JPS60173714A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60173714A JPS60173714A JP2827784A JP2827784A JPS60173714A JP S60173714 A JPS60173714 A JP S60173714A JP 2827784 A JP2827784 A JP 2827784A JP 2827784 A JP2827784 A JP 2827784A JP S60173714 A JPS60173714 A JP S60173714A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- block
- thin film
- gap
- magnetic
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発す１は高保磁力記録媒体に対し、すぐれた性能を発
揮する狭トラツク磁気ヘッドを精度よく容易に作製でき
る製造方法に関するものである。
揮する狭トラツク磁気ヘッドを精度よく容易に作製でき
る製造方法に関するものである。
［背景技術］
近時、磁気記録の高密度が進むにつれ、高い保磁力をも
つ磁気記録媒体の開発が盛んに行なわれており、これに
対応して飽和磁束密度の大きいセンダスト、非晶質磁性
合金などの金ａｍ性材料を用いた狭トラツク磁気ヘッド
が提案されている。
つ磁気記録媒体の開発が盛んに行なわれており、これに
対応して飽和磁束密度の大きいセンダスト、非晶質磁性
合金などの金ａｍ性材料を用いた狭トラツク磁気ヘッド
が提案されている。
従来この種の磁気ヘッドは、例えば第１図（ａ）に示す
ように、高速急冷法などで作られた金属磁性薄膜１．１
’と、非磁性体２．２′を接着して一対のヘッドブロッ
ク半休３．３′を作製し、金属薄板１．１’の作動ギャ
ップを形成する端縁の厚みがトラックＩＩＪとなるよう
に調整する切ｆＪ４．４’を設けて、その中に補強用ガ
ラスを充填し、ギャップ形成面５．５°を研摩した後、
同図（ｂ）に示すように非磁性膜を介して金Ｉｆ＆膜板
が対向するように２つのヘッドブロック半休３．３°を
突合わせて接合し、点線部分で切断して多数のへラドチ
ップを得る方法が知られている。
ように、高速急冷法などで作られた金属磁性薄膜１．１
’と、非磁性体２．２′を接着して一対のヘッドブロッ
ク半休３．３′を作製し、金属薄板１．１’の作動ギャ
ップを形成する端縁の厚みがトラックＩＩＪとなるよう
に調整する切ｆＪ４．４’を設けて、その中に補強用ガ
ラスを充填し、ギャップ形成面５．５°を研摩した後、
同図（ｂ）に示すように非磁性膜を介して金Ｉｆ＆膜板
が対向するように２つのヘッドブロック半休３．３°を
突合わせて接合し、点線部分で切断して多数のへラドチ
ップを得る方法が知られている。
この方法では、金属磁性膜板として例えば、高速急冷法
で作られた非晶質合金膜帯などが用いられるが、この他
に非磁性基板上に、スパッタなどにより形成された非晶
質合金などの金属性薄膜を用いて、上記と同様にヘッド
を製造する方法も考えられている。
で作られた非晶質合金膜帯などが用いられるが、この他
に非磁性基板上に、スパッタなどにより形成された非晶
質合金などの金属性薄膜を用いて、上記と同様にヘッド
を製造する方法も考えられている。
しかし、従来の方法ではトラック巾を規制する切溝加工
精度に限界がある上に、金属磁性薄体と非磁性体間の接
着層の厚みのばらつきにより、多数の金属薄体を同時に
高精庶に突合わせることは困難であり、狭トラツクにな
るほど突合わせ精度が低下し、歩留りょく狭トラツクヘ
ッドを製造することはむずかしかった。また従来の一対
のコアブロック半休を突合わせて接合する方法では、ど
うしてもパックギャップが形成されて磁気抵抗が大きく
なり、ヘッド効率が低下するという欠点も有していた・
［発明の開示］ 本発明は上記の欠点を改善したもので、非磁性体よりな
るブロックの一つ稜部に複数の第１４ＪＪ溝を、該第１
切溝間に形成される突起部の先端の巾がトラック巾より
小さくなるように形成し、また 該第１切溝と直交する
ｔｎ２切溝を設けた後、薄膜形成技術を用いて上記ブロ
ックの上記ｔｆＳｌおよび 第２切溝側の面の全域に高
飽和磁束密度の金属性薄膜を形成する工程と、上記ｔＢ
２切溝を非磁性体で遮蔽して上記ｉ１および 第２切溝
に非磁性体を充填した後、上記ｆｆｌｌｖＪｎ間に形成
された突起部の先端に被着した金属磁性薄膜の巾がトラ
ック１１】になるように′ＮＦｊ９Ｉシて ギャップ形
成面を形成する工程と、薄膜形成技術を用いて上記ギャ
ップ形成面上に非磁性層を介して 該ギャップ形成面と
同じトラック巾をもつ高飽和磁束密度の金属磁性薄膜を
形成すると同時に、上記第１切溝に充填した非磁性体を
除＜ｉ域に 該金属磁性薄体を形成した後、接着層を介
して非磁性体よりなるブロックを接合する工程と、この
ようにして得られたヘッドブロックを切断して ＃ｌ数
のへラドチップを得る工程を有することを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法に関するものである。
精度に限界がある上に、金属磁性薄体と非磁性体間の接
着層の厚みのばらつきにより、多数の金属薄体を同時に
高精庶に突合わせることは困難であり、狭トラツクにな
るほど突合わせ精度が低下し、歩留りょく狭トラツクヘ
ッドを製造することはむずかしかった。また従来の一対
のコアブロック半休を突合わせて接合する方法では、ど
うしてもパックギャップが形成されて磁気抵抗が大きく
なり、ヘッド効率が低下するという欠点も有していた・
［発明の開示］ 本発明は上記の欠点を改善したもので、非磁性体よりな
るブロックの一つ稜部に複数の第１４ＪＪ溝を、該第１
切溝間に形成される突起部の先端の巾がトラック巾より
小さくなるように形成し、また 該第１切溝と直交する
ｔｎ２切溝を設けた後、薄膜形成技術を用いて上記ブロ
ックの上記ｔｆＳｌおよび 第２切溝側の面の全域に高
飽和磁束密度の金属性薄膜を形成する工程と、上記ｔＢ
２切溝を非磁性体で遮蔽して上記ｉ１および 第２切溝
に非磁性体を充填した後、上記ｆｆｌｌｖＪｎ間に形成
された突起部の先端に被着した金属磁性薄膜の巾がトラ
ック１１】になるように′ＮＦｊ９Ｉシて ギャップ形
成面を形成する工程と、薄膜形成技術を用いて上記ギャ
ップ形成面上に非磁性層を介して 該ギャップ形成面と
同じトラック巾をもつ高飽和磁束密度の金属磁性薄膜を
形成すると同時に、上記第１切溝に充填した非磁性体を
除＜ｉ域に 該金属磁性薄体を形成した後、接着層を介
して非磁性体よりなるブロックを接合する工程と、この
ようにして得られたヘッドブロックを切断して ＃ｌ数
のへラドチップを得る工程を有することを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法に関するものである。
以下、本発明の実施例につき説明する。ｊｌＳ２図（ａ
）〜（１）は本発明の製造方法の一実施例における各工
程の説明図である。先ず、直方体状の非磁性体よりなる
ブロック６の一つの綾部に外周スライサーなどの機械加
工により複数の切溝７を設ける （同図（ａ））。これ
らの切ｖＲ７は溝間に形成される突起部８の先端のＩＩ
］Ｗｏが、トラックＩｌｊより小さくなるように加工さ
れる。突起部８を同図（ａ）の入方向から見ると（ｂ）
のようになる、この実施例では、突起部の形状をその先
端部が等厚で以下末広がりになるように形成したが、他
の実施例として（Ｃ）のように突起部の先端が尖った形
になっていてもよい、要は、突起部の先端のＩＩ３がト
ラック１１より小さくなるような形状であればよく、（
ｂ） 、 （ｃ）のような形状に限定されない。
）〜（１）は本発明の製造方法の一実施例における各工
程の説明図である。先ず、直方体状の非磁性体よりなる
ブロック６の一つの綾部に外周スライサーなどの機械加
工により複数の切溝７を設ける （同図（ａ））。これ
らの切ｖＲ７は溝間に形成される突起部８の先端のＩＩ
］Ｗｏが、トラックＩｌｊより小さくなるように加工さ
れる。突起部８を同図（ａ）の入方向から見ると（ｂ）
のようになる、この実施例では、突起部の形状をその先
端部が等厚で以下末広がりになるように形成したが、他
の実施例として（Ｃ）のように突起部の先端が尖った形
になっていてもよい、要は、突起部の先端のＩＩ３がト
ラック１１より小さくなるような形状であればよく、（
ｂ） 、 （ｃ）のような形状に限定されない。
次いで、第２図（ｄ）に示すように切溝７に直交する第
２の切溝９をブロック６の両端面に貫通するように設け
ｆ−後スパッタ等のｐＪＩＩＫ形成技術を用いて、ブロ
ック６の切？ｌｌ！７ 。
２の切溝９をブロック６の両端面に貫通するように設け
ｆ−後スパッタ等のｐＪＩＩＫ形成技術を用いて、ブロ
ック６の切？ｌｌ！７ 。
９側の全面に非晶質磁性合金などの金属薄膜ｌＯを被着
する。この金ＪｒＩＩＩＩ膜１０は、（ｅ）、（ｆ）
Ｋ示すように、ブｏ ＋７り６の平面部だけでなく、切
溝７，９の壁面にも及ぶ全域にわたって形成する必要が
ある。尚、同図Ｃｆ”）は（ｄ）のＢ方向からみた側面
図である０次に（ｇ） 、 （ｈ）に示すように、切溝
９に中空パイプ１１をはめ込む。
する。この金ＪｒＩＩＩＩ膜１０は、（ｅ）、（ｆ）
Ｋ示すように、ブｏ ＋７り６の平面部だけでなく、切
溝７，９の壁面にも及ぶ全域にわたって形成する必要が
ある。尚、同図Ｃｆ”）は（ｄ）のＢ方向からみた側面
図である０次に（ｇ） 、 （ｈ）に示すように、切溝
９に中空パイプ１１をはめ込む。
該パイプ１１は、′ガラスなどの非磁性体よりなり１巻
線用窓としての役割をもつので中空部が巻線をしやすい
形状であれば、丸型、角型など適当な形状を選んでよい
。
線用窓としての役割をもつので中空部が巻線をしやすい
形状であれば、丸型、角型など適当な形状を選んでよい
。
また、中空パイプ１１の大きさは切溝９の中に埋め込め
るような外径にする必要がある。続いて、（ｉ） 、
（ｊ）および（ｋ）、’（１）に示すように切＠７．９
にガラス１２を充填した後、平面研摩して突起部８の先
端に被着した金属薄１！ｌＯの作動ギャップ形成面１３
を露出させその巾が丁度トラック巾Ｗｔになるように研
摩を調整する。ガラスを充填する際、ブロック６の後部
平面上に被着した後部金Ｂ薄膜１４の上にガラスがはみ
出た場合は、ギャップ形成面１３と後部金属ｒ１膜１４
が、同一平面をなすように研摩し露出させる必要がある
。この実施例１は、突起部８の形状を第２図（ｂ）のよ
うに、その先端部が等厚になるように形成したので。
るような外径にする必要がある。続いて、（ｉ） 、
（ｊ）および（ｋ）、’（１）に示すように切＠７．９
にガラス１２を充填した後、平面研摩して突起部８の先
端に被着した金属薄１！ｌＯの作動ギャップ形成面１３
を露出させその巾が丁度トラック巾Ｗｔになるように研
摩を調整する。ガラスを充填する際、ブロック６の後部
平面上に被着した後部金Ｂ薄膜１４の上にガラスがはみ
出た場合は、ギャップ形成面１３と後部金属ｒ１膜１４
が、同一平面をなすように研摩し露出させる必要がある
。この実施例１は、突起部８の形状を第２図（ｂ）のよ
うに、その先端部が等厚になるように形成したので。
金！Ａ薄膜ｌＯのスパッタ工程で、該先端部の側面に付
着した ＰＪＩｌｉｌの厚さの２倍に先端部の厚さを加
えた巾がトラック巾Ｗｔになるように スパッタ膜厚を
調節すれば、その後の研摩工程でトラック巾を調整する
必要はなくなる。
着した ＰＪＩｌｉｌの厚さの２倍に先端部の厚さを加
えた巾がトラック巾Ｗｔになるように スパッタ膜厚を
調節すれば、その後の研摩工程でトラック巾を調整する
必要はなくなる。
他の実施例として示した同図＜Ｃ＞のような突起部を設
けた場合には、トラック巾を決めるのは（ｋ）、（１）
の研摩工程なので、研摩の深さを精密に規制する必要が
ある。
けた場合には、トラック巾を決めるのは（ｋ）、（１）
の研摩工程なので、研摩の深さを精密に規制する必要が
ある。
次に第２図（１１） 、 （Ｉ＋）に示すように金属薄
膜１０の作動ギャップ形成面１３の上にＳｉ口などのギ
ャップ材１５をスパッタなどで形成する。この際、ギャ
ップ材１５が後部薄膜面１４上におよばないようにする
。この後、同図（ｏ） 、 （ｐ）に示すようにギャッ
プ形成面１３上にギャップ材１５を介して 対峙し、か
つトラックずれかないようにギャップ形成面１３のトラ
ック１１１と高精度に一致する位置に作動ギャップを構
成する金属磁性薄膜１６を形成する。該薄膜１６の形成
と同時に、この薄ｎ口１６に連続して 切溝７に充填し
た接合ガラス部１２を除くブロック全面に金属薄膜１７
が形成される。この金属薄膜１６．１７は、メタルマス
ク法または フォトリングラフィ法などの薄膜形成技術
を用いて形成される。 次いで、（ｇ） 、 （ｒ）の
ように金属薄膜１５゜１７および接合ガラス１２の上の
全域にガラス層１８を形成後、非磁性体ブロック１９を
接合して、（Ｓ）に示すようなヘッドブロック２０を作
製する。この際、非磁性体ブロック６と１９間の接合は
ガラスＷＪ１Ｂと切溝７に充填したガラス部分により
行なわれるが、さらに接合強度を上げるために、ブロッ
ク６の切溝７に対応するブロック１９の綾部に切溝を予
め設けてガラスを充填し、ブロック６と１９を接合する
際、両ブロックの切溝内のガラスで強固に溶着してもよ
い、また、ブロック６の金属薄膜側の面の切溝７とは反
対側の綾部と、これに対応するブロック１９の稜部に切
溝を設けてガラスを充填し、両ブロックの接合を補強し
てもよい、ヘッドブロック２０の点線部分を切断すれば
、第２図（１）のようなヘッドチップ２１が多数−得ら
れる。
膜１０の作動ギャップ形成面１３の上にＳｉ口などのギ
ャップ材１５をスパッタなどで形成する。この際、ギャ
ップ材１５が後部薄膜面１４上におよばないようにする
。この後、同図（ｏ） 、 （ｐ）に示すようにギャッ
プ形成面１３上にギャップ材１５を介して 対峙し、か
つトラックずれかないようにギャップ形成面１３のトラ
ック１１１と高精度に一致する位置に作動ギャップを構
成する金属磁性薄膜１６を形成する。該薄膜１６の形成
と同時に、この薄ｎ口１６に連続して 切溝７に充填し
た接合ガラス部１２を除くブロック全面に金属薄膜１７
が形成される。この金属薄膜１６．１７は、メタルマス
ク法または フォトリングラフィ法などの薄膜形成技術
を用いて形成される。 次いで、（ｇ） 、 （ｒ）の
ように金属薄膜１５゜１７および接合ガラス１２の上の
全域にガラス層１８を形成後、非磁性体ブロック１９を
接合して、（Ｓ）に示すようなヘッドブロック２０を作
製する。この際、非磁性体ブロック６と１９間の接合は
ガラスＷＪ１Ｂと切溝７に充填したガラス部分により
行なわれるが、さらに接合強度を上げるために、ブロッ
ク６の切溝７に対応するブロック１９の綾部に切溝を予
め設けてガラスを充填し、ブロック６と１９を接合する
際、両ブロックの切溝内のガラスで強固に溶着してもよ
い、また、ブロック６の金属薄膜側の面の切溝７とは反
対側の綾部と、これに対応するブロック１９の稜部に切
溝を設けてガラスを充填し、両ブロックの接合を補強し
てもよい、ヘッドブロック２０の点線部分を切断すれば
、第２図（１）のようなヘッドチップ２１が多数−得ら
れる。
上記の実施例では、第２図（ｇ） 、 （ｈ）において
切溝９を遮蔽するのに中空パイプ１１を用いたが他の実
施例として第３図に示すように、切溝９に非磁性体より
なる遮蔽板で蓋をしてもよい、この際、この遮蔽板２２
がはずれないように、切ｆＩＩ９の端縁に切り欠き２３
を設け、この切り欠２３で遮蔽板２２の端縁を支持し、
はずれないようにする、その他の製造方法は上記実施例
の場合と同様である。
切溝９を遮蔽するのに中空パイプ１１を用いたが他の実
施例として第３図に示すように、切溝９に非磁性体より
なる遮蔽板で蓋をしてもよい、この際、この遮蔽板２２
がはずれないように、切ｆＩＩ９の端縁に切り欠き２３
を設け、この切り欠２３で遮蔽板２２の端縁を支持し、
はずれないようにする、その他の製造方法は上記実施例
の場合と同様である。
以上のように、本発明の製造方法は薄膜形成技術を用い
て、金属磁性材料を非磁性層を介して積層することによ
り作動ギャップを形成するので、従来のヘッドブロック
半休の突合わせ方法において生じやすかったトラックず
れ、加工後のギャップの開きなどが全く生じないため、
トラック＋ｌＪ及び キャップ長を高精度で安易に作製
することができる。さらに、トラックｌ】の決定にフォ
トリングラフィなどのｔ？膜技術を応用できるので、機
械加工に比べて精度が向上し、狭トラツク１１】の要求
にも高精度で対応することができる。また、本発明によ
る磁気ヘッドにはパックギャップがないので磁気抵抗が
低下し、ヘッド効率が向上する。
て、金属磁性材料を非磁性層を介して積層することによ
り作動ギャップを形成するので、従来のヘッドブロック
半休の突合わせ方法において生じやすかったトラックず
れ、加工後のギャップの開きなどが全く生じないため、
トラック＋ｌＪ及び キャップ長を高精度で安易に作製
することができる。さらに、トラックｌ】の決定にフォ
トリングラフィなどのｔ？膜技術を応用できるので、機
械加工に比べて精度が向上し、狭トラツク１１】の要求
にも高精度で対応することができる。また、本発明によ
る磁気ヘッドにはパックギャップがないので磁気抵抗が
低下し、ヘッド効率が向上する。
さらに、高い飽和磁束密度をもつ金属磁性材料でギヤ・
ンプと磁気回路を構成するので、高保磁力記録媒体に対
してすぐれた特性を発揮する狭トラック狭キャンプ磁気
へンドを提供することができる。
ンプと磁気回路を構成するので、高保磁力記録媒体に対
してすぐれた特性を発揮する狭トラック狭キャンプ磁気
へンドを提供することができる。
ｔ５１図（ａ） 、 （ｂ）は従来の磁気ヘッドの製造
方法を説明する斜視図、 第２図（ａ）〜（１）は本発明の製造方法の一実施例を
示す工程図、 第３図は他の実施例を示す側面図である。 ７ ； 切溝 ８ ； 突起部 ｌＯ； 金属薄膜 １１； パイプ １５； ギャップ材 ２１； へラドチップ 特許出願人 ティーディーケイ株式会社代表者 天敵
宜 Ｍｚ図 （Ｑ）（め 星、５７図 Ｚづ
方法を説明する斜視図、 第２図（ａ）〜（１）は本発明の製造方法の一実施例を
示す工程図、 第３図は他の実施例を示す側面図である。 ７ ； 切溝 ８ ； 突起部 ｌＯ； 金属薄膜 １１； パイプ １５； ギャップ材 ２１； へラドチップ 特許出願人 ティーディーケイ株式会社代表者 天敵
宜 Ｍｚ図 （Ｑ）（め 星、５７図 Ｚづ
Claims (1)
- 非磁性体よりなるブロックの一つ稜部に＃ｌａのｆｆ１
１．＋Ａ溝を、該ｆ５１切１３間に形成される突起部の
先端のＩｌｌがトラック１７］より小さくなるように形
成し、また 該ｆｆ１ｌ切溝と直交するｉ２切溝を設け
た後、薄膜形成技術を用いて上記ブロックの上記第１お
よび 第２切溝側の面の全域に高飽和磁束密度の金属磁
性薄膜を形成する工程と、上記第２切が５を非磁性体で
遮ｆｆ＋Ｗ して、上記第１および ｆ５２切溝に非磁
性体を充填した後、上記ｆ５１５１切溝形成された突起
部の先端に被着した金属磁性薄膜の［１］がトラック＋
ｌになるようにωＦ庁して ギャップ形成面を形成する
工程と、薄膜形成技術を用いて」二記キャップ形成面上
に非磁性層を介して該キャップ形成面と同じトラック巾
をもつ高飽和磁束密Ｉｆｆの金属磁性ｉｖ膜を形成する
と同時に、上記第１切溝に充填した非磁性体を除く全域
に 該金属磁性薄膜を形成した後、接着層を介して非磁
性体よりなるブロックを接合する工程と、このようにし
て得られたヘッドブロックを切断して？ｌ数のへラドチ
ップを得る工程を有することを特徴とする磁気ヘッドの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2827784A JPS60173714A (ja) | 1984-02-17 | 1984-02-17 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2827784A JPS60173714A (ja) | 1984-02-17 | 1984-02-17 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60173714A true JPS60173714A (ja) | 1985-09-07 |
Family
ID=12244090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2827784A Pending JPS60173714A (ja) | 1984-02-17 | 1984-02-17 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60173714A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4926276A (en) * | 1987-02-20 | 1990-05-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetic head having reinforcing block |
-
1984
- 1984-02-17 JP JP2827784A patent/JPS60173714A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4926276A (en) * | 1987-02-20 | 1990-05-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetic head having reinforcing block |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61129716A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0785289B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0786967B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS60179906A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| US5016341A (en) | A process for producing magnetic heads of the floating type | |
| JPS60173714A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP2633097B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2669965B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0475564B2 (ja) | ||
| JP2566599B2 (ja) | 複合型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH02247816A (ja) | 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法 | |
| JPS62262209A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2627322B2 (ja) | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0766492B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS60202506A (ja) | Ｖｔｒ用磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS6259365B2 (ja) | ||
| JPH0684137A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS62139110A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS6286511A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0554314A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS62157306A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS61280009A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS62117113A (ja) | 複合型磁気ヘツド | |
| JPH0658723B2 (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0546912A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 |