JPS60179906A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60179906A JPS60179906A JP3397584A JP3397584A JPS60179906A JP S60179906 A JPS60179906 A JP S60179906A JP 3397584 A JP3397584 A JP 3397584A JP 3397584 A JP3397584 A JP 3397584A JP S60179906 A JPS60179906 A JP S60179906A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic material
- magnetic
- grooves
- forming
- block
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野Ｊ
本発明は高保磁力記録媒体に対し、すぐれた性能を発揮
する狭トラツク狭ギヤツプ磁気ヘッドを精度よく容易に
作製できる製造方法に関するものである。
する狭トラツク狭ギヤツプ磁気ヘッドを精度よく容易に
作製できる製造方法に関するものである。
［背景技術］
近時、磁気記録の高密度化が進むにつれ、高い保磁力を
もつ磁気記録媒体の開発が盛んに行なわれており、これ
に対応して飽和磁束密度の大きいセンダスト、非晶質磁
性合金などの金属磁性材料を用いた狭トラツク磁気ヘッ
ドが提案されている。
もつ磁気記録媒体の開発が盛んに行なわれており、これ
に対応して飽和磁束密度の大きいセンダスト、非晶質磁
性合金などの金属磁性材料を用いた狭トラツク磁気ヘッ
ドが提案されている。
従来この種の磁気ヘッドは１例えば第１図（ａ）に示す
ように、高速急冷法などで作られた金属磁性膜板１．１
’と、ｌ［磁性体２．２′を接着して一対のヘッドブロ
ック半（４３，３’を作製し、金属薄板１．１°の作動
ギャップを形成する輪縁の厚みがトラック１１１となる
ように調整するν〕溝４．４°を設けて、その中に補強
用カラスを充填し、ギャップ形成面５．５°を研摩した
後、同図（ｂ）に示すように非磁性体を介して金属薄板
が対向するように２つのヘッドブロック半休３．３゛を
突合わせて接合し１点線部分で切断して多数のヘッドチ
ップを得る方法が知られている。
ように、高速急冷法などで作られた金属磁性膜板１．１
’と、ｌ［磁性体２．２′を接着して一対のヘッドブロ
ック半（４３，３’を作製し、金属薄板１．１°の作動
ギャップを形成する輪縁の厚みがトラック１１１となる
ように調整するν〕溝４．４°を設けて、その中に補強
用カラスを充填し、ギャップ形成面５．５°を研摩した
後、同図（ｂ）に示すように非磁性体を介して金属薄板
が対向するように２つのヘッドブロック半休３．３゛を
突合わせて接合し１点線部分で切断して多数のヘッドチ
ップを得る方法が知られている。
この方法では、金属磁性薄板として例えば高速急冷法で
作られた非晶質合金薄帯などが用いられるが、この他に
非磁性、！！Ｉ（板」二にスパッタなどにより形成され
た非晶質合金などの金属磁性薄板を用いて、上記と同様
にヘッドを製造する方法も考えられている。
作られた非晶質合金薄帯などが用いられるが、この他に
非磁性、！！Ｉ（板」二にスパッタなどにより形成され
た非晶質合金などの金属磁性薄板を用いて、上記と同様
にヘッドを製造する方法も考えられている。
しかし、従来の方法ではトラック巾を規制する切溝加］
。
。
精度に限界がある上に、金属磁性薄板と非磁性体間の接
着層の１１みのばらつきにより、多数の金属薄体を同時
に高精度に突合わせることは困鉢であり、狭トラツクに
なるほど突合わせ精度が低下し、歩留りよく狭トラツク
ヘッドを製造することはむずかしかった。また従来の一
対のコアブロック゛１′体を突合わせて接合する方法で
は°、どうしてもバックキャンプが形成されて磁気抵抗
が大きくなり、ヘッド効率が低下するという欠点も有し
ていた。
着層の１１みのばらつきにより、多数の金属薄体を同時
に高精度に突合わせることは困鉢であり、狭トラツクに
なるほど突合わせ精度が低下し、歩留りよく狭トラツク
ヘッドを製造することはむずかしかった。また従来の一
対のコアブロック゛１′体を突合わせて接合する方法で
は°、どうしてもバックキャンプが形成されて磁気抵抗
が大きくなり、ヘッド効率が低下するという欠点も有し
ていた。
［発明の開示］
本発明は上記の欠点を改善したもので、磁性体よりなる
プロ・ンクの−・つの稜部に複数のｒ５１ｖ′Ｊ溝を、
該ｗＳ１切溝間に形成される突起ｒ１（の先端のＩｌｌ
がトラック１１より小さくなるようにかつ該突起部の先
端の縁部が作動ギャップ形成面と非平行になるように形
成し、また該ｉ１切溝と直交する第２切沿を設けた後、
薄膜形成技術を用いて上記ブロックの−に記ｔｌＳｌお
よび第２切溝側の面の全域に高飽和磁束密度の金属磁性
薄膜を形成する工程と、上記第２切溝を非磁性体で遮蔽
して上記第１および第２切溝に非磁性体を充填した後、
」８．記第１９Ｊ溝間に形成された突起部の先端に被着
した金属磁性薄膜のｒｌがトラ・ンクＩＩＩになるよう
に研摩して作動キャンプ形成面を形成する工程と、薄膜
形成技術を用いて上記作動ギャップ形成面上に非磁性層
を介して該作動ギャップ形成１ｎｉと同じトラックＩｌ
ｌをもつ高飽和磁束密度の金属磁性薄膜を形成すると同
時に、上記第１切溝に充填した非磁性体を除く全域に該
金属磁性薄膜を形成した後、接着層を介して非磁性体と
磁性体を接合してなるブロックを該非磁性体が作動ギャ
ップ側にくるようにして接合する工程と、このようにし
て得られたヘッドブロックを切断して複。
プロ・ンクの−・つの稜部に複数のｒ５１ｖ′Ｊ溝を、
該ｗＳ１切溝間に形成される突起ｒ１（の先端のＩｌｌ
がトラック１１より小さくなるようにかつ該突起部の先
端の縁部が作動ギャップ形成面と非平行になるように形
成し、また該ｉ１切溝と直交する第２切沿を設けた後、
薄膜形成技術を用いて上記ブロックの−に記ｔｌＳｌお
よび第２切溝側の面の全域に高飽和磁束密度の金属磁性
薄膜を形成する工程と、上記第２切溝を非磁性体で遮蔽
して上記第１および第２切溝に非磁性体を充填した後、
」８．記第１９Ｊ溝間に形成された突起部の先端に被着
した金属磁性薄膜のｒｌがトラ・ンクＩＩＩになるよう
に研摩して作動キャンプ形成面を形成する工程と、薄膜
形成技術を用いて上記作動ギャップ形成面上に非磁性層
を介して該作動ギャップ形成１ｎｉと同じトラックＩｌ
ｌをもつ高飽和磁束密度の金属磁性薄膜を形成すると同
時に、上記第１切溝に充填した非磁性体を除く全域に該
金属磁性薄膜を形成した後、接着層を介して非磁性体と
磁性体を接合してなるブロックを該非磁性体が作動ギャ
ップ側にくるようにして接合する工程と、このようにし
て得られたヘッドブロックを切断して複。
薮のへラドチップを得る工程を有することを特徴とする
磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
以下、本発明の実施例につき説明する。第２図（ａ）〜
（ｔｌ）は本発明の製造方法の一実施例を示す各工程の
説明図である。先ず、フェライトなどの磁性体よりなる
直方体状のブロックロの一つの綾部に外周スライサーな
どの機械油１１二により複数の切溝７を設ける（第２図
（−ａ））、これらの切溝７は溝間に形成される突起部
８の先端のＩＩＪＷｏが、トラックＩＩ＋より小さくな
るように加工される。また、該先端の縁部９はその−１
，に後で被着する金属薄膜との間に疑似キャンプを形成
しないように、突起部８の先端の平面部１０と非］ｉ行
になるＪ：うに加工される。突起部８を第２図（ａ）の
Ａ方向から見ると同図（ｂ）のようになる、この実施例
で１±、突起部８の形状をその先端部が等厚で以下末広
がりになるように、かつ縁部９が凹状になるように形成
したが、他の実施例どして第２図（ｃ）のように突起部
８の先端が尖った形になっていてもよい。要は、突起部
８の先端の１１１力電トラフクＩ＋］より小さくなるよ
うな形状でかつその縁部９が先端の平面部ｌＯと非平行
になるコニうな形状であればよく、第２図（ｂ） 、
（ｃ）のような形状に限定されない。
（ｔｌ）は本発明の製造方法の一実施例を示す各工程の
説明図である。先ず、フェライトなどの磁性体よりなる
直方体状のブロックロの一つの綾部に外周スライサーな
どの機械油１１二により複数の切溝７を設ける（第２図
（−ａ））、これらの切溝７は溝間に形成される突起部
８の先端のＩＩＪＷｏが、トラックＩＩ＋より小さくな
るように加工される。また、該先端の縁部９はその−１
，に後で被着する金属薄膜との間に疑似キャンプを形成
しないように、突起部８の先端の平面部１０と非］ｉ行
になるＪ：うに加工される。突起部８を第２図（ａ）の
Ａ方向から見ると同図（ｂ）のようになる、この実施例
で１±、突起部８の形状をその先端部が等厚で以下末広
がりになるように、かつ縁部９が凹状になるように形成
したが、他の実施例どして第２図（ｃ）のように突起部
８の先端が尖った形になっていてもよい。要は、突起部
８の先端の１１１力電トラフクＩ＋］より小さくなるよ
うな形状でかつその縁部９が先端の平面部ｌＯと非平行
になるコニうな形状であればよく、第２図（ｂ） 、
（ｃ）のような形状に限定されない。
次いで、第２図（ｄ）に示すように切溝７に直交する第
２の切溝１１をブロック６の両端面に貫通するように設
けた後、スパッタ等の薄膜形成技術を用いて、ブロック
６の切ｉ１７．１１側の全面に非晶質磁性合金などの金
属薄膜１２を被着する。この金属薄膜１２は、第２図（
ｅ）、（ｆ）に示すように、ブロック６の平面部だけで
なく、切溝７，１１の壁面にも及ぶ全域にわたって形成
する。尚、同図（ｆ）は（ｄ）のＢ方向からみた側面図
である６次に第２図（ｇ） 、 （ｈ）に示すように、
切ｆｉｌｌに中空パイプ１３をはめ込む。
２の切溝１１をブロック６の両端面に貫通するように設
けた後、スパッタ等の薄膜形成技術を用いて、ブロック
６の切ｉ１７．１１側の全面に非晶質磁性合金などの金
属薄膜１２を被着する。この金属薄膜１２は、第２図（
ｅ）、（ｆ）に示すように、ブロック６の平面部だけで
なく、切溝７，１１の壁面にも及ぶ全域にわたって形成
する。尚、同図（ｆ）は（ｄ）のＢ方向からみた側面図
である６次に第２図（ｇ） 、 （ｈ）に示すように、
切ｆｉｌｌに中空パイプ１３をはめ込む。
該パイプ１３は、ガラスなどの非磁性体よりなり、巻線
用窓とし゛ての役割をもつのでその中空部が巻線をしや
すい形状であれば、大型、角型など適当な形状を選んで
よい。
用窓とし゛ての役割をもつのでその中空部が巻線をしや
すい形状であれば、大型、角型など適当な形状を選んで
よい。
このパイプ材としてガラスを用いる場合は、後述の切溝
１３に充填するガラスの融点より高融点のガラスを使う
必要がある。また、中空パイプ１３の大きさは切溝１１
の中に埋め込めるような外径にする。続いて、第２図（
ｉ）、Ｕ）および（ｋ）、（＋）に示すように９Ｊ溝７
．１１に接合ガラス１４を充填した後、競面研摩して突
起部８の先端に被着した金属薄膜１２の作動ギャップ形
成面１５を露出させそのＩＪが丁度トラックＩＩＩ曾ｔ
になるように研摩を調整する。接合ガラス１４を充填す
る際ブロック６の後部平面」二に被着した後部金属薄膜
１６の上にガラスがはみ出た場合は、＃Ｉ摩して後部金
属薄１１ＣＩ １６面を露山させる。この実施例では突
起部８の形状を第２図（ｂ）のようにその先端部が等厚
になるように形成したので、金属薄１１り１２のスバツ
タ工程で、該先嬬ｊ■の側面に付着した薄膜の厚さの２
倍に先端部の厚さを加えたＴＩがトラック巾Ｗｔになる
ようにスパッタ膜厚を調節すれば、その後の研摩上程で
トランク１＋を調整する必要はなくなる。
１３に充填するガラスの融点より高融点のガラスを使う
必要がある。また、中空パイプ１３の大きさは切溝１１
の中に埋め込めるような外径にする。続いて、第２図（
ｉ）、Ｕ）および（ｋ）、（＋）に示すように９Ｊ溝７
．１１に接合ガラス１４を充填した後、競面研摩して突
起部８の先端に被着した金属薄膜１２の作動ギャップ形
成面１５を露出させそのＩＪが丁度トラックＩＩＩ曾ｔ
になるように研摩を調整する。接合ガラス１４を充填す
る際ブロック６の後部平面」二に被着した後部金属薄膜
１６の上にガラスがはみ出た場合は、＃Ｉ摩して後部金
属薄１１ＣＩ １６面を露山させる。この実施例では突
起部８の形状を第２図（ｂ）のようにその先端部が等厚
になるように形成したので、金属薄１１り１２のスバツ
タ工程で、該先嬬ｊ■の側面に付着した薄膜の厚さの２
倍に先端部の厚さを加えたＴＩがトラック巾Ｗｔになる
ようにスパッタ膜厚を調節すれば、その後の研摩上程で
トランク１＋を調整する必要はなくなる。
他の実施例として示した第２図（Ｃ）のような突起部を
設けた１５合には、トラック１１」を決めるのは同図（
ｋ） 、 （１）の研摩］−程なので、研摩の深さを精
密に規制する必要がある。
設けた１５合には、トラック１１」を決めるのは同図（
ｋ） 、 （１）の研摩］−程なので、研摩の深さを精
密に規制する必要がある。
次にｆ５２図（ｍ） 、 （ＩＩ）に示すよう、に金属
薄膜１２の作動ギヤ、プ形成面１５の上にＳｉｏなどの
ギャップ材１７をスパッタなどで形成する。この際、キ
ャンプ材１７が後部８膜ｆｉ′１１１６上におよばない
ようにする。この後、ｆ５２図（ｏ） 、 （１’）に
示すようにギャップ形成面１５上にギャップ材１７を介
して対峙しかつトラックずれかないように１作動ギャッ
プ形成面１５のトランク１１１と高精度に一致する位置
に作動ギャップを４Ｍ成する金属薄ＩＩり１８を形成す
る。この金属薄１１り１８の形成と同時に、該薄ＩＦ４
１ ｓに連続してνＪ膚７に充填した接合カラス部１４
を除くプロッタ全面に後部金ｈ’Ｒ薄１１７ｊ １９が
形成される。この金属Ｆ、ｕ ＩＩＩＩ８，１９は、メ
タルマスク法またはソートリンクラフィ法などの薄膜形
成技術を用いて形成される。次いで、第２１閾（ｑ）
、 （ｒ）のように金属薄１１１８．１９および接合ガ
ラス１４の面上の全域にガラス層２０を形成後、同図（
Ｓ）に示すようなプロツタ２１を接合して、同図（１）
のようなヘッドブロック２２を作製する。
薄膜１２の作動ギヤ、プ形成面１５の上にＳｉｏなどの
ギャップ材１７をスパッタなどで形成する。この際、キ
ャンプ材１７が後部８膜ｆｉ′１１１６上におよばない
ようにする。この後、ｆ５２図（ｏ） 、 （１’）に
示すようにギャップ形成面１５上にギャップ材１７を介
して対峙しかつトラックずれかないように１作動ギャッ
プ形成面１５のトランク１１１と高精度に一致する位置
に作動ギャップを４Ｍ成する金属薄ＩＩり１８を形成す
る。この金属薄１１り１８の形成と同時に、該薄ＩＦ４
１ ｓに連続してνＪ膚７に充填した接合カラス部１４
を除くプロッタ全面に後部金ｈ’Ｒ薄１１７ｊ １９が
形成される。この金属Ｆ、ｕ ＩＩＩＩ８，１９は、メ
タルマスク法またはソートリンクラフィ法などの薄膜形
成技術を用いて形成される。次いで、第２１閾（ｑ）
、 （ｒ）のように金属薄１１１８．１９および接合ガ
ラス１４の面上の全域にガラス層２０を形成後、同図（
Ｓ）に示すようなプロツタ２１を接合して、同図（１）
のようなヘッドブロック２２を作製する。
プロツク２１ｌｉ酎庁ｋＬ性のすぐれた非磁性体２３と
フェライトなどの磁性体２４を接着したもので、非磁性
体２３が作動ギャップ側に位置するように磁性体ブロッ
ク６にｔａ ６される。この際、ブロック６と２１間の
接合は、ガラス層２０とＭＪ 溝７に充填した接合ガラ
ス部分１４により行なわれるが、さらに接合強度を」二
げるために、ブロック６の切溝７に対応するプロツタ２
１のＪ＆部に！／Ｊ ＞Ｍを予め設けてカラスを充填し
、ブロック６と２１を接合する際両ブロックの９Ｊ溝内
のガラスで強固に溶着してもよい。また、ブロックロの
金属薄１１り側の面のνＪｉ＋■７どは反対側の稜部と
、これに対応するブロック２１の稜部に切溝を設けてガ
ラスを充填し、両ブロック６．２１の接合を補強しても
よい。ヘンドブロック２２の点線部分を切断すれば、第
２図（ｕ）のようなヘッドチップ２３が多数得られる。
フェライトなどの磁性体２４を接着したもので、非磁性
体２３が作動ギャップ側に位置するように磁性体ブロッ
ク６にｔａ ６される。この際、ブロック６と２１間の
接合は、ガラス層２０とＭＪ 溝７に充填した接合ガラ
ス部分１４により行なわれるが、さらに接合強度を」二
げるために、ブロック６の切溝７に対応するプロツタ２
１のＪ＆部に！／Ｊ ＞Ｍを予め設けてカラスを充填し
、ブロック６と２１を接合する際両ブロックの９Ｊ溝内
のガラスで強固に溶着してもよい。また、ブロックロの
金属薄１１り側の面のνＪｉ＋■７どは反対側の稜部と
、これに対応するブロック２１の稜部に切溝を設けてガ
ラスを充填し、両ブロック６．２１の接合を補強しても
よい。ヘンドブロック２２の点線部分を切断すれば、第
２図（ｕ）のようなヘッドチップ２３が多数得られる。
−に記の実施例では、第２図（ｇ） 、 （ｈ）におい
て切溝１１を臨画するのに中空パイプ１３を用いたが、
他の実施例としてｔ５３図に示すように９Ｎ＾７１１に
非磁性体よりなる遮蔽板２−で蓋をしてもよい。この際
、この遮蔽板２２がはずれないように、９Ｊｊ＾日１の
端縁に切欠き２５を設け、このｐ」欠２５で葭蔽板２４
の端縁を支持しはずれないようにする。
て切溝１１を臨画するのに中空パイプ１３を用いたが、
他の実施例としてｔ５３図に示すように９Ｎ＾７１１に
非磁性体よりなる遮蔽板２−で蓋をしてもよい。この際
、この遮蔽板２２がはずれないように、９Ｊｊ＾日１の
端縁に切欠き２５を設け、このｐ」欠２５で葭蔽板２４
の端縁を支持しはずれないようにする。
その他の製造方法は上記実施例の場合と同様である。
以」、のように、本発明の製造方法は薄膜形成技術を用
いで、金属磁性薄膜を非磁性層を介して積層することに
より作動キャンプを形成するので、従来のヘッドブロッ
ク半休の突合わせ方法において生しやすかったトラック
ずれ、加］、後のキャンプの開きなどが全く生じないた
め、トラックＩｔおよびギャップ長を高精度でかつ容易
に作製することができる。さらに、トランク１１」の決
定にフォトリングラフィなどの薄膜技術を応用できるの
で、機械加工に比べて精成が向上し、狭トラツク１１Ｊ
の要求にも高精度で対応することができる。また、本発
明による磁気ヘッドでは金属磁性膜膜を直接積層して後
部Ｗ、磁気回路構成するのでバックギャップがなくなり
磁気抵抗が低下するために、へ・ｙＦの記録１１生効率
が茗しく向−１６する。
いで、金属磁性薄膜を非磁性層を介して積層することに
より作動キャンプを形成するので、従来のヘッドブロッ
ク半休の突合わせ方法において生しやすかったトラック
ずれ、加］、後のキャンプの開きなどが全く生じないた
め、トラックＩｔおよびギャップ長を高精度でかつ容易
に作製することができる。さらに、トランク１１」の決
定にフォトリングラフィなどの薄膜技術を応用できるの
で、機械加工に比べて精成が向上し、狭トラツク１１Ｊ
の要求にも高精度で対応することができる。また、本発
明による磁気ヘッドでは金属磁性膜膜を直接積層して後
部Ｗ、磁気回路構成するのでバックギャップがなくなり
磁気抵抗が低下するために、へ・ｙＦの記録１１生効率
が茗しく向−１６する。
さらに、高い飽和磁束密度をもつ金属磁性材料で作動キ
ャップと磁気回路を構成するので、高保磁力記ｐ、ｔ、
１Ｍ体に対してすぐれた特性を発揮する狭トランク狭
ギャップ磁気・＼ラドを提供することができる。
ャップと磁気回路を構成するので、高保磁力記ｐ、ｔ、
１Ｍ体に対してすぐれた特性を発揮する狭トランク狭
ギャップ磁気・＼ラドを提供することができる。
ｔｊＳ１図（ａ） 、 （ｂ）は従来の磁気ヘッドの製
造方法を説明する刺視図 第２図（ａ）、〜（１１）は未発！ＩＩｊの製造方法の
一実施例を示す工程図、 ｔ５３図は他の実施例を示す側面図である。 ７ ： 切溝 ８ ； 突起部 １２、金属磁性薄膜 １３； 中空パイプ １７； ギャップ材 ２３； ヘッドチンブ イどＧ Ｃｂ） （知） 、／７ 碧２１力 ％ｚｔ刀 （ｕ）
造方法を説明する刺視図 第２図（ａ）、〜（１１）は未発！ＩＩｊの製造方法の
一実施例を示す工程図、 ｔ５３図は他の実施例を示す側面図である。 ７ ： 切溝 ８ ； 突起部 １２、金属磁性薄膜 １３； 中空パイプ １７； ギャップ材 ２３； ヘッドチンブ イどＧ Ｃｂ） （知） 、／７ 碧２１力 ％ｚｔ刀 （ｕ）
Claims (1)
- 磁性体よりなるブロックの一つの稜部に複数のｔ５１切
溝な、該ｍｌ＋Ａ溝間に形成される突起部の先端のＩｌ
ｌがトラック１１】より小さくなるようにかつ該突起部
の先端の縁部が作動ギャップ形成面と非平行になるよう
に形成し、また該第１切溝と直交するｆｆ１２切溝を設
けた後、薄膜形成技術を用いて上記ブロックの上記ｉ１
および第２切溝側の面の全域に高飽和磁束密度の金属磁
性薄膜を形成する工程と、上記第２切向を非磁性体で遮
蔽して上記第１および第２切欝に非磁性体を充填した後
、上記第１切溝間に形成された突起部の先端に被着した
金属磁性材料のＩＩがトラック１１になるように研摩し
て、作動キャップ形成面を形成する工程と薄ＪＩＩＡ形
成技術を用いて上記作動ギャップ形成面上に非磁性層を
介して該作動ギヤ・ンプ形成面と同じトラックＩｌｌを
もつ高飽和磁束密度の金属磁性材料を形成すると同時に
、上記第１４ＪＪ溝に充填した非磁性体を除く全域に該
金属磁性画＋１ＦＡを形成した後、接着層を介して非磁
性体と磁性体を接合してなるブロックを該非磁性体が作
動ギャップ側にくるようにして接合する二Ｆ程と、この
ようにして得られたヘッドブロックを切断して複数のへ
ラドチップを得る工程を有することを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3397584A JPS60179906A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3397584A JPS60179906A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60179906A true JPS60179906A (ja) | 1985-09-13 |
Family
ID=12401485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3397584A Pending JPS60179906A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60179906A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62267911A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-20 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
| JPS62287405A (ja) * | 1986-06-06 | 1987-12-14 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
| JPS6331009A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
| JPS6331010A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
| JPS6331007A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
| JPS6331008A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
-
1984
- 1984-02-24 JP JP3397584A patent/JPS60179906A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62267911A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-20 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
| JPS62287405A (ja) * | 1986-06-06 | 1987-12-14 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
| JPS6331009A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
| JPS6331010A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
| JPS6331007A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
| JPS6331008A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Canon Inc | 磁気ヘツド |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS58155513A (ja) | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPS60229210A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS60179906A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0785289B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS58130421A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPH0475564B2 (ja) | ||
| JPH04318304A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS60231903A (ja) | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JP2669965B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS60173714A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP2566599B2 (ja) | 複合型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS60202506A (ja) | Ｖｔｒ用磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0766492B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2906641B2 (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JP2627322B2 (ja) | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS6316012Y2 (ja) | ||
| JPH0585962B2 (ja) | ||
| JPS58222427A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH07326011A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS61280009A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH025208A (ja) | 磁気ヘッド並びにその製造方法 | |
| JPS60187907A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPS62157306A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS60253011A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JP2002208108A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 |