JP2002208108A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JP2002208108A JP2002208108A JP2001002257A JP2001002257A JP2002208108A JP 2002208108 A JP2002208108 A JP 2002208108A JP 2001002257 A JP2001002257 A JP 2001002257A JP 2001002257 A JP2001002257 A JP 2001002257A JP 2002208108 A JP2002208108 A JP 2002208108A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 巻線溝の低融点ガラス内にバブルが発生せ
ず、高精度なチップ接着を歩留まりよく実現できる磁気
ヘッドの製造方法を提供する。 【解決手段】 金属磁性膜９と非磁性基板１０が交互に
積層された積層体ブロックを所定の角度で切断して一対
のコア半体プレートを作成する。少なくとも一方のコア
半体プレート１のギャップ形成面に補強溝１５ａを設
け、他方のコア半体プレート３のギャップ形成面に巻線
溝１６ａを設ける。補強溝及び巻線溝には、補強材とな
る低融点ガラスを充填する。次に、巻線溝が設けられて
いない方のコア半体プレートに金属磁性膜と直交する方
向に逃げ溝２を設ける。逃げ溝が巻線溝部のアペックス
に近接して巻線溝内に位置するよう両コア半体プレート
のギャップ面どうしを突き合わせて、ギャップドプレー
トを作成する。このギャップドプレートを用いて磁気ヘ
ッドを作成する。
ず、高精度なチップ接着を歩留まりよく実現できる磁気
ヘッドの製造方法を提供する。 【解決手段】 金属磁性膜９と非磁性基板１０が交互に
積層された積層体ブロックを所定の角度で切断して一対
のコア半体プレートを作成する。少なくとも一方のコア
半体プレート１のギャップ形成面に補強溝１５ａを設
け、他方のコア半体プレート３のギャップ形成面に巻線
溝１６ａを設ける。補強溝及び巻線溝には、補強材とな
る低融点ガラスを充填する。次に、巻線溝が設けられて
いない方のコア半体プレートに金属磁性膜と直交する方
向に逃げ溝２を設ける。逃げ溝が巻線溝部のアペックス
に近接して巻線溝内に位置するよう両コア半体プレート
のギャップ面どうしを突き合わせて、ギャップドプレー
トを作成する。このギャップドプレートを用いて磁気ヘ
ッドを作成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に対
して記録や再生を行う磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。
して記録や再生を行う磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化に伴い、磁気
ヘッドとして、非磁性基板に狭持された飽和磁束密度の
高い金属磁性層からなる磁気コアが多く利用されてい
る。この磁気コアを製造する際には、高精度なトラック
位置合わせ調整が比較的容易で且つ生産性が高いことか
ら、ギャップ形成にいたる工程まで、プレート状のコア
半体プレートでのプロセスが用いられている。
ヘッドとして、非磁性基板に狭持された飽和磁束密度の
高い金属磁性層からなる磁気コアが多く利用されてい
る。この磁気コアを製造する際には、高精度なトラック
位置合わせ調整が比較的容易で且つ生産性が高いことか
ら、ギャップ形成にいたる工程まで、プレート状のコア
半体プレートでのプロセスが用いられている。
【０００３】以下に、従来の磁気ヘッドの製造方法につ
いて説明する。まず図６に示すように、金属磁性膜９と
非磁性基板１０とを、接着材となる結晶化ガラス（図示
せず）を介して交互に積層して積層体ブロック１１を作
成し、切断線１２にて所定の角度に応じて切断して、図
７に示す一対のプレート状のコア半体プレート１３、１
４を得る。次に、図８ （ａ）に示すように、少なくと
も一方のコア半体プレートのギャップ形成面に、金属磁
性膜９と平行な方向に伸びる補強溝１５ａの加工を行
い、コア半体プレート１５を得る。また、図８（ｂ）に
示すように、一方のコア半体プレートギャップ形成面
に、金属磁性膜９と直交する方向に伸びる巻線溝１６ａ
の加工を行い、コア半体プレート１６を得る。
いて説明する。まず図６に示すように、金属磁性膜９と
非磁性基板１０とを、接着材となる結晶化ガラス（図示
せず）を介して交互に積層して積層体ブロック１１を作
成し、切断線１２にて所定の角度に応じて切断して、図
７に示す一対のプレート状のコア半体プレート１３、１
４を得る。次に、図８ （ａ）に示すように、少なくと
も一方のコア半体プレートのギャップ形成面に、金属磁
性膜９と平行な方向に伸びる補強溝１５ａの加工を行
い、コア半体プレート１５を得る。また、図８（ｂ）に
示すように、一方のコア半体プレートギャップ形成面
に、金属磁性膜９と直交する方向に伸びる巻線溝１６ａ
の加工を行い、コア半体プレート１６を得る。
【０００４】更に、図９（ａ）、（ｂ）に示すように、
低融点ガラス１８のガラスモールド、余分なガラスの除
去、ギャップ面研磨を行い、コア半体プレート１７、お
よびコア半体プレート１９を得る。更に、これらのコア
半体プレート１７、１９に、所定のギャップ長となるよ
うギャップ材を介してギャップ形成を行い、図１０に示
すギャップドプレート２０を得る。次に、切断線２１に
て短冊切断を行い、図１１に示すギャップドバー２２を
得る。更に、チップ切断を行い、図１２に示すヘッドチ
ップ２３を得る。次に、図１３に示すように、ヘッドチ
ップ２３をヘッドベース２４に接着し、ヘッドベースに
接着されたヘッドを得る。
低融点ガラス１８のガラスモールド、余分なガラスの除
去、ギャップ面研磨を行い、コア半体プレート１７、お
よびコア半体プレート１９を得る。更に、これらのコア
半体プレート１７、１９に、所定のギャップ長となるよ
うギャップ材を介してギャップ形成を行い、図１０に示
すギャップドプレート２０を得る。次に、切断線２１に
て短冊切断を行い、図１１に示すギャップドバー２２を
得る。更に、チップ切断を行い、図１２に示すヘッドチ
ップ２３を得る。次に、図１３に示すように、ヘッドチ
ップ２３をヘッドベース２４に接着し、ヘッドベースに
接着されたヘッドを得る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来技術では、以下に示すような課題を有する。
来技術では、以下に示すような課題を有する。
【０００６】従来の磁気ヘッドの構造では、コア半体プ
レート１７およびコア半体プレート１９のギャップ形成
の際、非磁性基板と補強溝および、巻き線溝に配置され
た低融点ガラス１８に、ギャップ面研磨等により偏摩耗
が生じる。そのため図１４（ａ）に示すように、コア半
体プレート１７およびコア半体プレート１９を接合した
状態で隙間２５が生じる。補強溝および、巻き線溝に配
置された低融点ガラス１８が溶融し結合する時に、巻き
線溝の低融点ガラス１８の端の方から溶融し結合するた
め、図１４（ｂ）に示すように、ギャップドプレート２
０となった時に補強溝に挟まれた金属磁性膜に相当する
巻線溝部の低融点ガラス１８内に、バブル２６を巻き込
んでいた。
レート１７およびコア半体プレート１９のギャップ形成
の際、非磁性基板と補強溝および、巻き線溝に配置され
た低融点ガラス１８に、ギャップ面研磨等により偏摩耗
が生じる。そのため図１４（ａ）に示すように、コア半
体プレート１７およびコア半体プレート１９を接合した
状態で隙間２５が生じる。補強溝および、巻き線溝に配
置された低融点ガラス１８が溶融し結合する時に、巻き
線溝の低融点ガラス１８の端の方から溶融し結合するた
め、図１４（ｂ）に示すように、ギャップドプレート２
０となった時に補強溝に挟まれた金属磁性膜に相当する
巻線溝部の低融点ガラス１８内に、バブル２６を巻き込
んでいた。
【０００７】ヘッドチップ２３をヘッドベース２４に接
着する際、巻線溝部を用いて自動認識を行うが、上記の
ように巻線溝部にバブル２６が存在すると自動認識に掛
かり難く、高精度なチップ接着が困難となる。また、バ
ブル２６が存在すると、チップ強度が低下すると言う課
題を有していた。
着する際、巻線溝部を用いて自動認識を行うが、上記の
ように巻線溝部にバブル２６が存在すると自動認識に掛
かり難く、高精度なチップ接着が困難となる。また、バ
ブル２６が存在すると、チップ強度が低下すると言う課
題を有していた。
【０００８】本発明は、上記課題を解決して、磁気ヘッ
ドの巻線溝部の低融点ガラス内にバブルが発生せず、高
精度なチップ接着を歩留まりよく容易に実現でき、また
チップ強度も強くなる磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことを目的とする。
ドの巻線溝部の低融点ガラス内にバブルが発生せず、高
精度なチップ接着を歩留まりよく容易に実現でき、また
チップ強度も強くなる磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁気ヘッドの製造方法は、以下の工程を含
む。まず、金属磁性膜と非磁性基板が交互に積層された
積層体ブロックを所定の角度で切断して一対のコア半体
プレートを作成する。次に、少なくとも一方のコア半体
プレートのギャップ形成面に金属磁性膜と平行な方向に
補強溝を設け、他方のコア半体プレートのギャップ形成
面に金属磁性膜と直交する方向に巻線溝を設ける。補強
溝及び巻線溝には、補強材となる低融点ガラスを充填す
る。このガラスモールド後に、巻線溝が設けられていな
い方のコア半体プレートに金属磁性膜と直交する方向に
逃げ溝を設ける。その後、逃げ溝が巻線溝部のアペック
スに近接して巻線溝内に位置するよう両コア半体プレー
トのギャップ面どうしを突き合わせて、ギャップドプレ
ートを作成する。そのギャップドプレートを用いて磁気
ヘッドを作成する。
に本発明の磁気ヘッドの製造方法は、以下の工程を含
む。まず、金属磁性膜と非磁性基板が交互に積層された
積層体ブロックを所定の角度で切断して一対のコア半体
プレートを作成する。次に、少なくとも一方のコア半体
プレートのギャップ形成面に金属磁性膜と平行な方向に
補強溝を設け、他方のコア半体プレートのギャップ形成
面に金属磁性膜と直交する方向に巻線溝を設ける。補強
溝及び巻線溝には、補強材となる低融点ガラスを充填す
る。このガラスモールド後に、巻線溝が設けられていな
い方のコア半体プレートに金属磁性膜と直交する方向に
逃げ溝を設ける。その後、逃げ溝が巻線溝部のアペック
スに近接して巻線溝内に位置するよう両コア半体プレー
トのギャップ面どうしを突き合わせて、ギャップドプレ
ートを作成する。そのギャップドプレートを用いて磁気
ヘッドを作成する。
【００１０】この方法によれば、ギャップ形成の際、巻
き線溝内では、コア半体プレートの巻線溝部の低融点ガ
ラスのみが溶融し、バブルを巻き込むことなくコア半体
プレートの逃げ溝と結合する。従って、巻線溝部の低融
点ガラス内にバブルが発生することが解消される。
き線溝内では、コア半体プレートの巻線溝部の低融点ガ
ラスのみが溶融し、バブルを巻き込むことなくコア半体
プレートの逃げ溝と結合する。従って、巻線溝部の低融
点ガラス内にバブルが発生することが解消される。
【００１１】上記の方法において好ましくは、金属磁性
膜は、金属層と絶縁層とを交互に積層して形成される。
膜は、金属層と絶縁層とを交互に積層して形成される。
【００１２】また、上記の方法において好ましくは、非
磁性基板として、非磁性フェライト基板を用いる。
磁性基板として、非磁性フェライト基板を用いる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。ギャップ面研磨前ま
では、従来例の図９までと同様のプロセスを行う。図１
（ａ）には、金属磁性膜９と平行な方向に補強溝１５ａ
を設けたコア半体プレート１を、図１（ｂ）には、金属
磁性膜９と直交する方向に巻線溝１６ａを設けたコア半
体プレート３を示す。
て、図面を参照しながら説明する。ギャップ面研磨前ま
では、従来例の図９までと同様のプロセスを行う。図１
（ａ）には、金属磁性膜９と平行な方向に補強溝１５ａ
を設けたコア半体プレート１を、図１（ｂ）には、金属
磁性膜９と直交する方向に巻線溝１６ａを設けたコア半
体プレート３を示す。
【００１４】次に、図１（ａ）に示すように、コア半体
プレート１に、逃げ溝２を形成する。逃げ溝２を形成す
る位置は、両コア半体プレートのギャップ面どうしを突
き合わせた時、図１（ｂ）に示すコア半体プレート３の
巻線溝１６ａ部のアペックスより下側で且つ、巻線溝１
６ａ内になる位置になるように調整する。その後、ギャ
ップ面研磨を行う。
プレート１に、逃げ溝２を形成する。逃げ溝２を形成す
る位置は、両コア半体プレートのギャップ面どうしを突
き合わせた時、図１（ｂ）に示すコア半体プレート３の
巻線溝１６ａ部のアペックスより下側で且つ、巻線溝１
６ａ内になる位置になるように調整する。その後、ギャ
ップ面研磨を行う。
【００１５】更に、従来例と同様に所定のギャップ長と
なるようギャップ材を介してギャップ形成を行い、図２
に示すギャプドプレート４を得る。次に、切断線５にて
短冊切断を行い、図３に示すギャップドバー６を得る。
更に、チップ切断を行い、図４に示すような、アペック
ス７より下側で且つ、巻き線溝内となる位置に逃げ溝２
を設けたヘッドチップを得る。
なるようギャップ材を介してギャップ形成を行い、図２
に示すギャプドプレート４を得る。次に、切断線５にて
短冊切断を行い、図３に示すギャップドバー６を得る。
更に、チップ切断を行い、図４に示すような、アペック
ス７より下側で且つ、巻き線溝内となる位置に逃げ溝２
を設けたヘッドチップを得る。
【００１６】上記のようなプロセスによれば、図５
（ａ）に示すように、補強溝側のコア半体プレート１に
逃げ溝２を設けることで、ギャップ形成の際、巻き線溝
内では、コア半体プレート３の巻線溝部の低融点ガラス
８のみが溶融し、バブルを巻き込むことなくコア半体プ
レート１の逃げ溝２と結合する。そのため、図３（ｂ）
に示すようにギャップト゛プレート６の巻線溝部の低融点
ガラス８はバブルを巻き込みにくい。
（ａ）に示すように、補強溝側のコア半体プレート１に
逃げ溝２を設けることで、ギャップ形成の際、巻き線溝
内では、コア半体プレート３の巻線溝部の低融点ガラス
８のみが溶融し、バブルを巻き込むことなくコア半体プ
レート１の逃げ溝２と結合する。そのため、図３（ｂ）
に示すようにギャップト゛プレート６の巻線溝部の低融点
ガラス８はバブルを巻き込みにくい。
【００１７】
【実施例】本実施例では、金属磁性膜９としては、Ｆｅ
ＴａＮ磁性膜を用い、非磁性基板１０としては、非磁性
単結晶フェライト基板を用いた。この実施例での結果を
下記（表１）に示す。
ＴａＮ磁性膜を用い、非磁性基板１０としては、非磁性
単結晶フェライト基板を用いた。この実施例での結果を
下記（表１）に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】表１に示す通り、バブル不良率は、従来は
９０％であったものが、本発明によれば３％まで低減で
きる。また、チップ強度（ギャップ面での破壊強度）
も、従来の１５０ｇから、本発明によれば２００ｇと強
くなった。
９０％であったものが、本発明によれば３％まで低減で
きる。また、チップ強度（ギャップ面での破壊強度）
も、従来の１５０ｇから、本発明によれば２００ｇと強
くなった。
【００２０】また上記の説明では、金属磁性膜９として
ＦｅＴａＮ磁性膜を用いた例を示したが、Ｃｏ系アモル
ファス合金やその他のＦｅ系磁性合金などを用いても同
様な効果が得られるのは言うまでもない。
ＦｅＴａＮ磁性膜を用いた例を示したが、Ｃｏ系アモル
ファス合金やその他のＦｅ系磁性合金などを用いても同
様な効果が得られるのは言うまでもない。
【００２１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、磁気ヘッ
ドの巻線溝の低融点ガラス内にバブルが発生しない。こ
のため、ヘッドチップの自動認識を精度よく行うことが
でき、高精度のチップ接着を歩留まりよく容易に実現で
きる。また、チップ強度も強くなる。
ドの巻線溝の低融点ガラス内にバブルが発生しない。こ
のため、ヘッドチップの自動認識を精度よく行うことが
でき、高精度のチップ接着を歩留まりよく容易に実現で
きる。また、チップ強度も強くなる。
【図１】本発明の一実施の形態における磁気ヘッドの製
造方法の工程を示す斜視図
造方法の工程を示す斜視図
【図２】図１の工程に続く本発明の製造方法の工程を示
す斜視図
す斜視図
【図３】図２の工程に続く本発明の製造方法の工程を示
す斜視図
す斜視図
【図４】図３の工程に続く本発明の製造方法の工程を示
す斜視図
す斜視図
【図５】本発明の製造方法による効果を説明するための
平面図
平面図
【図６】従来例の磁気ヘッドの製造方法の工程を示す斜
視図
視図
【図７】図６の工程に続く従来例の製造方法の工程を示
す斜視図
す斜視図
【図８】図７の工程に続く従来例の製造方法の工程を示
す斜視図
す斜視図
【図９】図８の工程に続く従来例の製造方法の工程を示
す斜視図
す斜視図
【図１０】図９の工程に続く従来例の製造方法の工程を
示す斜視図
示す斜視図
【図１１】図１０の工程に続く従来例の製造方法の工程
を示す斜視図
を示す斜視図
【図１２】図１１の工程に続く従来例の製造方法の工程
を示す斜視図
を示す斜視図
【図１３】図１２の工程に続く従来例の製造方法の工程
を示す斜視図
を示す斜視図
【図１４】従来例の製造方法におけるバブル発生メカニ
ズムを説明するための平面図
ズムを説明するための平面図
１ コア半体プレート ２ 低融点ガラス ３ コア半体プレート ４ ギャップドプレート ５ 切断線 ６ ギャップドバー ７ アペックス ８ 低融点ガラス ９ 金属磁性層 １０ 非磁性基板 １１ 積層体ブロック １２ 切断線 １３ コア半体プレート １４ コア半体プレート １５ コア半体プレート １５ａ 補強溝 １６ コア半体プレート １６ａ 巻き線溝 １７ コア半体プレート １８ 低融点ガラス １９ コア半体プレート ２０ ギャップドプレート ２１ 説断線 ２２ ギャップドバー ２３ ヘッドチップ ２４ ヘッドベース ２５ 隙間 ２６ バブル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5D093 AD05 BA15 BD01 HC03 JA01 JB10 5D111 AA13 BB24 BB37 FF05 FF17 FF41 GG03 HH03 JJ14 JJ32 KK11 KK20
Claims (3)
- 【請求項１】 金属磁性膜と非磁性基板が交互に積層さ
れた積層体ブロックを所定の角度で切断して一対のコア
半体プレートを作製し、少なくとも一方の前記コア半体
プレートのギャップ形成面に前記金属磁性膜と平行な方
向に補強溝を設け、他方の前記コア半体プレートのギャ
ップ形成面に前記金属磁性膜と直交する方向に巻線溝を
設け、前記補強溝及び巻線溝に補強材となる低融点ガラ
スを充填し、前記巻線溝が設けられていない方の前記コ
ア半体プレートに前記金属磁性膜と直交する方向に逃げ
溝を設け、前記逃げ溝が前記巻線溝部のアペックスに近
接して前記巻線溝内に位置するよう前記両コア半体プレ
ートのギャップ面どうしを突き合わせて、ギャップドプ
レートを作成し、そのギャップドプレートを用いて磁気
ヘッドを作成することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項２】 金属磁性膜は、金属層と絶縁層とを交互
に積層して形成されることを特徴とする請求項１記載の
磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 非磁性基板として、非磁性フェライト基
板を用いることを特徴とする請求項１または２記載の磁
気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001002257A JP2002208108A (ja) | 2001-01-10 | 2001-01-10 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001002257A JP2002208108A (ja) | 2001-01-10 | 2001-01-10 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002208108A true JP2002208108A (ja) | 2002-07-26 |
Family
ID=18870796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001002257A Pending JP2002208108A (ja) | 2001-01-10 | 2001-01-10 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002208108A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009513363A (ja) * | 2005-10-27 | 2009-04-02 | アールジーエス・ディベロップメント・ビー．ブイ． | 金属パネルに所定のパターンを製造するための方法並びに装置 |
-
2001
- 2001-01-10 JP JP2001002257A patent/JP2002208108A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009513363A (ja) * | 2005-10-27 | 2009-04-02 | アールジーエス・ディベロップメント・ビー．ブイ． | 金属パネルに所定のパターンを製造するための方法並びに装置 |
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