JPH0546912A

JPH0546912A - 磁気ヘツドの製造方法

Info

Publication number: JPH0546912A
Application number: JP20190191A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Kijima; 健木島
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1991-08-12
Filing date: 1991-08-12
Publication date: 1993-02-26

Abstract

(57)【要約】【構成】磁気ヘッドの製造方法であって、軟磁性薄膜
３が形成され、低融点ガラス２が充填された一対の基板
１・１を、基板１の背面の平面研削を行う前にガラス溶
着してコアブロック５を作製し、その後に、コアブロッ
ク５の側面５ａ・５ｂを平面研削することにより摺動面
の長さを規定する。【効果】各基板１．１は相互に溶着接合されるまでの
間、従来よりも厚さ寸法が大きい状態が維持されるた
め、基板１と軟磁性薄膜３の熱膨張の差及び軟磁性薄膜
３の成膜時に発生する内部応力等に起因する変形を生じ
にくくなる。このため、基板１・１の接合時における軟
磁性薄膜３の間隔のずれが低減され、歩留りが向上す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録再生を行う
ために必要な高い飽和磁束密度を有する磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化に伴い、磁気
テープ等の磁気記録媒体として、メタルテープ等の高保
磁力媒体が用いられる一方、磁気ヘッドも、例えばセン
ダスト合金等の高飽和磁束密度及び軟磁気特性に優れた
金属磁性材料からなるコア材料が用いられるようになっ
てきている。

【０００３】このようなコア材料を用いて耐磨耗性や量
産性を向上させた磁気ヘッドの一例について、本発明の
説明図である図２ないし図４、および図９を参照して説
明すると、例えば図９に示すように、図において左右に
位置する一対の感光性結晶化ガラス等から成る基板１・
１を互いに接合して磁気ヘッドチップ９が構成され、両
基板１・１の相対向面のＶ溝加工面に、例えばセンダス
ト合金等からなる軟磁性薄膜３・３がそれぞれ形成され
ている。これら軟磁性薄膜３・３を突き合わせた状態
で、両基板１・１が上記Ｖ溝に充填された低融点ガラス
２にて接合されている。

【０００４】上記磁気ヘッドチップ９は、以下のような
工程を経て作製される。まず、図２に示すように、基板
１の表面に、所定のピッチＡで断面略Ｖ字状の溝１１…
が形成され、次いで、図３に示すように、各溝１１…の
一方の傾斜面１１ａ…に、所定の膜厚で軟磁性薄膜３…
が真空蒸着、或いはスパッタリングによりそれぞれ形成
される。次に、図４に示すように、軟磁性薄膜３…が形
成された基板１の上に低融点ガラス２が充填される。

【０００５】そして、従来は、上記工程後、図１１に示
すように、低融点ガラス２の表面を平面状に研削して溝
底部を見易くし、その後この上面側の研削面２ａを基準
面として、所定の厚さ寸法Ｂとなるように基板１の下面
１ａの研削が行われる。なお、この研削によって、例え
ば厚さ２ｍｍの基板１が約1.４ｍｍ程度となる。その
後、この下面側の研削面１ｂを基準面として上面側の研
削を再度行って、最終的に軟磁性薄膜３…が表出すると
共に厚さ寸法が所定の寸法Ｃとなるように研削加工が繰
り返され、これにより、図１２のように上面側研削面に
トラック部７が形成される。

【０００６】上記研削加工の後、さらに、コイル巻線溝
６及びコイル巻線窓８が形成されて片側コアブロック４
が作製される。

【０００７】その後は、一対の上記片側コアブロック４
・４を、図１３に示すように、各軟磁性薄膜３・３が直
線状に連なるように突き合わせた状態として、溶着治具
１０を用いて挟圧し、これを電気炉を用いて溶着してコ
アブロック５が作製される。

【０００８】次いで、図１４に示すように、所定のピッ
チＡで切断することにより、前記した図９に示す磁気ヘ
ッドチップ９が作製される。この場合、この磁気ヘッド
チップ９におけるテープ摺動面（図において上端面）
は、前記図１１を参照して説明した研削加工工程で仕上
げられた各片側コアブロック４の厚さ寸法Ｃの２倍の長
さ寸法と成る。すなわち、摺動面の長さが所定の寸法と
なるように、上記研削加工工程での仕上げ寸法Ｃの設定
が行われている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の製造方法においては、一対の基板１・１を、各
軟磁性薄膜３・３が直線状に連なるように突き合わせる
際に、軟磁性薄膜３・３の間隔にずれを生じて充分な歩
留りが得られないという問題を生じている。つまり、上
記方法においては、各基板１・１に対する前記研削加工
工程で、最終的な摺動面の長さ寸法に合わせた厚さ寸法
まで薄く加工されるために、軟磁性薄膜３の成膜時にお
ける内部応力や、基板１と軟磁性薄膜３との熱膨張の差
による内部応力等によって、上記のように薄く加工され
た基板１に反りを生じ易い。図１５に、上記のように研
削加工された基板１の反りの測定結果の一例を示してお
り、図のように、例えば2.５ｃｍに対して５μｍ程度の
反りを生じるものとなっている。このため、図１６に示
すように、基板１の下面側の研削を行って薄くなった時
点で、上記のような内部応力により反りが生じ、そし
て、このような基板１の背面Ｇを基準面として、低融点
ガラス２側の表面を最終的にギャップ面として平面状に
研磨する際に、図のように、ギャップ面Ｈが、Ｈ_{1 ,}Ｈ
₂…とばらつくことになる。この結果、図１４に示すよ
うに、一対の片側コアブロック４・４同士を溶着させて
コアブロック５を作製する時に、軟磁性薄膜３が表出し
て与えられるトラック部７のピッチが一致しなくなる。
このため、歩留りが低下するという問題を生じているの
である。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ヘッド
の製造方法は、上記課題を解決するために、磁気テープ
が摺動する摺動面の長さを設定寸法とするために厚さを
減ずる研削加工が行われる一対の基板を、これら基板に
各々形成されている磁性材料層を互いに突き合わせた状
態で相互に接合してなる磁気ヘッドの製造方法におい
て、一対の基板を相互に接合した後、摺動面を挟んで両
側の面に対してこの摺動面の長さを上記設定寸法とする
ための研削加工を行うことを特徴としている。

【００１１】

【作用】上記製造方法によれば、一対の基板が相互に接
合された後に、磁気テープの摺動面の基準長さ寸法に合
わせた研削加工が行われるので、各基板の厚さは、相互
に接合されるまでの間、上記研削加工時における研削代
の分、従来よりも厚さの厚い状態で保持されることとな
る。したがって、例えば、基板と磁性材料層との熱膨張
差等に起因する内部応力に対しての変形を生じにくくな
る。この結果、従来生じていた基板の反り量が低減され
て、基板同士を突き合わせる際の磁性材料層のずれも小
さくなるので、製造歩留りの向上を図ることが可能とな
る。

【００１２】

【実施例】本発明の一実施例について図１ないし図１１
に基づいて説明すれば、以下の通りである。

【００１３】図９に、本実施例を適用して作製された磁
気ヘッドチップ９が示されており、この磁気ヘッドチッ
プ９は、図において左右に位置する一対の基板１・１を
互いに接合することによって構成されている。両基板１
・１の相対向面には、後述するＶ溝加工面に軟磁性薄膜
３・３がそれぞれ形成されており、これら軟磁性薄膜３
・３が中央のギャップを挟んで直線状に連なるように互
いに突き合わせた状態で、両基板１・１が上記Ｖ溝に充
填された低融点ガラス２にて接合されている。

【００１４】上記構成の磁気ヘッドチップ９の製造工程
を順を追って説明する。

【００１５】まず、図２に示すように、例えば感光性結
晶化ガラス等からなる略直方体形状の基板１の上面に、
所定の深さを有する断面略Ｖ字状の複数の溝１１…が、
最終的な磁気ヘッドの厚さ、及び切り代等を考慮したピ
ッチＡにて相互に隣接して互いに平行に延びる形状で形
成される。上記基板１は耐摩耗性に優れる反面、脆く難
加工性の材料からなるため、上記溝１１…の形成は、基
板１の下面を基準面として、例えばダイシングによるＶ
溝加工によって行われる。

【００１６】続いて、図３に示すように、上記各溝１１
…の一方の傾斜面１１ａ…に真空蒸着法、或いはスパッ
タリング法等の薄膜形成方法により、例えばセンダスト
合金等からなる軟磁性薄膜（磁性材料層）３…が磁気ヘ
ッドのトラック幅に略相当する所定の膜厚となるように
形成される。

【００１７】次に、図４に示すように、各溝１１…を表
面から埋めるように低融点ガラス２が充填され、その
後、図５に示すように、低融点ガラス２の表面を、基板
１の下面からの高さ寸法がＢ’になるまで平面状に研削
して、各溝の底部側を見易くした後、さらに、基板１に
おける各溝１１…間の頂点位置をやや超えるまで、つま
り、軟磁性薄膜３…が表出する所定の寸法Ｃ’まで、低
融点ガラス２の表面を平面状に研磨し、図６に示すよう
に、研磨面上に軟磁性薄膜の端面が表出して平行に延び
るトラック部７…として形成される。

【００１８】その後、上記研磨面に凹入溝形状のコイル
巻線用窓８が形成され、さらに、Ｓ_iＯ₂膜等から成る
非磁性ギャップ材（図示せず）が設けられて、片側コア
ブロック４として作製される。

【００１９】次いで、一対の上記片側コアブロック４・
４を、図７に示すように、各トラック部７・７同士を相
互に当接させて、溶着治具１０における断面コ字状載置
台１２上に載置する。そして、締め付けねじ１６を操作
して、固定側押さえ駒１３と可動側押さえ駒１４との間
に上記一対の片側コアブロック４・４を挟持すると共
に、さらにねじ１６の締め付けによって、板ばね１５を
介して所定の押圧力で挟圧する。そして、これを電気炉
にて加熱することにより、上記一対の片側コアブロック
４・４が前記低融点ガラス２にて溶着され、一体化され
る。これにより、図１に示すように、略直方体形状のコ
アブロック５が作製される。

【００２０】上記のように一対の片側コアブロック４・
４を相互に接合してコアブロック５を作製した後、後述
する磁気テープの摺動面の長さ寸法を所定の寸法とする
ための加工を行う。すなわち、図１に示すように、中央
の接合面を挟んで左右両側の各側面を研削するが、これ
は、一方の側面５ａを基準面として、他方の側面５ｂを
５ｂ’の位置まで研削し、さらに、この研削面５ｂ’を
基準として、一方の側面５ａを５ａ’の位置まで研削す
ることにより、最終的な基板の厚さＢ″を得る。

【００２１】その後、図８に示すように、コアブロック
５の両側面５ａ’・５ｂ’に各々長手方向に延びるコイ
ル巻線溝６を形成し、次いで、ピッチ寸法Ａで切断し
て、図９に示す前記の磁気ヘッドチップ９が作製され
る。この後、この磁気ヘッドチップ９のコイル巻線溝６
・８に図示しない巻線がほどこされ、図において上端面
のテープ摺動面の研磨が行われた後、ベース板への固定
が行われて、磁気ヘッドとして完成される。

【００２２】以上の説明のように、本実施例における磁
気ヘッドの製造方法においては、それぞれ片面に軟磁性
薄膜３・３の形成された一対の基板１・１を、上記軟磁
性薄膜３・３の形成面側を相互に対面させてガラス溶着
することによって、一体化されたコアブロック５として
作製し、その後、摺動面の長さを規定するための研削加
工が、上記コアブロック５の両側面に対して行われる。
このため、上記研削加工を完了するまで、各基板１はよ
り大きな厚さ寸法で維持されることから、軟磁性薄膜３
の成膜時に発生する内部応力や、基板１と軟磁性材料膜
３の熱膨張率の違いにより発生する内部応力に起因して
生じる各基板１の変形が低減される。図１０は、ガラス
溶着前の片側コアブロック４の反りを測定した結果の一
例であり、殆ど反りを生じていない。したがって、一対
の片側コアブロック４・４における各軟磁性薄膜３・３
に間隔のずれを殆ど生じさせずに両片側コアブロック４
・４を相互に対面させた状態で作製することができるの
で、歩留りが向上する。

【００２３】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、以上
のように、一対の基板を相互に接合した後、摺動面を挟
んで両側の面に対してこの摺動面の長さを上記設定寸法
とするための研削加工を行うものである。

【００２４】これにより、各基板の厚さは、相互に接合
されるまでの間、その後に行われる研削加工時における
研削代の分、従来よりも厚さの厚い状態で保持される。
したがって、例えば、基板と磁性材料層との熱膨張差等
に起因する内部応力に対しての変形を生じにくくなる。
この結果、従来生じていた基板の反り量が低減されて、
基板同士を突き合わせる際の磁性材料層のずれも小さく
なるので、製造歩留りの向上を図ることができるという
効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法を適用して磁気ヘッドを作製
する過程でのコアブロックの研削加工領域を示す斜視図
である。

【図２】上記磁気ヘッドを構成する基板への溝の形成工
程を示す要部断面図である。

【図３】上記溝壁面に軟磁性薄膜が形成された基板の要
部断面図である。

【図４】上記軟磁性薄膜が形成された溝に低融点ガラス
を充填した基板の要部断面図である。

【図５】上記低融点ガラス表面が平面状に研磨された基
板の要部断面図である。

【図６】上記基板にコイル巻線窓を形成して得られる片
側コアブロックの斜視図である。

【図７】一対の上記片側コアブロックを溶着治具を用い
て挟圧している状態を示す斜視図である。

【図８】図１に示す研削加工後に、コイル巻線溝が形成
されたコアブロックの斜視図である。

【図９】上記コアブロックを所定のピッチで切断するこ
とにより得られる磁気ヘッドチップの斜視図である。

【図１０】上記片側コアブロックの基板の反りの測定結
果の一例を示すグラフである。

【図１１】従来の磁気ヘッドの製造方法により磁気ヘッ
ドを作製する過程での基板の研削加工領域を示す要部断
面図である。

【図１２】上記従来の基板にコイル巻線窓を形成して得
られる片側コアブロックの斜視図である。

【図１３】一対の上記従来の片側コアブロックを溶着治
具を用いて挟圧している状態を示す斜視図である。

【図１４】上記従来の一対の片側コアブロックを溶着し
て得られるコアブロックの斜視図である。

【図１５】従来の製造方法に基づいて作製された片側コ
アブロックの基板の反りの測定結果の一例を示すグラフ
である。

【図１６】反りを生じた従来の片側コアブロックの要部
断面図である。

【符号の説明】

１基板２低融点ガラス３軟磁性薄膜（磁性材料層）５コアブロック

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気テープが摺動する摺動面の長さを設定
寸法とするために厚さを減ずる研削加工が行われる一対
の基板を、これら基板に各々形成されている磁性材料層
を互いに突き合わせた状態で相互に接合してなる磁気ヘ
ッドの製造方法において、一対の基板を相互に接合した後、摺動面を挟んで両側の
面に対してこの摺動面の長さを上記設定寸法とするため
の研削加工を行うことを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。