JPS6331009A - 磁気ヘツド - Google Patents
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- JPS6331009A JPS6331009A JP17497886A JP17497886A JPS6331009A JP S6331009 A JPS6331009 A JP S6331009A JP 17497886 A JP17497886 A JP 17497886A JP 17497886 A JP17497886 A JP 17497886A JP S6331009 A JPS6331009 A JP S6331009A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッド、特に高透磁率材ブロック上の高飽
和磁束密度膜を形成した磁気コアを有する磁気ヘッドに
関するのもである。
和磁束密度膜を形成した磁気コアを有する磁気ヘッドに
関するのもである。
従来、メタル塗布テープ、金属蒸着テープ等の高抗磁力
磁性媒体に適する磁気ヘッドとして、いわゆるMIG
(Metal i n GaP)ヘッドと呼ばれる
ものがあり、既に実用に供されている。
磁性媒体に適する磁気ヘッドとして、いわゆるMIG
(Metal i n GaP)ヘッドと呼ばれる
ものがあり、既に実用に供されている。
MIGヘッドは、コアの大部分にフェライト等の高透磁
率材を用いギャップ近傍の磁極先端部を高飽和磁束密度
材、即ちパーマロイ、センダスト、アモルファス等の合
金磁性材で形成した構造となっている。MIGヘッドに
は、摺動面上における金属磁性材とフェライトとの境界
が、作動ギャップに平行なタイプ(これをPタイプと呼
ぶことにする。たと−えば特開昭51−140708号
公報等が開示されている)と、前記境界が作動ギャップ
と非平行でアジマスが付いたタイプ(これをAタイプと
呼ぶことにする。たとえば、特開昭54−96013号
公報、特開昭80−32107号公報等に開示されてい
る。)とがあり、現在までのところAタイプのMIGヘ
ッドが実用化されている。理由は、PタイプのMIGヘ
ッドでは金属磁性材とフェライトとの境界が疑似ギャッ
プとして作用し、これによるコンタ−効果により、周波
数−出力特性にPeak−t o−Peak値で数dB
程度のリップルが現われろからである。
率材を用いギャップ近傍の磁極先端部を高飽和磁束密度
材、即ちパーマロイ、センダスト、アモルファス等の合
金磁性材で形成した構造となっている。MIGヘッドに
は、摺動面上における金属磁性材とフェライトとの境界
が、作動ギャップに平行なタイプ(これをPタイプと呼
ぶことにする。たと−えば特開昭51−140708号
公報等が開示されている)と、前記境界が作動ギャップ
と非平行でアジマスが付いたタイプ(これをAタイプと
呼ぶことにする。たとえば、特開昭54−96013号
公報、特開昭80−32107号公報等に開示されてい
る。)とがあり、現在までのところAタイプのMIGヘ
ッドが実用化されている。理由は、PタイプのMIGヘ
ッドでは金属磁性材とフェライトとの境界が疑似ギャッ
プとして作用し、これによるコンタ−効果により、周波
数−出力特性にPeak−t o−Peak値で数dB
程度のリップルが現われろからである。
ところで上述の如きMIGヘッドにあっては1作動磁気
ギャップは、いわゆるツキ合わせ工程に依り形成されて
いた。このように従来のツキ合わせ工程により作動ギャ
ップを形成したヘッドは、ギャップ幅のバラツキが多く
、結果としてはヘッド間の特性のバラツキも大きかった
。このバラツキを無くす目的でツキ合わせ工程を経ずに
ギャップな形成したMIGヘッドも提案されている。こ
の種のヘッドでは金属磁性膜上に磁気ギャップとなるギ
ャップ材となる絶縁膜を形成して、更にこの絶縁謹上に
更に金属磁性膜が形成されている。
ギャップは、いわゆるツキ合わせ工程に依り形成されて
いた。このように従来のツキ合わせ工程により作動ギャ
ップを形成したヘッドは、ギャップ幅のバラツキが多く
、結果としてはヘッド間の特性のバラツキも大きかった
。このバラツキを無くす目的でツキ合わせ工程を経ずに
ギャップな形成したMIGヘッドも提案されている。こ
の種のヘッドでは金属磁性膜上に磁気ギャップとなるギ
ャップ材となる絶縁膜を形成して、更にこの絶縁謹上に
更に金属磁性膜が形成されている。
この様なツキ合わせ工程を含まないMIGヘッドとして
はPタイプのものが特開昭60−177314号公報に
開示され、Aタイプのものとしては本出願人に係る特願
昭60−187486号に開示している。
はPタイプのものが特開昭60−177314号公報に
開示され、Aタイプのものとしては本出願人に係る特願
昭60−187486号に開示している。
ツキ合わせ工程を含まないAタイプのMIGヘッドのコ
ア半休を用いたヘッドはコンタ−効果を完全に防止でき
るという利点を有するが。
ア半休を用いたヘッドはコンタ−効果を完全に防止でき
るという利点を有するが。
製造工程が複雑になる上に、要求される加工精度も高く
なり、コストが高くなってしまうという問題を有する。
なり、コストが高くなってしまうという問題を有する。
従ってツキ合わせ工程を含まないPタイプMIGヘッド
に於いてコンタ−効果による悪影響等の諸問題を伴わず
製造できればコスト面で極めて有利となる。
に於いてコンタ−効果による悪影響等の諸問題を伴わず
製造できればコスト面で極めて有利となる。
第13図はツキ合わせ工程を含まないPタイプの、MI
Gヘッドの例を示す図であり、1はフェライト等の高透
磁率材ブロック、2.7はセンダスト等の高飽和磁束密
度材よりなる磁性膜、3は巻線窓用溝、6は磁気ギャッ
プ、9.10はガラス等の非磁性材である。
Gヘッドの例を示す図であり、1はフェライト等の高透
磁率材ブロック、2.7はセンダスト等の高飽和磁束密
度材よりなる磁性膜、3は巻線窓用溝、6は磁気ギャッ
プ、9.10はガラス等の非磁性材である。
しかしながら、上述の如きツキ合わせ工程を舎まないP
タイプMIGヘッドに於いて以下の如き問題がある。
タイプMIGヘッドに於いて以下の如き問題がある。
第14図は従来のPタイプMIGヘッドの問題点につい
て説明するためのコア先端部を示す図である。
て説明するためのコア先端部を示す図である。
114図ニ於イー(d l 、 d2 、 d31*f
i体摺動面が摩耗に伴い変化した場合のギャップデプス
である。
i体摺動面が摩耗に伴い変化した場合のギャップデプス
である。
この磁気ヘッドを使用していくと、イヤツブデプスはd
l、d2.d3と変化していく。
l、d2.d3と変化していく。
この時媒体摺動面に於いて露烏する磁性1I12の磁気
ギャップ6に垂直な方向の長さは、ギャップデプスが6
2以上であればtiとなり変化しないが、62未満の場
合にはtl’で示す様に変化する。これに伴いコンタ−
特性等が変化してしまうものであった。
ギャップ6に垂直な方向の長さは、ギャップデプスが6
2以上であればtiとなり変化しないが、62未満の場
合にはtl’で示す様に変化する。これに伴いコンタ−
特性等が変化してしまうものであった。
また第13図のヘッドに於いては内部応力の1積により
、#!線線用用溝3近いフェライトl中にクラックが入
り、製品歩留りを低下させてしまう原因となっていた。
、#!線線用用溝3近いフェライトl中にクラックが入
り、製品歩留りを低下させてしまう原因となっていた。
更に、金M!磁性鯖とフェライトとの境界近傍に内部応
力が蓄積すると、境界における磁気的性質の不連続性が
増し、コンタ−効果も大きくなりヘッドの電磁変換特性
が悪化する。
力が蓄積すると、境界における磁気的性質の不連続性が
増し、コンタ−効果も大きくなりヘッドの電磁変換特性
が悪化する。
更に第13WJに示す如く、金属磁性s2のフエライ)
lへの被着面が媒体摺動面上ではトラック幅分しかとれ
ず、特にトラック幅決定の為の加工時に於いて膜はがれ
を生じ易く、生産°性が悪いものであった。
lへの被着面が媒体摺動面上ではトラック幅分しかとれ
ず、特にトラック幅決定の為の加工時に於いて膜はがれ
を生じ易く、生産°性が悪いものであった。
本発明は上述の如き問題に鑑み、経時変化に対しても安
定な磁気特性を有し、かつ製造時の歩留りが良く、a負
特性が良好なコア構造を有する低コストの磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
定な磁気特性を有し、かつ製造時の歩留りが良く、a負
特性が良好なコア構造を有する低コストの磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
かかる目的下に於いて本発明の磁気ヘッドにあっては1
巻線用溝が形成されている高透磁率材ブロックと、該ブ
ロックの前記巻線用溝の形成されている側に対し前記巻
線用溝内を除く部分の少なくとも媒体摺動面側に形成さ
れた高飽和磁束密度材よりなる第1の磁性膜と、該第1
の磁性膜上に形成され磁気ギャップとなる絶縁膜と、該
絶縁膜上に形成された高飽和磁束密度材よりなる第2磁
性膜と、夫々前記絶縁膜の両端に接する一対の非磁性部
とを具え、前記ブロックの前記絶縁膜に対向する面が前
記絶縁膜と平行で、かつ前記第1の磁性膜が前記一対の
非磁性材部の一方と前記ブロックとの境界に沿って延在
する構成としている。
巻線用溝が形成されている高透磁率材ブロックと、該ブ
ロックの前記巻線用溝の形成されている側に対し前記巻
線用溝内を除く部分の少なくとも媒体摺動面側に形成さ
れた高飽和磁束密度材よりなる第1の磁性膜と、該第1
の磁性膜上に形成され磁気ギャップとなる絶縁膜と、該
絶縁膜上に形成された高飽和磁束密度材よりなる第2磁
性膜と、夫々前記絶縁膜の両端に接する一対の非磁性部
とを具え、前記ブロックの前記絶縁膜に対向する面が前
記絶縁膜と平行で、かつ前記第1の磁性膜が前記一対の
非磁性材部の一方と前記ブロックとの境界に沿って延在
する構成としている。
上述の如き磁気ヘッドに於いては巻線用溝の内部には第
1の磁性膜は形成されておらず、媒体摺動面に於ける第
1の磁性膜が摺動面の変化に係らず同じ形状となるため
経時変化に対しても安定な磁気特性が得られ、かつ内部
応力も大きくならず、かつ高透磁率ブロックに対する磁
性膜の被着面積も大きくとれるため膜はがれが生じるこ
とも少なくなくなる為製造時の歩留りも向上すると共に
コンタ−効果による磁気特性の劣化も最小限に抑えられ
るものである。
1の磁性膜は形成されておらず、媒体摺動面に於ける第
1の磁性膜が摺動面の変化に係らず同じ形状となるため
経時変化に対しても安定な磁気特性が得られ、かつ内部
応力も大きくならず、かつ高透磁率ブロックに対する磁
性膜の被着面積も大きくとれるため膜はがれが生じるこ
とも少なくなくなる為製造時の歩留りも向上すると共に
コンタ−効果による磁気特性の劣化も最小限に抑えられ
るものである。
第1図は、本発明の最も典型的な構成を有するヘッドの
実施例につき、その概略を示す斜視図、第2図〜第8図
は、第1図のヘッドの製造工程の概略を説明する図であ
る。
実施例につき、その概略を示す斜視図、第2図〜第8図
は、第1図のヘッドの製造工程の概略を説明する図であ
る。
第1図において、1は単結晶フェライト等の高透磁率材
ブロック、2は高透磁率材1上に、たとえばスパッタ等
の物理蒸着によって成膜されたパーマロイ、センダスト
、アモルファス等の高飽和磁束密度を有する第1の磁性
膜としての合金磁性材、6はS i O3などのギャッ
プ材で、高飽和磁束密度材z上に同じくスパッタ等によ
り成膜され、7は第2の磁性膜としての合金磁性材で、
ギャップ材6上に同じくスパッタ等により成膜される。
ブロック、2は高透磁率材1上に、たとえばスパッタ等
の物理蒸着によって成膜されたパーマロイ、センダスト
、アモルファス等の高飽和磁束密度を有する第1の磁性
膜としての合金磁性材、6はS i O3などのギャッ
プ材で、高飽和磁束密度材z上に同じくスパッタ等によ
り成膜され、7は第2の磁性膜としての合金磁性材で、
ギャップ材6上に同じくスパッタ等により成膜される。
3(31〜33)は巻線窓用溝、また、その壁面であり
低融点ガラス5が充填されている。
低融点ガラス5が充填されている。
9は低融点ガラス5と同程度か低い融点を有する低融点
ガラス、10〜12は保護板、10は非磁性フェライト
あるいは結晶化ガラスなど耐摩耗性の高い非磁性材、1
1はたとえばフェライト単結晶の如き高透磁率材で、1
2は、低融点ガラス9と同程度かより高い融点を有する
接着剤であり、13は巻線窓である。
ガラス、10〜12は保護板、10は非磁性フェライト
あるいは結晶化ガラスなど耐摩耗性の高い非磁性材、1
1はたとえばフェライト単結晶の如き高透磁率材で、1
2は、低融点ガラス9と同程度かより高い融点を有する
接着剤であり、13は巻線窓である。
木ヘッドの製造上、構造上の特徴をいくつか示す。先ず
ヘッドとしての基本構造である磁極−ギャップ−磁極の
要素機能は、高透磁率材基板1上に次々に成膜される第
1の磁極としての高飽和磁束密度材2と、ギャップ材6
、第2の磁極としての高飽和磁束密度材7とによって満
たされる。ヘッド摺動面上において、高透磁率材基板1
と高飽和磁束密度材2との境界は、ギャップ6に対し平
行になっており、コンタ−効果の出現を完全に抑制する
ことには困難であるが、後述する様な構造による実用上
問題とならない程度にまで抑圧できるこが分った。保護
板は摺動面側が非磁性材10となっており、逆って第2
の磁極7との間のスキ間あるいは接着剤層は疑似ギャッ
プとならない。また、保護板のギャップに面する側の非
磁性材10あるいは12の最下点P1は1巻線窓用溝壁
面31の上端点P3同程度の高さか、やや下(摺動面を
上として)に位置するが、可能な限り摺動面に近い方が
特性上好ましい、これは、保護板の高透磁率材11が摺
動面に近い程、磁気回路の磁気抵抗が小さくなるからで
ある。このようなヘッド構造の場合、実効的なギャップ
デプスは1点P1.P3の内、摺動面に近い側によって
決められる。
ヘッドとしての基本構造である磁極−ギャップ−磁極の
要素機能は、高透磁率材基板1上に次々に成膜される第
1の磁極としての高飽和磁束密度材2と、ギャップ材6
、第2の磁極としての高飽和磁束密度材7とによって満
たされる。ヘッド摺動面上において、高透磁率材基板1
と高飽和磁束密度材2との境界は、ギャップ6に対し平
行になっており、コンタ−効果の出現を完全に抑制する
ことには困難であるが、後述する様な構造による実用上
問題とならない程度にまで抑圧できるこが分った。保護
板は摺動面側が非磁性材10となっており、逆って第2
の磁極7との間のスキ間あるいは接着剤層は疑似ギャッ
プとならない。また、保護板のギャップに面する側の非
磁性材10あるいは12の最下点P1は1巻線窓用溝壁
面31の上端点P3同程度の高さか、やや下(摺動面を
上として)に位置するが、可能な限り摺動面に近い方が
特性上好ましい、これは、保護板の高透磁率材11が摺
動面に近い程、磁気回路の磁気抵抗が小さくなるからで
ある。このようなヘッド構造の場合、実効的なギャップ
デプスは1点P1.P3の内、摺動面に近い側によって
決められる。
従来提案されているつき合わせ工程を経ずに作られるヘ
ッドと本実施例との構造土岐も異なる点は、第8図にお
いてフ、エライトコア1に刻まれた巻線窓13を形成す
る為の溝3を形作る溝の壁面31,33.33から可能
な限り金属磁性材が取除かれている事にある。さらに、
摺動面上、ギャップ6近傍のコア先端部はトラック幅出
しの為、はぼ平行な側面となるように溝8が刻まれてい
るが、この溝加工によって現われるフェライトコア1の
両側面の一方に磁性金属膜2が延在している。
ッドと本実施例との構造土岐も異なる点は、第8図にお
いてフ、エライトコア1に刻まれた巻線窓13を形成す
る為の溝3を形作る溝の壁面31,33.33から可能
な限り金属磁性材が取除かれている事にある。さらに、
摺動面上、ギャップ6近傍のコア先端部はトラック幅出
しの為、はぼ平行な側面となるように溝8が刻まれてい
るが、この溝加工によって現われるフェライトコア1の
両側面の一方に磁性金属膜2が延在している。
以上にような構造上の特徴を有するヘッドの製造法を第
2図〜第8図を用いて説明する。
2図〜第8図を用いて説明する。
第2図において、1はフェライト単結晶の直方体ブロッ
クの一部で、その−面には多数の平行な溝231〜23
4を形成しており、線溝の形成された面に、物理蒸着、
メッキ、CVD等の方法により第3図に示す如く高飽和
磁束密度材2の厚さ10JLm〜50JLm程度成膜す
る。
クの一部で、その−面には多数の平行な溝231〜23
4を形成しており、線溝の形成された面に、物理蒸着、
メッキ、CVD等の方法により第3図に示す如く高飽和
磁束密度材2の厚さ10JLm〜50JLm程度成膜す
る。
尚、このときブロック1が単結晶フェライトよりなる場
合は結晶方位(110)面が図中A面として示す、後の
媒体摺動面となる様にすると耐摩耗性上都合がいい。こ
こで高飽和磁束密度材としてセンダストを用いる場合、
膜2の表面がフェライト1の表面と平行かやや凸状とす
れば内部応力の発生を小さくできるものである。
合は結晶方位(110)面が図中A面として示す、後の
媒体摺動面となる様にすると耐摩耗性上都合がいい。こ
こで高飽和磁束密度材としてセンダストを用いる場合、
膜2の表面がフェライト1の表面と平行かやや凸状とす
れば内部応力の発生を小さくできるものである。
成膜後、第4図に示すように、巻線窓用の第1の溝3を
切、アルミ、銅、ニッケル、亜鉛、鉄等の細線4を溝3
に落し込み、融点が550℃〜600℃程の第1の低融
点ガラスで埋め込む、第5図では、溝を第1の低融点ガ
ラス5で埋め込んだ後、キャップ面を形成するため平面
ラップした状態を示す。平面ラップ後、第6図のようく
先ずSiO2などのギャップ材6を設計に応じ、たとえ
ば0.2〜0.37hm、続いてもう一方の磁極を形成
するための第2の金属磁性膜7をたとえば厚さ10〜5
0pm程成膜する。この場合、該磁性膜7の膜厚はラッ
プ後の磁性III 2の膜厚と一致しない様にするのが
望ましい。第7図は、ギャップ近傍のトラック幅を規制
するため、第2の溝81〜88を加工した状態を示す、
溝と溝とに挟まれたトラック幅規制部の両側面はほぼ平
行である。3層の膜2゜6.7.相互及びフェライト1
との密着性その他に難があり、溝81〜88を一度で加
工できない場合等には、トラックの右側を規制する溝と
、左側を規制する溝とを2度に分けて加工する。又、溝
を低融点ガラスで埋める際には、金属磁性膜と低融点ガ
ラスとの反応を防ぐ為、溝面に現われた金属磁性膜面上
にCr、CrO3等の金属膜、金属酸化膜を薄く成膜し
ておくと良い。第8図はトラック幅加工用の溝81〜8
5を利用し、予め用意した保護ブロック10〜12を融
点が500℃〜550℃程の第2の低融点ガラス9で溶
着した様子を示す、保護ブロックの上部、摺動面側は非
磁性材10、下部はフェライト単結晶等の高透磁率材1
1であり、2つの部材は、融点が550℃〜600℃程
の第3の低融点ガラス等の接着剤12で接着されている
。このコアブロックから点線L1゜L3で示したように
切出したチップをカセイソーダ水溶液などのアルカリ性
液あるいは塩酸等の酸性液に浸漬するなどして巻線窓用
溝に埋められた金属棒4を溶解除去し、巻線窓を形成す
る。摺動面等の外形加工を終えたヘッドチップの概略斜
視図が第1図である。
切、アルミ、銅、ニッケル、亜鉛、鉄等の細線4を溝3
に落し込み、融点が550℃〜600℃程の第1の低融
点ガラスで埋め込む、第5図では、溝を第1の低融点ガ
ラス5で埋め込んだ後、キャップ面を形成するため平面
ラップした状態を示す。平面ラップ後、第6図のようく
先ずSiO2などのギャップ材6を設計に応じ、たとえ
ば0.2〜0.37hm、続いてもう一方の磁極を形成
するための第2の金属磁性膜7をたとえば厚さ10〜5
0pm程成膜する。この場合、該磁性膜7の膜厚はラッ
プ後の磁性III 2の膜厚と一致しない様にするのが
望ましい。第7図は、ギャップ近傍のトラック幅を規制
するため、第2の溝81〜88を加工した状態を示す、
溝と溝とに挟まれたトラック幅規制部の両側面はほぼ平
行である。3層の膜2゜6.7.相互及びフェライト1
との密着性その他に難があり、溝81〜88を一度で加
工できない場合等には、トラックの右側を規制する溝と
、左側を規制する溝とを2度に分けて加工する。又、溝
を低融点ガラスで埋める際には、金属磁性膜と低融点ガ
ラスとの反応を防ぐ為、溝面に現われた金属磁性膜面上
にCr、CrO3等の金属膜、金属酸化膜を薄く成膜し
ておくと良い。第8図はトラック幅加工用の溝81〜8
5を利用し、予め用意した保護ブロック10〜12を融
点が500℃〜550℃程の第2の低融点ガラス9で溶
着した様子を示す、保護ブロックの上部、摺動面側は非
磁性材10、下部はフェライト単結晶等の高透磁率材1
1であり、2つの部材は、融点が550℃〜600℃程
の第3の低融点ガラス等の接着剤12で接着されている
。このコアブロックから点線L1゜L3で示したように
切出したチップをカセイソーダ水溶液などのアルカリ性
液あるいは塩酸等の酸性液に浸漬するなどして巻線窓用
溝に埋められた金属棒4を溶解除去し、巻線窓を形成す
る。摺動面等の外形加工を終えたヘッドチップの概略斜
視図が第1図である。
アジマス記録用のヘッドの場合は、第7図のように、ギ
ャップ長さ方向に対し垂直に切出すのではなく必要な角
度をつけて切ればよい。
ャップ長さ方向に対し垂直に切出すのではなく必要な角
度をつけて切ればよい。
また、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で、巻線窓用溝
部壁面3に数ALm程度の金属磁性膜が残存しても良い
、即ち、従来のつき合わせ工程を無くしたヘッドの製造
工程におけるように巻線窓用溝を形成した後、溝部を遮
蔽する工程を新規に導入し、その後金属磁性膜を成膜し
ても良いが、遮蔽が不充分で、巻線窓用溝部壁面に若干
の金属磁性膜が付着するのは許容されるべきである。ま
た、従来の工程のように、巻線窓用溝部にも成膜した後
、それを必要な厚さ除去しても良い。要はギャップ部を
構成する部分の膜厚より、巻線窓用溝部の膜厚が実質的
、作為的に薄くなっていれば良い。
部壁面3に数ALm程度の金属磁性膜が残存しても良い
、即ち、従来のつき合わせ工程を無くしたヘッドの製造
工程におけるように巻線窓用溝を形成した後、溝部を遮
蔽する工程を新規に導入し、その後金属磁性膜を成膜し
ても良いが、遮蔽が不充分で、巻線窓用溝部壁面に若干
の金属磁性膜が付着するのは許容されるべきである。ま
た、従来の工程のように、巻線窓用溝部にも成膜した後
、それを必要な厚さ除去しても良い。要はギャップ部を
構成する部分の膜厚より、巻線窓用溝部の膜厚が実質的
、作為的に薄くなっていれば良い。
尚、上述の製造工程に於いてトラック幅の決定方法につ
いては第1の金属磁性膜2の被着後にトラック幅規定用
の溝を加工し、更にギャップ材6を被着し、フォトリン
グラフィ等の方法で第2の金属磁性膜7をトラック幅に
合わせて形成することも可能である。
いては第1の金属磁性膜2の被着後にトラック幅規定用
の溝を加工し、更にギャップ材6を被着し、フォトリン
グラフィ等の方法で第2の金属磁性膜7をトラック幅に
合わせて形成することも可能である。
構成の一部が異なる他の実施例をヘッドの斜視図として
第9図〜第11図に示す。
第9図〜第11図に示す。
第9図のヘッドチップを第1図のヘッドチップと比較す
ると明らかなように、ギャップ材6を下部コア側にまで
形成せず、従って下部コア側で第1の金属磁性膜2の少
なくとも一部と、第2の金属磁性膜7とが直接密着する
こととなり、下部コアの磁気抵抗を下げる効果がある。
ると明らかなように、ギャップ材6を下部コア側にまで
形成せず、従って下部コア側で第1の金属磁性膜2の少
なくとも一部と、第2の金属磁性膜7とが直接密着する
こととなり、下部コアの磁気抵抗を下げる効果がある。
第10図のヘッドチップと第1図のヘッドチップの違い
は、第10図のヘッドチップでは巻線窓13のあるコア
半休の巻線窓用溝3の壁面はもとより、溝3より下側に
も金属磁性膜が形成されていない、下部コアにおいて、
磁束はギャップ7に対し垂直方向を向くが、その磁束が
変化すると、金属磁性膜中に渦電流が流れ、記録再生効
率の低下を招くからである。
は、第10図のヘッドチップでは巻線窓13のあるコア
半休の巻線窓用溝3の壁面はもとより、溝3より下側に
も金属磁性膜が形成されていない、下部コアにおいて、
磁束はギャップ7に対し垂直方向を向くが、その磁束が
変化すると、金属磁性膜中に渦電流が流れ、記録再生効
率の低下を招くからである。
第11図の実施例ではコストダウンを目的として、保護
板全体を非磁性体14で形成しである。
板全体を非磁性体14で形成しである。
以北第9〜11図に示した実施例は第1図の実施例にお
ける構成の一部分を変更したものであるが、これらを組
合わせて実施することもできる。また、たとえば第10
図のヘッドにおいて、キャップ材6を第9図のヘッドの
如く下部コア側には設けず、さらに第10図の第2の磁
極7を下部コア側にまで形成せず下部コア側では高透磁
率材1と11が直接密接するか、一体となるような構造
をとることも可能である。
ける構成の一部分を変更したものであるが、これらを組
合わせて実施することもできる。また、たとえば第10
図のヘッドにおいて、キャップ材6を第9図のヘッドの
如く下部コア側には設けず、さらに第10図の第2の磁
極7を下部コア側にまで形成せず下部コア側では高透磁
率材1と11が直接密接するか、一体となるような構造
をとることも可能である。
また本発明のすべての実施例において、高透磁率材1と
して、フェライト単結晶を用いる場合、摺動面上におけ
るフェライトの結晶方位を110面とする耐摩耗性が良
い。
して、フェライト単結晶を用いる場合、摺動面上におけ
るフェライトの結晶方位を110面とする耐摩耗性が良
い。
さらに磁極−ギャップ−磁極の層構造はそのすべである
いはその一部をフォトリソグラフィーの技術を用いて形
成することもできる。
いはその一部をフォトリソグラフィーの技術を用いて形
成することもできる。
第12図は上述した様な各実施例のヘッドに於けるコア
の先端部を示す図である。第12図に示すように、デプ
スエンドEに至るまで媒体摺動面に於ける第1の磁性膜
の形状は変化しない、即ち、使用することによって摩耗
しデプスが変化しても本実施例のヘッドは特性が安定し
ているものである。
の先端部を示す図である。第12図に示すように、デプ
スエンドEに至るまで媒体摺動面に於ける第1の磁性膜
の形状は変化しない、即ち、使用することによって摩耗
しデプスが変化しても本実施例のヘッドは特性が安定し
ているものである。
また、巻線窓用溝を有するコア半休のフェライト等、高
透磁率材上に形成する金属磁性膜の面積をできるだけ少
なくシ、ヘッド製造過程で生ずる内部応力の蓄積を少な
くした結果、金属磁性膜の膜ハガレや、フェライト、溶
着ガラスに発生するクラックが最小限におさえられ、更
に磁気ギャップに対向する部分以外の部分にも高透磁率
材に対する金属磁性膜の被着面が存在するので、トラッ
ク幅決定の際の加工を行う場合に於いても、膜はがれが
おき難く、加工歩留が飛躍的に向上するものである。
透磁率材上に形成する金属磁性膜の面積をできるだけ少
なくシ、ヘッド製造過程で生ずる内部応力の蓄積を少な
くした結果、金属磁性膜の膜ハガレや、フェライト、溶
着ガラスに発生するクラックが最小限におさえられ、更
に磁気ギャップに対向する部分以外の部分にも高透磁率
材に対する金属磁性膜の被着面が存在するので、トラッ
ク幅決定の際の加工を行う場合に於いても、膜はがれが
おき難く、加工歩留が飛躍的に向上するものである。
更に金属磁性膜とフェライトとの境界近傍への内部応力
の蓄積を最小限に抑えることができたため、前記境界に
おける磁気的不連続性も少なくなりコンタ−効果による
リップルが金属磁性It! 2と7の膜厚を異ならしめ
ればピーク−ビーク値で1〜2dB以下と実用上問題の
ないレベルにまで抑えられた。
の蓄積を最小限に抑えることができたため、前記境界に
おける磁気的不連続性も少なくなりコンタ−効果による
リップルが金属磁性It! 2と7の膜厚を異ならしめ
ればピーク−ビーク値で1〜2dB以下と実用上問題の
ないレベルにまで抑えられた。
以上説明した様に本発明の磁気ヘッドは、低コストで経
時変化に対して安定な磁気特性を有し、かつ製造時の歩
留りが良いコア構造を有するものであり、高保磁力の磁
気記録媒体に対して良好な磁気記録再生が行える磁気ヘ
ッドに対して極めて有効なものである。
時変化に対して安定な磁気特性を有し、かつ製造時の歩
留りが良いコア構造を有するものであり、高保磁力の磁
気記録媒体に対して良好な磁気記録再生が行える磁気ヘ
ッドに対して極めて有効なものである。
第1図は本発明の一実施例としての磁気ヘッド゛の構成
の概略を示す斜視図、 第2図〜第8図は第1図のヘッドの製造工程の概略を示
す図、 第9図〜第11図は夫々第1図の磁気ヘッドとは異なる
構造を有する更に他の実施例としての磁気ヘッドを示す
斜視図、 第12図は本発明の各実施例のヘッドに於けるコアの先
端部を示す図、 第13図は従来の磁気ヘッドの構造の一例を示す斜視図
、 第14図は、第13図に示すヘッドの問題点につい槃て
説明するため、コアの先端部を示す図である。 ■はフェライト単結晶などの高透磁率材ブロック、2は
第1の磁性膜としての合金磁性材などの高飽和磁束密度
材、3は巻線窓用の溝、4は金属棒、5は低融点ガラス
、6はギャップとなる絶縁膜、7は第2の磁性膜として
の合金磁性材などの高飽和磁束密度材、8はトラック幅
を規定する溝、9は低融点ガラス、13は巻線窓である
。
の概略を示す斜視図、 第2図〜第8図は第1図のヘッドの製造工程の概略を示
す図、 第9図〜第11図は夫々第1図の磁気ヘッドとは異なる
構造を有する更に他の実施例としての磁気ヘッドを示す
斜視図、 第12図は本発明の各実施例のヘッドに於けるコアの先
端部を示す図、 第13図は従来の磁気ヘッドの構造の一例を示す斜視図
、 第14図は、第13図に示すヘッドの問題点につい槃て
説明するため、コアの先端部を示す図である。 ■はフェライト単結晶などの高透磁率材ブロック、2は
第1の磁性膜としての合金磁性材などの高飽和磁束密度
材、3は巻線窓用の溝、4は金属棒、5は低融点ガラス
、6はギャップとなる絶縁膜、7は第2の磁性膜として
の合金磁性材などの高飽和磁束密度材、8はトラック幅
を規定する溝、9は低融点ガラス、13は巻線窓である
。
Claims (1)
- 巻線用溝が形成されている高透磁率材ブロックと、該ブ
ロックの前記巻線用溝の形成されている側に対し前記巻
線用溝内を除く部分の少なくとも媒体摺動面側に形成さ
れた高飽和磁束密度材によりなる第1の磁性膜と該第1
の磁性膜上に形成され磁気ギャップとなる絶縁膜と該絶
縁膜上に形成された高飽和磁束密度材よりなる第2の磁
性膜と、夫々前記絶縁膜の両端に接する一対の非磁性部
とを具え、前記ブロックの前記絶縁膜に対向する面が前
記絶縁膜と平行でかつ前記第1の磁性膜が前記一対の非
磁性材部の一方と前記ブロックとの境界に沿って延在す
ることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61174978A JP2556479B2 (ja) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | 磁気ヘツド |
US07/235,824 US4890378A (en) | 1985-08-28 | 1988-08-19 | Method for manufacturing a magnetic head core having a magnetic film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61174978A JP2556479B2 (ja) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6331009A true JPS6331009A (ja) | 1988-02-09 |
JP2556479B2 JP2556479B2 (ja) | 1996-11-20 |
Family
ID=15988075
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61174978A Expired - Fee Related JP2556479B2 (ja) | 1985-08-28 | 1986-07-25 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2556479B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5641517A (en) * | 1979-09-13 | 1981-04-18 | Hitachi Ltd | Preparation of magnetic head |
JPS60179906A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-13 | Tdk Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
JPS6134707A (ja) * | 1984-07-27 | 1986-02-19 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド |
JPS6145716U (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-26 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気ヘツド |
-
1986
- 1986-07-25 JP JP61174978A patent/JP2556479B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5641517A (en) * | 1979-09-13 | 1981-04-18 | Hitachi Ltd | Preparation of magnetic head |
JPS60179906A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-13 | Tdk Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
JPS6134707A (ja) * | 1984-07-27 | 1986-02-19 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド |
JPS6145716U (ja) * | 1984-08-22 | 1986-03-26 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気ヘツド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2556479B2 (ja) | 1996-11-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |