JPS60140504A - 磁気ヘツドの作製法 - Google Patents
磁気ヘツドの作製法Info
- Publication number
- JPS60140504A JPS60140504A JP58245116A JP24511683A JPS60140504A JP S60140504 A JPS60140504 A JP S60140504A JP 58245116 A JP58245116 A JP 58245116A JP 24511683 A JP24511683 A JP 24511683A JP S60140504 A JPS60140504 A JP S60140504A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- gap
- substrate
- sides
- composite
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1272—Assembling or shaping of elements
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はＶＴＲ等に用いられる磁気ヘッドの作製法に関
するものである。
するものである。
（従来例の構成とその問題点）
従来より磁気ヘッドを作製する際には第１図に示したよ
うに左右のコアブロック２，２′をギャップ面３で合わ
せて治具１，１′により圧着し、温度を上げ巻き線溝４
の中に置かれたガラス４′により接合を行なっている。
うに左右のコアブロック２，２′をギャップ面３で合わ
せて治具１，１′により圧着し、温度を上げ巻き線溝４
の中に置かれたガラス４′により接合を行なっている。
この方式では、ヘッドコアブロックが一体ものの場合に
は問題はない。しかしながら第２図（ａ）に示したよう
にコアブロック−が一体ものではない場合には磁気ギャ
ップ精度が出ない欠点がある。図中に示したコアブロッ
クは２Ａ１２Ｂ、２Ｃの３体より成っており、中央の基
板２Ｂの両面には磁性−膜部５が蒸着もしくはスパッタ
ー法により形成されている。又中央の基板２Ｂｉ、別の
２枚の基板２Ａ 、２ＣによＱガラス等の接着剤６を用
いてサンドイッチされている。
は問題はない。しかしながら第２図（ａ）に示したよう
にコアブロック−が一体ものではない場合には磁気ギャ
ップ精度が出ない欠点がある。図中に示したコアブロッ
クは２Ａ１２Ｂ、２Ｃの３体より成っており、中央の基
板２Ｂの両面には磁性−膜部５が蒸着もしくはスパッタ
ー法により形成されている。又中央の基板２Ｂｉ、別の
２枚の基板２Ａ 、２ＣによＱガラス等の接着剤６を用
いてサンドイッチされている。
中央の基板の両面に磁性膜を形成しである理由は、基板
が磁性膜をつける事によりそり変形゛を生じても両面よ
りこの内部応力をバランスさせることにより基板の変形
量を小さくする他、温度を変化させた場合、基板と膜と
の熱膨張係数が少々異っていてもその際の基板変化をや
はり両面よりのバランスで小さくしようとするものであ
る。図中５で示した磁性膜部が磁気ヘッドのトラック部
となる訳であるが、このトラック部のガード用に他の２
枚の基板２Ａ、２Ｃを接着剤６にょｐ磁性膜部５に接合
した構造をとっている。このようなコアブロックを上述
の従来の方式にょクギャップ部の接合を行うと第２図（
ｂ）に示したようにコアブロックを構成している基板２
Ａ 、２Ｂ 、２Ｃが接合中に微妙に約０５μｍはど動
くため、磁気ギャップ部３及び３′の精度が出ない問題
を生ずる。この理由としては、どうしてもセツティング
の際に左右のトラック５，５′が正確に一致できないた
め、本来基板２Ｂと２Ｂ’、２Ａと２Ａ’ｐ２ｃと２
Ｃ’だけがギヤ、プ面３を介してそれぞれ治具により圧
着されるべきものが、第２図に示したように基板２Ａと
２Ｂ’、２Ｂと２ Ｃ’がギャップ面を介して互いに接
するため、温度を上げた時、接着部６がゆるみ、コアブ
ロックを構成している各部分が不規則に動き、ギャップ
部３，３′の精度が出なくなるからである。
が磁性膜をつける事によりそり変形゛を生じても両面よ
りこの内部応力をバランスさせることにより基板の変形
量を小さくする他、温度を変化させた場合、基板と膜と
の熱膨張係数が少々異っていてもその際の基板変化をや
はり両面よりのバランスで小さくしようとするものであ
る。図中５で示した磁性膜部が磁気ヘッドのトラック部
となる訳であるが、このトラック部のガード用に他の２
枚の基板２Ａ、２Ｃを接着剤６にょｐ磁性膜部５に接合
した構造をとっている。このようなコアブロックを上述
の従来の方式にょクギャップ部の接合を行うと第２図（
ｂ）に示したようにコアブロックを構成している基板２
Ａ 、２Ｂ 、２Ｃが接合中に微妙に約０５μｍはど動
くため、磁気ギャップ部３及び３′の精度が出ない問題
を生ずる。この理由としては、どうしてもセツティング
の際に左右のトラック５，５′が正確に一致できないた
め、本来基板２Ｂと２Ｂ’、２Ａと２Ａ’ｐ２ｃと２
Ｃ’だけがギヤ、プ面３を介してそれぞれ治具により圧
着されるべきものが、第２図に示したように基板２Ａと
２Ｂ’、２Ｂと２ Ｃ’がギャップ面を介して互いに接
するため、温度を上げた時、接着部６がゆるみ、コアブ
ロックを構成している各部分が不規則に動き、ギャップ
部３，３′の精度が出なくなるからである。
（発明の目的）
本発明の目的は上述のような複合体よりなるコアを用す
てもギャップ部の接合を精度よく行なう事を可能にする
ことである。
てもギャップ部の接合を精度よく行なう事を可能にする
ことである。
（発明の□構成）
−以下図面を用いて本発明の詳細な説明する。第３図（
ａ）は前述の複合体コアのうち、磁性膜を両−面に有す
る基板２Ｂ、２Ｂ’のみを治具１，１′によりギャップ
部３，３′の背面より押してギャップ形成を行なう方法
である。こうする番により他のガード用基板２ｐ、＋
２Ａ’＄ ２Ｃ、２ｃ’には力が加わらない為、第２図
（ｂ）に示したよう゛なギャップ精度の不良は少々くな
る事がわかった。ただ解決すべき問題として、中央基板
の両面に磁性層があるため、これをヘッドのトラック部
として基板２ Ｂ 、 ２ Ｂ’をはさんで上下２箇所
の磁気ギャッ；７６３Ｅ’３ 、３’が精度良くできる
必要があるが、どうしても第３図（、）の方法では力の
バランスが３及び３′の位置で必ずしも均等にはならな
い。これを改良するために行なったのが第３図（ｂ”ｌ
に示した方法で、磁性層を両面に有する基板２ Ｂ 、
２ Ｂ’のギャップ部となるべき切断研磨面の中央部
に逃げ溝９．９／を設け、これにより、治具１，１′で
基板２ Ｂ 、 ２ Ｂ’の背面よシカを加えて接合し
た場合、磁気ギャップ部３゜３′に均等な力が加わ９、
上・下２箇所のギャップが精度よくできる。このように
する事により２箇所のギャップ精度は更に向上する事が
わかった。
ａ）は前述の複合体コアのうち、磁性膜を両−面に有す
る基板２Ｂ、２Ｂ’のみを治具１，１′によりギャップ
部３，３′の背面より押してギャップ形成を行なう方法
である。こうする番により他のガード用基板２ｐ、＋
２Ａ’＄ ２Ｃ、２ｃ’には力が加わらない為、第２図
（ｂ）に示したよう゛なギャップ精度の不良は少々くな
る事がわかった。ただ解決すべき問題として、中央基板
の両面に磁性層があるため、これをヘッドのトラック部
として基板２ Ｂ 、 ２ Ｂ’をはさんで上下２箇所
の磁気ギャッ；７６３Ｅ’３ 、３’が精度良くできる
必要があるが、どうしても第３図（、）の方法では力の
バランスが３及び３′の位置で必ずしも均等にはならな
い。これを改良するために行なったのが第３図（ｂ”ｌ
に示した方法で、磁性層を両面に有する基板２ Ｂ 、
２ Ｂ’のギャップ部となるべき切断研磨面の中央部
に逃げ溝９．９／を設け、これにより、治具１，１′で
基板２ Ｂ 、 ２ Ｂ’の背面よシカを加えて接合し
た場合、磁気ギャップ部３゜３′に均等な力が加わ９、
上・下２箇所のギャップが精度よくできる。このように
する事により２箇所のギャップ精度は更に向上する事が
わかった。
しかしながらこの場合、治具１と基板２Ｂとの接する面
及び治具１′と基板２ Ｂ’との接する面の平面精度が
極めて良好でないと所望の精度のギャップが作製出来な
い事が実験によりわかった。こうするためには基板２
Ｂ 、 ２ Ｂ’及び治具Ｊ、１′の平面研磨に相当手
間がかかり、工程数が増加する。
及び治具１′と基板２ Ｂ’との接する面の平面精度が
極めて良好でないと所望の精度のギャップが作製出来な
い事が実験によりわかった。こうするためには基板２
Ｂ 、 ２ Ｂ’及び治具Ｊ、１′の平面研磨に相当手
間がかかり、工程数が増加する。
以上のような問題点を更に解決するのが第４図（ａ）に
示した方法である。この方式では１つの凸部７を有する
押し板１′と２箇所に凸部８，８′を有する押し板１を
用いてコアブロックの接合を行なう。
示した方法である。この方式では１つの凸部７を有する
押し板１′と２箇所に凸部８，８′を有する押し板１を
用いてコアブロックの接合を行なう。
ただしコアブロックの中央部、即ち両面に磁性膜が形成
されている基板２Ｂ、２Ｂ’のギャップ面の中央部には
逃げ溝９，９′が設けられており、凸部７は逃げ溝９，
９′の平均的中央部に向けて力が加わるような位置に、
又凸部８，８′は基板２Ｂ及び２ Ｂ／が接している２
箇所の部分に力が加わるような位置に配置してあり、他
のコア部２ Ａ 、 ２ Ａ’、及び２ Ｃ、２Ｃ’に
は力が加わらないように配慮しである。さてこのように
する事により同図（ｂ）に示したように例えばコア２
Ｂ’に加わる力は押し板−１′よりの力ｆ１、コア２Ｂ
よりの力ｆ２＋ｆ２’であり、モーメントはこれらのバ
ランスにより零になり、又ｆ２とｆ２′はほぼ等しい力
となって、２箇所の磁気ギャップ部３及び３′に均等の
力が加わるように配慮しである。なお磁性膜部５と基板
２Ｂは接着剤を使わず、スパッター法等により基板に付
着し一体化しているので温度を上げても離れて移動した
うはしない。又温度を上げた際接着部６がゆるんで基板
２Ａ＊２Ｃ等の板が動〆てもこれらにはなんら力が加え
られておらず、ギヤツノ部３及び３′の精度には伺んら
影響しない。このようにして±０．０１μｍ程度のギヤ
ラグ精度を有する複合体コアのギャップ接合が可能とな
った。
されている基板２Ｂ、２Ｂ’のギャップ面の中央部には
逃げ溝９，９′が設けられており、凸部７は逃げ溝９，
９′の平均的中央部に向けて力が加わるような位置に、
又凸部８，８′は基板２Ｂ及び２ Ｂ／が接している２
箇所の部分に力が加わるような位置に配置してあり、他
のコア部２ Ａ 、 ２ Ａ’、及び２ Ｃ、２Ｃ’に
は力が加わらないように配慮しである。さてこのように
する事により同図（ｂ）に示したように例えばコア２
Ｂ’に加わる力は押し板−１′よりの力ｆ１、コア２Ｂ
よりの力ｆ２＋ｆ２’であり、モーメントはこれらのバ
ランスにより零になり、又ｆ２とｆ２′はほぼ等しい力
となって、２箇所の磁気ギャップ部３及び３′に均等の
力が加わるように配慮しである。なお磁性膜部５と基板
２Ｂは接着剤を使わず、スパッター法等により基板に付
着し一体化しているので温度を上げても離れて移動した
うはしない。又温度を上げた際接着部６がゆるんで基板
２Ａ＊２Ｃ等の板が動〆てもこれらにはなんら力が加え
られておらず、ギヤツノ部３及び３′の精度には伺んら
影響しない。このようにして±０．０１μｍ程度のギヤ
ラグ精度を有する複合体コアのギャップ接合が可能とな
った。
（実施例の説明）
以下具体的に本発明の詳細な説明する。
実施例１
ガラス基板の両面に厚さ２０μｍのセンダスト合金をス
パッター法により形成し、同じガラス基板２枚でこれを
サンドイッチし、低融点ガラスで接着し複合コアブロッ
クとした。これを中央部より切断し面を研磨し、スノセ
ッターにより０．３１１ｒｎのＳ ｉＯ２膜を付けた後
第２図（ａ）、第３図（ａ） 、 （ｂ）の３種類の方
法を用いてギャップ形成を行なった。結果を以下に示す
。
パッター法により形成し、同じガラス基板２枚でこれを
サンドイッチし、低融点ガラスで接着し複合コアブロッ
クとした。これを中央部より切断し面を研磨し、スノセ
ッターにより０．３１１ｒｎのＳ ｉＯ２膜を付けた後
第２図（ａ）、第３図（ａ） 、 （ｂ）の３種類の方
法を用いてギャップ形成を行なった。結果を以下に示す
。
ただしマトリックスの各数字はギャップ長がその範囲に
あるヘッドの数を示す。以上の実験結果よυ本発明方式
が従来方式に比べて複合体ブロックコアを用いたギャッ
プ形成時に有効である事がわかる。なお第３図（ｂ）方
式の実験の際には１、中央部の基板背面と治具面の平面
度は±２００Ｘ 、かつそりも長さ２ｍｍに対し１ｏｏ
ｏＸ以下になるよう高精度研磨したものを用いた。この
精度をおとすと歩留りは低下し第２図（ａ）方式との差
異は小さくなる事がわかった。
あるヘッドの数を示す。以上の実験結果よυ本発明方式
が従来方式に比べて複合体ブロックコアを用いたギャッ
プ形成時に有効である事がわかる。なお第３図（ｂ）方
式の実験の際には１、中央部の基板背面と治具面の平面
度は±２００Ｘ 、かつそりも長さ２ｍｍに対し１ｏｏ
ｏＸ以下になるよう高精度研磨したものを用いた。この
精度をおとすと歩留りは低下し第２図（ａ）方式との差
異は小さくなる事がわかった。
実施例２
ガラス基板の両面に厚さ４５μｍの非晶質磁性合金ＣＯ
８６Ｆｅ ２Ｎｂ １２を蒸着法により形成し、同じガ
ラス板２枚でこれをサンドイッチし、低融点ガラスで接
着し複合コアブロックとした。これを中央部より切断し
、第４図（ａ）に示したような巻き線用溝４と逃げ溝９
を設けた。切断面は鏡面研磨を行なった後５ｉ０２をス
ノぐツタ−法にょシ形成し０３μｍの磁気ギャップスペ
ーサ−となるようにした。このようにして得られた複合
ブロックを前述の第４図に示した本発明方式のギャップ
形成法により接合を行なった。このブロックより第５図
（ａ）で一点鎖線で示したようにスライシングにより同
図（ｂ）のようなバーを切シ出し、更にこれを図中一点
鎖線デ示した位置よ多切断して同図（ｃ）に示したよう
なヘッドチップコアを得た。同図において３は磁気ギャ
ップ部、４は巻き線入４′、４“はギヤツブ部接着用低
融点ガラス、５は非晶質磁性合金膜、６は低融点ガラス
接着層である。得られた磁気ヘッドの磁気ギャップ精度
を調べるため、ヘッドのテープ摺動面を研磨仕上げし、
光学的手段によシギャップ長の測定を行なった。同図（
ｄ）はヘッドの前面よシ見たギャップ近傍の状態を示し
たもの゛である。
８６Ｆｅ ２Ｎｂ １２を蒸着法により形成し、同じガ
ラス板２枚でこれをサンドイッチし、低融点ガラスで接
着し複合コアブロックとした。これを中央部より切断し
、第４図（ａ）に示したような巻き線用溝４と逃げ溝９
を設けた。切断面は鏡面研磨を行なった後５ｉ０２をス
ノぐツタ−法にょシ形成し０３μｍの磁気ギャップスペ
ーサ−となるようにした。このようにして得られた複合
ブロックを前述の第４図に示した本発明方式のギャップ
形成法により接合を行なった。このブロックより第５図
（ａ）で一点鎖線で示したようにスライシングにより同
図（ｂ）のようなバーを切シ出し、更にこれを図中一点
鎖線デ示した位置よ多切断して同図（ｃ）に示したよう
なヘッドチップコアを得た。同図において３は磁気ギャ
ップ部、４は巻き線入４′、４“はギヤツブ部接着用低
融点ガラス、５は非晶質磁性合金膜、６は低融点ガラス
接着層である。得られた磁気ヘッドの磁気ギャップ精度
を調べるため、ヘッドのテープ摺動面を研磨仕上げし、
光学的手段によシギャップ長の測定を行なった。同図（
ｄ）はヘッドの前面よシ見たギャップ近傍の状態を示し
たもの゛である。
図中磁気ギヤツブ部３以外にガード用の基板２Ａがギャ
ップ形成時にわずかに動くため磁気ギャップ部３よりは
広めのすき間ぎ′がガード板間に生ずるが、ここには低
融点ガラス接着層６よりガラスが流れ込むため、テープ
かす等の目づまシが生ずる心配はない。第６図（、）は
第２図に示したような従来方式によりギャップ形成を行
なった場合、第６図（ｂ）は第４図に示したようか本発
明方式のギャップ形成を行なった場合の得られたヘッド
のギャップ長しの分布を示す。なおギャップスペーサ−
には両者とも０３μｍの５ｉ０２膜を用いた。従来方式
の歩留りが約３チであったのに対し、本発明方式によシ
それが９５係まで改良される事がわかった。
ップ形成時にわずかに動くため磁気ギャップ部３よりは
広めのすき間ぎ′がガード板間に生ずるが、ここには低
融点ガラス接着層６よりガラスが流れ込むため、テープ
かす等の目づまシが生ずる心配はない。第６図（、）は
第２図に示したような従来方式によりギャップ形成を行
なった場合、第６図（ｂ）は第４図に示したようか本発
明方式のギャップ形成を行なった場合の得られたヘッド
のギャップ長しの分布を示す。なおギャップスペーサ−
には両者とも０３μｍの５ｉ０２膜を用いた。従来方式
の歩留りが約３チであったのに対し、本発明方式によシ
それが９５係まで改良される事がわかった。
実施例３
ガラス基板の両面に厚さ３０μｍの非晶質合金Ｃｏ８４
Ｍｎ３Ｎｂ、。Ｚ ｒ ３をスｉＰツクー法によシ形成
した。
Ｍｎ３Ｎｂ、。Ｚ ｒ ３をスｉＰツクー法によシ形成
した。
又途中１０μｍごとに約１０００Ｘの５ｉ０２膜で層間
絶縁を行ない１０μｍの３層膜として周波数特性の改善
を行なった。これを実施例２と同様な方法で２枚の別の
ガラス板でサンドイッチした後中央部よ多切断し、切断
面中央に逃げ溝を設けた後鏡面研磨し両方のギャップ面
に５ｉ０２をｔｏｏｏＸ、低融点ガラスを５００ Ａ
％ス・ぐツタ−法によシ形成し再び切断研磨面を合わせ
本発明のギャップ形成法により接合を行なった。このと
き巻き線溝に低融点ガラスを入れなくてもギャップ形成
が可能である事がわかった。得られたヘッドのギャップ
長の分布は０．２８μｍ±０．０２μｍであった。
絶縁を行ない１０μｍの３層膜として周波数特性の改善
を行なった。これを実施例２と同様な方法で２枚の別の
ガラス板でサンドイッチした後中央部よ多切断し、切断
面中央に逃げ溝を設けた後鏡面研磨し両方のギャップ面
に５ｉ０２をｔｏｏｏＸ、低融点ガラスを５００ Ａ
％ス・ぐツタ−法によシ形成し再び切断研磨面を合わせ
本発明のギャップ形成法により接合を行なった。このと
き巻き線溝に低融点ガラスを入れなくてもギャップ形成
が可能である事がわかった。得られたヘッドのギャップ
長の分布は０．２８μｍ±０．０２μｍであった。
（発明の効果）
以上のように本発明の磁気ヘッド作製法は、従来法では
不可能に近かった接着剤によシ接着さ−れた複合体コア
のギャップ形成を歩留シよくかつ高精度に行う事を可能
にするものである。
不可能に近かった接着剤によシ接着さ−れた複合体コア
のギャップ形成を歩留シよくかつ高精度に行う事を可能
にするものである。
第１図は従来法による単体へラドコアを用いたギャップ
形成法を示す図、第２図は従来法による複合体ヘッドコ
アを用いたギャップ形成法を示す図、第３図、第４図は
本発明方式の複合体へラドコアを用いたギャップ形成法
を示す図、第５図は複合体へラドコアを用いた磁気ヘッ
ドσ作製例を示す図、第６図は従来方式と本発明方式と
によって得られた磁気ヘッドのギャップ長の分布を示す
図である。 １．１′・・・治具、２Ａ、２Ｂ、２Ｃｔ２Ａ’、２Ｂ
’、２Ｃ’・・・基板、３，３′・・・ギャップ部、４
・・・巻き線溝、５・・・磁性膜部、７ 、８ 、８’
・・・凸部、９，９′・・・逃げ溝第１図 第２図 （ａ） ↓ （ｂ） 第３図 （ｂ） 第４図 （ａ） （ｂ） 第５図 （ａ） ’（ｂ） （（。） （ｄ）
形成法を示す図、第２図は従来法による複合体ヘッドコ
アを用いたギャップ形成法を示す図、第３図、第４図は
本発明方式の複合体へラドコアを用いたギャップ形成法
を示す図、第５図は複合体へラドコアを用いた磁気ヘッ
ドσ作製例を示す図、第６図は従来方式と本発明方式と
によって得られた磁気ヘッドのギャップ長の分布を示す
図である。 １．１′・・・治具、２Ａ、２Ｂ、２Ｃｔ２Ａ’、２Ｂ
’、２Ｃ’・・・基板、３，３′・・・ギャップ部、４
・・・巻き線溝、５・・・磁性膜部、７ 、８ 、８’
・・・凸部、９，９′・・・逃げ溝第１図 第２図 （ａ） ↓ （ｂ） 第３図 （ｂ） 第４図 （ａ） （ｂ） 第５図 （ａ） ’（ｂ） （（。） （ｄ）
Claims (4)
- （１）基板の両面に磁性膜をス・ぐツタ−法もしくは蒸
着法により形成し、この両面に磁性膜を形成した基板を
更に別の２枚の基板によりサンドイッチするように接着
して複合体を形成し、この複合体を前記磁性面に垂直に
切断して巻き線用の溝入れ加工を行ない、切断面を研磨
し、切断面上に磁気ギヤツブ用ス被−サーを形成し、こ
の面を再び圧着接合して磁気ギャップとなす磁気へ゛ラ
ドの作製工程において、前記圧着接合の際、治具により
複合体のうち磁性膜を両面に有する基板のみにギャップ
面の背面より圧力を加えて接合することを特徴とする磁
気ヘッドの作製法。 - （２） 前記複合体の切断研磨面のうち磁性膜を両面に
有する基板の中央部に逃げ溝を入れて接合を行なうこと
を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の磁気ヘッ
ドの作製法。 - （３） 前記圧着治具による圧着は、前記逃げ溝の中央
方向に力が加わるような凸部を一箇所有する一方の押し
板と、磁性膜を両面に有する前記基板の逃げ溝をはさん
だ両切断研磨面に力が加わるような凸部を三箇所に有す
る他方の押し板を用いて接合を行なうことを特徴とする
請求の範囲第（２）項記載の磁気ヘッドの作製法。 - （４）前記磁性膜が非晶質合金であり、かつギャップ面
接合と前記複合体形成の際に低融点ガラスを用いること
を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の磁気ヘッ
ド作製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58245116A JPS60140504A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 磁気ヘツドの作製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58245116A JPS60140504A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 磁気ヘツドの作製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60140504A true JPS60140504A (ja) | 1985-07-25 |
Family
ID=17128855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58245116A Pending JPS60140504A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 磁気ヘツドの作製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60140504A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63279407A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッドのギャップ形成方法 |
| KR100352521B1 (ko) * | 1999-02-01 | 2002-09-12 | 가부시키가이샤 오히로 세이사쿠쇼 | 세발용 방수 시트, 및 그것을 사용하는 자동세발기 |
-
1983
- 1983-12-28 JP JP58245116A patent/JPS60140504A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63279407A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッドのギャップ形成方法 |
| KR100352521B1 (ko) * | 1999-02-01 | 2002-09-12 | 가부시키가이샤 오히로 세이사쿠쇼 | 세발용 방수 시트, 및 그것을 사용하는 자동세발기 |
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