程と同様に、チップ幅Ｑにスライス（厚
さは１３０ミクロン）し、各々のチップをヘッドベース
に接着して、テープ摺動面を球面に仕上げ、巻線に施し
てヘッドを完成した。
ヘッドの加工工程と同様に、チップ幅Ｑにスライス（厚
さは１３０ミクロン）し、各々のチップをヘッドベース
に接着して、テープ摺動面を球面に仕上げ、巻線に施し
てヘッドを完成した。
この様に、あらかじめ対向するギャップ形成面にガラス
溜りを設けておき、そのガラスを再溶融する事により左
右コアを接着し、しかも熱膨張係数の差によりギャップ
面を押しイ」ける構成とすることにより、強固でかつ高
精度のギャップを得る、ことが出来た。 第６図及び第
７図は別の実施例を示しており、このように、平板上の
結晶化ガラス基板（１２）の両面にアモルファス磁性体
（１３ａ）（１３ｂ）を形成し、さらにその上に結晶化
ガラス基板（１４ａ） （１４ｂ）を形成し、アジマス
角θ、、でもって、多量に同様のコアブロックを作成し
ても、以下の工程でギャップ面にガラス溜を作成すれは
同様の効果が得られる。
溜りを設けておき、そのガラスを再溶融する事により左
右コアを接着し、しかも熱膨張係数の差によりギャップ
面を押しイ」ける構成とすることにより、強固でかつ高
精度のギャップを得る、ことが出来た。 第６図及び第
７図は別の実施例を示しており、このように、平板上の
結晶化ガラス基板（１２）の両面にアモルファス磁性体
（１３ａ）（１３ｂ）を形成し、さらにその上に結晶化
ガラス基板（１４ａ） （１４ｂ）を形成し、アジマス
角θ、、でもって、多量に同様のコアブロックを作成し
ても、以下の工程でギャップ面にガラス溜を作成すれは
同様の効果が得られる。
第８図はさらに別の実施例を示しており、このように、
ガラス溜りは左右コアのいずれか一方に設けても良い。
ガラス溜りは左右コアのいずれか一方に設けても良い。
また、結晶化ガラス基板（１）内のみにガラス溜ｉ ＊
−！ｌ） ｔ＋ 箇／１１１１ ｔｘけさむ結晶化ガ
ラス基板（３ａ）（３ｂ）にガラス溜りを設けなくとも
、ギャップを押し付ける効果は見られた。
−！ｌ） ｔ＋ 箇／１１１１ ｔｘけさむ結晶化ガ
ラス基板（３ａ）（３ｂ）にガラス溜りを設けなくとも
、ギャップを押し付ける効果は見られた。
またガラス溜りにクロム膜（６ａ）（６ｂ） （７ａ）
（７ｂ）を０．１ミクロン形成したが、これはガラス
のぬれ性の改善を試みたものであり、同様の効果は銅、
銀。
（７ｂ）を０．１ミクロン形成したが、これはガラス
のぬれ性の改善を試みたものであり、同様の効果は銅、
銀。
チタン膜でも確認された。
発明の詳細
な説明したように本発明によれば、高精度な狭ギヤツプ
層を有し、かつ強度的にも後工程の機械加工に充分耐え
得るヘッドチップを製造し得る。
層を有し、かつ強度的にも後工程の機械加工に充分耐え
得るヘッドチップを製造し得る。
第１図〜第４図は本発明の一実施例における磁気ヘッド
の製造方法の説明図、第５図はガラス溜りの拡大断面図
、第６図及び第７図は本発明の別の実施例における磁気
ヘッドの製造方法の説明図、第８図は本発明のさらに別
の実施例における磁気ヘッドの製造方法の説明図、第９
図及び第１０図はそれぞれ従来の磁気ヘットの製造方法
の説明図である。 （１）（３ａ） （３ｂ） （１２） （１４ａ）（１
４ｂ） ・・ 結晶化ガラス基板、（２Ｅｌ） （２ｂ
） （１３ａ） （１３ｂ）−アモルファス磁性体、（
６ａ） （６ｂ） （７ａ） （７ｂ）−クロム膜、（
８ａ） （８ｂ） （９ａ） （９ｂ）・・・低融点ガ
ラス、（１０）・・ギャップスペーサ、（ＩＩ）・・・
巻線淘 代理人 森 木 義 弘 第／ Ｉ’％ｉ 第２図 第３図 ψ 第４図 第６図 第６図 第３図
の製造方法の説明図、第５図はガラス溜りの拡大断面図
、第６図及び第７図は本発明の別の実施例における磁気
ヘッドの製造方法の説明図、第８図は本発明のさらに別
の実施例における磁気ヘッドの製造方法の説明図、第９
図及び第１０図はそれぞれ従来の磁気ヘットの製造方法
の説明図である。 （１）（３ａ） （３ｂ） （１２） （１４ａ）（１
４ｂ） ・・ 結晶化ガラス基板、（２Ｅｌ） （２ｂ
） （１３ａ） （１３ｂ）−アモルファス磁性体、（
６ａ） （６ｂ） （７ａ） （７ｂ）−クロム膜、（
８ａ） （８ｂ） （９ａ） （９ｂ）・・・低融点ガ
ラス、（１０）・・ギャップスペーサ、（ＩＩ）・・・
巻線淘 代理人 森 木 義 弘 第／ Ｉ’％ｉ 第２図 第３図 ψ 第４図 第６図 第６図 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、磁性体を両側より基板でサンドイッチした構造に積
層したコアブロックを切断して一対のコアバーを形成し
、その切断面を磁気ギャップ面として、磁性体層１１Ｊ
「面に治ってガラス溜り部を設け、次に磁心窓を磁性体
切断面と直交する様に複数個設け、ギャップ面を平面に
研磨し、スペーサを介して−・対のコアバーを突き合せ
、加熱加圧して再接合し、磁心窓毎に個別に切断を行な
う磁気ヘッドの製造方法。 ２、カラス溜り部の充填ガラスと基板との境界面に金属
層を形成する特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの
製造方法。 ３、ガラス溜り部に充填するガラスは、軟化点から室温
までの熱膨張係数が基板の熱膨張係数より大なるものを
用いる特許請求の範囲第１項または第２′ｆｒＩに記載
の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11254884A JPS60256902A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11254884A JPS60256902A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60256902A true JPS60256902A (ja) | 1985-12-18 |
| JPH0546603B2 JPH0546603B2 (ja) | 1993-07-14 |
Family
ID=14589411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11254884A Granted JPS60256902A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60256902A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62273613A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
-
1984
- 1984-05-31 JP JP11254884A patent/JPS60256902A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62273613A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0546603B2 (ja) | 1993-07-14 |
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