JPS60253011A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60253011A JPS60253011A JP11007084A JP11007084A JPS60253011A JP S60253011 A JPS60253011 A JP S60253011A JP 11007084 A JP11007084 A JP 11007084A JP 11007084 A JP11007084 A JP 11007084A JP S60253011 A JPS60253011 A JP S60253011A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- block
- magnetic material
- gap
- low melting
- magnetic
- Prior art date
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- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1272—Assembling or shaping of elements
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は磁気ヘッドの製造方法に関し、特に少なくとも
一方のコアハーフを磁性膜形成技術を用いて形成してな
る磁気ヘッドの製造方法に関する。
一方のコアハーフを磁性膜形成技術を用いて形成してな
る磁気ヘッドの製造方法に関する。
〈従来技術の説明〉
近年、磁気記録の高密度化に伴って、磁気ヘッドのへラ
ドコア層材料として高透磁率高飽和磁束密度の合金磁性
材料（例えばセンダスト）が用いられる様になってきた
。
ドコア層材料として高透磁率高飽和磁束密度の合金磁性
材料（例えばセンダスト）が用いられる様になってきた
。
ところがセンダスト等の合金磁性材料は一般にる事によ
り薄板化させることが好ましい。そのためコアの両側を
非磁性材料よりなる補強板により挾む構造とするのが一
般的であるが、その為に以下説明する如き問題が生じて
いた。
り薄板化させることが好ましい。そのためコアの両側を
非磁性材料よりなる補強板により挾む構造とするのが一
般的であるが、その為に以下説明する如き問題が生じて
いた。
第１図（イ）〜（ワ）は従来の一般的な磁気ヘッドの製
造方法を示す図である。第１図（イ）に於いて１は非磁
性材例えば８ ＋ ０２の如きガラス材よりなるブロッ
クで所定の厚さに切出されている。次に第１図（ｏｌ［
示す如くセンタスト２等の軟磁性材所定の厚ｌ＼ さ即ちトラック巾に相当する厚さのみ上記非磁性ブロッ
ク１上にスパッタ法等の公知の膜形成技術により被着せ
七め、更に磁性層２上に低融点ガラス層６を上述と同様
の膜形成技術により形成する。
造方法を示す図である。第１図（イ）に於いて１は非磁
性材例えば８ ＋ ０２の如きガラス材よりなるブロッ
クで所定の厚さに切出されている。次に第１図（ｏｌ［
示す如くセンタスト２等の軟磁性材所定の厚ｌ＼ さ即ちトラック巾に相当する厚さのみ上記非磁性ブロッ
ク１上にスパッタ法等の公知の膜形成技術により被着せ
七め、更に磁性層２上に低融点ガラス層６を上述と同様
の膜形成技術により形成する。
勧
なお磁性層２の形成をス゛バッタ法による薄膜と△
説明したが、所定の厚さのセンダスト薄板の貼付は等に
よって行ってもよい。
よって行ってもよい。
より前述の低融点ガラス層６をとかし接着することによ
り、ラミネートブロック５とする。次いで図中一点鎖点
６で示す如（一定の方向かつ一定の巾で切り出す。ここ
で角度θは最後的に得られるヘッドチップのアジマス角
に相当する角度となる。
り、ラミネートブロック５とする。次いで図中一点鎖点
６で示す如（一定の方向かつ一定の巾で切り出す。ここ
で角度θは最後的に得られるヘッドチップのアジマス角
に相当する角度となる。
この様にして得られた小ブロック７を図中矢印Ａに示す
方向より見て、更に該小ブロック７に巻線用の溝８加工
を行った様子を示す図が第１図に）である。
方向より見て、更に該小ブロック７に巻線用の溝８加工
を行った様子を示す図が第１図に）である。
次いで第１図（力ではコアハーフの突き合わせ面９匁研
摩し、更にギャップ部の非磁性スペーサー１０となる例
えばＳｉＯ２等をギヤツブ巾に相当する厚さだけ例えば
スパッタ法等により形成した様子を示している。かかる
工程で得られた小ブロック１１け第１図（へ）に示す如
（非磁性層１とセンダスト層２とが積層され、かつ巻線
用ミゾ加工Ｋ及びギャップスペーサ１０が付着した構成
になったコアハーフブロックである。該コアハ−フブロ
ック１１に第１図（ト）で示す如きコアノ・−ツブロッ
ク形成する。尚、図中１７は接合面、１８は巻線用溝を
示し、前述のブロック１２は図←→で示したブロック５
より適宜切出して形成する事は言うまでもない。
摩し、更にギャップ部の非磁性スペーサー１０となる例
えばＳｉＯ２等をギヤツブ巾に相当する厚さだけ例えば
スパッタ法等により形成した様子を示している。かかる
工程で得られた小ブロック１１け第１図（へ）に示す如
（非磁性層１とセンダスト層２とが積層され、かつ巻線
用ミゾ加工Ｋ及びギャップスペーサ１０が付着した構成
になったコアハーフブロックである。該コアハ−フブロ
ック１１に第１図（ト）で示す如きコアノ・−ツブロッ
ク形成する。尚、図中１７は接合面、１８は巻線用溝を
示し、前述のブロック１２は図←→で示したブロック５
より適宜切出して形成する事は言うまでもない。
そして、図（ホ）において破線１４にそってチップを切
り出し最後的に図（Ｉ＋）１９示すヘッドチップ１５を
得る。尚１６ａはヘッドギャップ、１８ａは巻線溝を示
す。かかる製造工程により得られたヘッドチップ１５は
以下の如き欠点を持っている。
り出し最後的に図（Ｉ＋）１９示すヘッドチップ１５を
得る。尚１６ａはヘッドギャップ、１８ａは巻線溝を示
す。かかる製造工程により得られたヘッドチップ１５は
以下の如き欠点を持っている。
即ち、まずコア・・−フ間の突き合わせ時に生じるセン
ダスト磁性層の巾方向のずれによるトラック巾精度（以
下突き合わせ精度という。）が悪い点、及びコアハーフ
間の突き合わせ接合に強度的な問題がありコアノ・−フ
間の７・ガレ（以下接合強度という）が悪（なってしま
う点がある。
ダスト磁性層の巾方向のずれによるトラック巾精度（以
下突き合わせ精度という。）が悪い点、及びコアハーフ
間の突き合わせ接合に強度的な問題がありコアノ・−フ
間の７・ガレ（以下接合強度という）が悪（なってしま
う点がある。
〈発明の目的〉
本発明は上述の如き欠点に鑑みてなされたものであって
、突き合わせ精度、接合強度共に良好な磁気ヘッドの製
造方法を提供することを目的としている。
、突き合わせ精度、接合強度共に良好な磁気ヘッドの製
造方法を提供することを目的としている。
〈実施例忙よる説明〉
以下、本発明を実施例を用いて詳しく説明するっ第２図
（イ）〜（へ）は本発明の一実施例としての磁気ヘッド
の製造方法を説明するための図である。ｒ尚第２図（イ
）に至る製造工程については第１図（イ）〜に）に示す
製造工程と同様であるとして、説明は省略する。また、
付番についても共用する。
（イ）〜（へ）は本発明の一実施例としての磁気ヘッド
の製造方法を説明するための図である。ｒ尚第２図（イ
）に至る製造工程については第１図（イ）〜に）に示す
製造工程と同様であるとして、説明は省略する。また、
付番についても共用する。
低融点ガラス１６を充填する。そしてその後第１図ｆｔ
＝）Ｋ示す工程と同様にギャップ形成面としてのコアバ
ーンの突合せ面９の研磨を行い、更にギャップスペーサ
１０をギャップ部に付着させる。
＝）Ｋ示す工程と同様にギャップ形成面としてのコアバ
ーンの突合せ面９の研磨を行い、更にギャップスペーサ
１０をギャップ部に付着させる。
この様な製造工程で得られたコアノ・−ツブロック１７
を第２図（ハ）に示す。そしてこのブロック１７のギャ
ップスペーサ１０側から、センダスト等の磁性材料を厚
膜スパッタ法等により所定の厚さ被着させ、更に整形す
ることによって第２図に）Ｋ示す如きブロックを得る。
を第２図（ハ）に示す。そしてこのブロック１７のギャ
ップスペーサ１０側から、センダスト等の磁性材料を厚
膜スパッタ法等により所定の厚さ被着させ、更に整形す
ることによって第２図に）Ｋ示す如きブロックを得る。
次いでこのブロックを第２図に）に一点鎖線に示す如（
切断し、第２図（ホ）に示す如きチップブロック２０を
得る。ここで巻線用の孔加工として、例えばレーザー加
工等により低融点ガラス１６でボンディングした部分の
み孔空は加工を行う。更に第２図（ホに一点鎖線で示す
如（これを切り出しへラドコアチップ２６を得る。
切断し、第２図（ホ）に示す如きチップブロック２０を
得る。ここで巻線用の孔加工として、例えばレーザー加
工等により低融点ガラス１６でボンディングした部分の
み孔空は加工を行う。更に第２図（ホに一点鎖線で示す
如（これを切り出しへラドコアチップ２６を得る。
上述の如き磁気ヘッドの製造方法により得たヘッドコア
チップ２６のコアハーフの片側は両側を非磁性材層１に
より補強された磁性材よりなっている。また、他方のコ
アハーフはセンダスト厚膜層より構成されている。従っ
て従来例の欠点である突合せ精度の悪さは片側のコアハ
ーフ（厚膜層よりなるコアハーフ１８）が常に他方のコ
アハー層の幅によって決定される為問題ない。
チップ２６のコアハーフの片側は両側を非磁性材層１に
より補強された磁性材よりなっている。また、他方のコ
アハーフはセンダスト厚膜層より構成されている。従っ
て従来例の欠点である突合せ精度の悪さは片側のコアハ
ーフ（厚膜層よりなるコアハーフ１８）が常に他方のコ
アハー層の幅によって決定される為問題ない。
また、「接合強度」の問題も付着力の大きいスパッタリ
ング法等にて磁性材を被着しているため解決できた。更
にアジマス角を付ける場合にも、初期の工程、即ち第１
図（／→に於ける小ブロックの切出しの際及び突合せ面
の研磨の工程で調整が可能であることは云うまでもない
。
ング法等にて磁性材を被着しているため解決できた。更
にアジマス角を付ける場合にも、初期の工程、即ち第１
図（／→に於ける小ブロックの切出しの際及び突合せ面
の研磨の工程で調整が可能であることは云うまでもない
。
く効果の説明〉
以上、実施例を用いて説明した様に本発明によればヘッ
ドのトラック幅が精度良（決定でき、かつコアハーフ間
の接合強度も強い磁気ヘッドを製造することができる。
ドのトラック幅が精度良（決定でき、かつコアハーフ間
の接合強度も強い磁気ヘッドを製造することができる。
第１図（イ）〜（す）は従来の磁気ヘッドの製造方法を
示す図、第２図（イ）〜（へ）は本発明の一実施例とし
ての磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 １は非磁性材層、２け磁性材層、７は積層コア・・−ツ
ブロック、８は巻線用溝、９社ギャップ形成面、１０は
ギャップスペーサ、１６け低融点ガラス、１８は磁性材
膜である。 出願人 キャノン株式会社
示す図、第２図（イ）〜（へ）は本発明の一実施例とし
ての磁気ヘッドの製造方法を説明するための図である。 １は非磁性材層、２け磁性材層、７は積層コア・・−ツ
ブロック、８は巻線用溝、９社ギャップ形成面、１０は
ギャップスペーサ、１６け低融点ガラス、１８は磁性材
膜である。 出願人 キャノン株式会社
Claims (1)
- 磁性材層と非磁性材層とが交互に積相されてなる積層ブ
ロックを形成する工程と、該積層ブロックに対しその積
層方向に巻線用溝を加工する工程と、該巻線用溝に低融
点ガラスを充填する工程と、該積層ブロックにギャップ
形成面を形成する工程と、該ギャップ形成面にギャップ
スペーサを被着する工程と、前記ギャップスペーサ及び
前記低融点ガラス上から磁性材膜を被着する工程と、前
記磁性材層の両側に前記非磁性材層が配される如（磁性
材膜の被着された積層ブロックを切断する工程とを含む
磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11007084A JPS60253011A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11007084A JPS60253011A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60253011A true JPS60253011A (ja) | 1985-12-13 |
| JPH0546005B2 JPH0546005B2 (ja) | 1993-07-12 |
Family
ID=14526287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11007084A Granted JPS60253011A (ja) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60253011A (ja) |
-
1984
- 1984-05-30 JP JP11007084A patent/JPS60253011A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0546005B2 (ja) | 1993-07-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |