JPH06111224A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH06111224A JPH06111224A JP26106092A JP26106092A JPH06111224A JP H06111224 A JPH06111224 A JP H06111224A JP 26106092 A JP26106092 A JP 26106092A JP 26106092 A JP26106092 A JP 26106092A JP H06111224 A JPH06111224 A JP H06111224A
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- JP
- Japan
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- substrate
- film
- thermal expansion
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属磁性膜が有する能力の劣化や膜はがれを
防止できる薄膜積層磁気ヘッド及びその製造方法を提供
する。 【構成】 金属磁性膜１を挟持する非磁性基板を熱膨張
係数が金属磁性膜１より小さい非磁性基板２と、熱膨張
係数が金属磁性膜１に近い非磁性基板３を接合して形成
し、非磁性基板２に金属磁性膜が接する構造、及び非磁
性基板３を金属磁性膜の熱膨張係数に近い結晶化ガラス
として非磁性基板２と熱圧着する工程を含む。
防止できる薄膜積層磁気ヘッド及びその製造方法を提供
する。 【構成】 金属磁性膜１を挟持する非磁性基板を熱膨張
係数が金属磁性膜１より小さい非磁性基板２と、熱膨張
係数が金属磁性膜１に近い非磁性基板３を接合して形成
し、非磁性基板２に金属磁性膜が接する構造、及び非磁
性基板３を金属磁性膜の熱膨張係数に近い結晶化ガラス
として非磁性基板２と熱圧着する工程を含む。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はＶＴＲ等に用いられる
ラミネートタイプ等の磁気ヘッドに関し、特に磁気コア
となる金属磁性膜を成膜する非磁性基板の構造及び製造
方法に関する。
ラミネートタイプ等の磁気ヘッドに関し、特に磁気コア
となる金属磁性膜を成膜する非磁性基板の構造及び製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の磁気ヘッドは、図５に示
すように、非磁性基板８として結晶化ガラス、またはセ
ラミックスを用い、その基板上に金属磁性膜１を成膜し
たものをサンドイッチ状に挟持したコア半体を非磁性ス
ペーサを介して接合し磁気ギャップ５を含む磁路を形成
していた。（例えば、テレビジョン学会誌Vol.45 NO.12
（１９９１）あるいいは、図６に示すように非磁性基板
８にＶ形状の切削加工を施した後、金属磁性膜１を成膜
し、所定のトラック幅を得るようにその表面を研磨し、
金属磁性膜１が対向するように非磁性スペーサを介して
接合し、磁気ギャップ５を含む磁路を形成していた。
（例えばシャープ技報第５１号１９９１年１２月）
すように、非磁性基板８として結晶化ガラス、またはセ
ラミックスを用い、その基板上に金属磁性膜１を成膜し
たものをサンドイッチ状に挟持したコア半体を非磁性ス
ペーサを介して接合し磁気ギャップ５を含む磁路を形成
していた。（例えば、テレビジョン学会誌Vol.45 NO.12
（１９９１）あるいいは、図６に示すように非磁性基板
８にＶ形状の切削加工を施した後、金属磁性膜１を成膜
し、所定のトラック幅を得るようにその表面を研磨し、
金属磁性膜１が対向するように非磁性スペーサを介して
接合し、磁気ギャップ５を含む磁路を形成していた。
（例えばシャープ技報第５１号１９９１年１２月）
【課題を解決するための手段】ところで、上記の非磁性
基板に金属磁性膜を成膜する磁気ヘッドでは、非磁性基
板と金属磁性膜の各熱膨張係数を略均等に揃えることが
困難であるため、製造工程中あるいは生産後の熱履歴に
より金属磁性膜がはがれたり、応力歪のため特性劣化を
生じるという欠点があった。
基板に金属磁性膜を成膜する磁気ヘッドでは、非磁性基
板と金属磁性膜の各熱膨張係数を略均等に揃えることが
困難であるため、製造工程中あるいは生産後の熱履歴に
より金属磁性膜がはがれたり、応力歪のため特性劣化を
生じるという欠点があった。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
熱膨張係数が異なる２種類以上の非磁性基板をガラス接
合し、金属磁性膜を成膜する側の非磁性基板の熱膨張係
数が逆側の非磁性基板の熱膨張係数より小さい構成とす
ることを特徴とし、また、製造方法とする。
熱膨張係数が異なる２種類以上の非磁性基板をガラス接
合し、金属磁性膜を成膜する側の非磁性基板の熱膨張係
数が逆側の非磁性基板の熱膨張係数より小さい構成とす
ることを特徴とし、また、製造方法とする。
【０００４】結晶化ガラスを熱膨張係数が結晶化ガラス
より小さい非磁性基板で挟持して、熱圧着し、熱膨張係
数が小さい非磁性基板上に金属磁性膜を成膜する工程を
含むことを特徴とする。
より小さい非磁性基板で挟持して、熱圧着し、熱膨張係
数が小さい非磁性基板上に金属磁性膜を成膜する工程を
含むことを特徴とする。
【０００５】
【作用】上記の構成によると金属磁性膜を成膜した非磁
性基板を多層に熱接着する際や磁気ギャップを含む磁路
形成の際の降温時の非磁性基板の金属磁性膜に対する引
っ張り応力を逆側に非磁性基板の圧縮応力で軽減し、金
属磁性膜の特性劣化や膜はがれを軽減できる。
性基板を多層に熱接着する際や磁気ギャップを含む磁路
形成の際の降温時の非磁性基板の金属磁性膜に対する引
っ張り応力を逆側に非磁性基板の圧縮応力で軽減し、金
属磁性膜の特性劣化や膜はがれを軽減できる。
【０００６】
【実施例】以下、この発明について図面を参照して説明
する。
する。
【０００７】図１は、この発明の第１実施例を説明する
ヘッドコアチップの斜視図である。第１実施例では、金
属磁性膜１の熱膨張係数［(150±10) ×10-7／℃］に近
い非磁性基板３例えば金属磁性膜よりも熱膨張係数が小
さい(130±10) ×10-7／℃程度を有するものと例えば(1
15±10) ×10-7／℃程度の非磁性基板３より厚みが薄い
非磁性基板２をガラス接合し非磁性基板２が金属磁性膜
と接するようにガラス溶着する。その後多層積層したコ
ア半体に巻線のための窓となる溝を加工した後ギャップ
スペーサ５を介して低融点ガラス４にて接合し、所定の
寸法に切断したものである。上記構成によれば金属磁性
膜１と非磁性基板２の熱膨張係数の差からくる金属磁性
膜１に対する引っ張り応力を非磁性基板３でキャンセル
することが出来、膜はがれや特性劣化を低減できる。ま
た３種以上の非磁性基板を使ってもよい。図２は、金属
磁性膜をＶ形状の面に斜めにつけるタイプであるが図１
の積層タイプと同等の効果がある。
ヘッドコアチップの斜視図である。第１実施例では、金
属磁性膜１の熱膨張係数［(150±10) ×10-7／℃］に近
い非磁性基板３例えば金属磁性膜よりも熱膨張係数が小
さい(130±10) ×10-7／℃程度を有するものと例えば(1
15±10) ×10-7／℃程度の非磁性基板３より厚みが薄い
非磁性基板２をガラス接合し非磁性基板２が金属磁性膜
と接するようにガラス溶着する。その後多層積層したコ
ア半体に巻線のための窓となる溝を加工した後ギャップ
スペーサ５を介して低融点ガラス４にて接合し、所定の
寸法に切断したものである。上記構成によれば金属磁性
膜１と非磁性基板２の熱膨張係数の差からくる金属磁性
膜１に対する引っ張り応力を非磁性基板３でキャンセル
することが出来、膜はがれや特性劣化を低減できる。ま
た３種以上の非磁性基板を使ってもよい。図２は、金属
磁性膜をＶ形状の面に斜めにつけるタイプであるが図１
の積層タイプと同等の効果がある。
【０００８】
【実施例２】次に本発明の他の実施例を説明する。前記
第１の実施例の非磁性基板３に非磁性基板２より熱膨張
係数が大きい結晶化ガラスを用いて非磁性基板２で挟持
して熱圧着する。上記により非磁性材２と非磁性材３を
接合する高融点ガラスが不要となり、製造工程を簡略化
することができる。
第１の実施例の非磁性基板３に非磁性基板２より熱膨張
係数が大きい結晶化ガラスを用いて非磁性基板２で挟持
して熱圧着する。上記により非磁性材２と非磁性材３を
接合する高融点ガラスが不要となり、製造工程を簡略化
することができる。
【０００９】結晶化ガラスを用いた場合図３，図４に示
すように非磁性基板７の部分を段差をつけることによ
り、媒体摺動時の焼き付けによる白化現象も回避でき
る。
すように非磁性基板７の部分を段差をつけることによ
り、媒体摺動時の焼き付けによる白化現象も回避でき
る。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明は非磁性基
板上に金属磁性膜を成膜した磁気ヘッドにおいて、熱膨
張係数が異なる非磁性基板を少なくとも２種類以上接合
し熱膨張係数が小さい非磁性基板側に金属磁性膜を成膜
したから熱履歴による金属磁性膜のはがれや、特性劣化
を低減できる。
板上に金属磁性膜を成膜した磁気ヘッドにおいて、熱膨
張係数が異なる非磁性基板を少なくとも２種類以上接合
し熱膨張係数が小さい非磁性基板側に金属磁性膜を成膜
したから熱履歴による金属磁性膜のはがれや、特性劣化
を低減できる。
【図１】 この発明の第１実施例の平行型薄膜積層磁気
ヘッドを説明するためのコアチップの斜視図である。
ヘッドを説明するためのコアチップの斜視図である。
【図２】 この発明の第１実施例の斜め薄膜積層磁気ヘ
ッドを説明するためのコアチップの斜視図である。
ッドを説明するためのコアチップの斜視図である。
【図３】 この発明の第２実施例の平行型薄膜積層磁気
ヘッドを説明するためのコアチップの斜視図である。
ヘッドを説明するためのコアチップの斜視図である。
【図４】 この発明の第２実施例の斜め薄膜積層磁気ヘ
ッドを説明するためのコアチップの斜視図である。
ッドを説明するためのコアチップの斜視図である。
【図５】 従来の平行型薄膜積層磁気ヘッドを説明する
ためのコアチップの斜視図である。
ためのコアチップの斜視図である。
【図６】 従来の斜め薄膜積層磁気ヘッドを説明するた
めのコアチップの斜視図である。
めのコアチップの斜視図である。
１ 金属磁性膜 ２ 金属磁性膜より小さい熱膨張係数を有する非磁性基
板 ３ 金属磁性膜に近い熱膨張係数を有する非磁性基板 ４ 低融点ガラス ５ 磁気ギャップ ６ 高融点ガラス ７ 金属磁性膜に近い熱膨張係数を有する結晶化ガラス ８ 非磁性基板
板 ３ 金属磁性膜に近い熱膨張係数を有する非磁性基板 ４ 低融点ガラス ５ 磁気ギャップ ６ 高融点ガラス ７ 金属磁性膜に近い熱膨張係数を有する結晶化ガラス ８ 非磁性基板
Claims (2)
- 【請求項１】熱膨張係数が異なる少なくとも２種類以上
の非磁性基板を接合し、熱膨張係数が小さい方の非磁性
基板に金属磁性膜を形成し磁気コアとしたことを特徴と
する磁気ヘッド。 - 【請求項２】結晶化ガラスと結晶化ガラスより熱膨張係
数が小さい非磁性基板上、金属磁性膜を形成し、磁気コ
アとしたことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26106092A JPH06111224A (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26106092A JPH06111224A (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06111224A true JPH06111224A (ja) | 1994-04-22 |
Family
ID=17356522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26106092A Pending JPH06111224A (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06111224A (ja) |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP26106092A patent/JPH06111224A/ja active Pending
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