JPS61284814A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS61284814A JPS61284814A JP12523385A JP12523385A JPS61284814A JP S61284814 A JPS61284814 A JP S61284814A JP 12523385 A JP12523385 A JP 12523385A JP 12523385 A JP12523385 A JP 12523385A JP S61284814 A JPS61284814 A JP S61284814A
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- JP
- Japan
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- layer
- magnetic
- reinforcing plate
- substrate
- insulating layer
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発明は薄膜磁気ヘッドに係り、さらに詳しくは補強板
の接合構造を改良した薄膜磁気ヘッドに関するものであ
る。
の接合構造を改良した薄膜磁気ヘッドに関するものであ
る。
［開示の概要］
本明細書及び図面は基板側に薄膜素子部を形成し、その
上側に補強板を接着した薄膜磁気ヘッドにおいて、対向
した位置に凹部を有する基板および補強板と、それ孜れ
の四部面を覆って形成された磁性層と、基板側の磁性層
上に絶縁層を介して形成される少なくとも１層のコイル
と、記録媒体摺動面側において補強板の磁性層上に形成
されたギャップ層と、補強板と基板との間に流し込まれ
て固化される接着剤層とを設けることにより、コイル及
び絶縁層の表面を平坦化することが可能となり、磁気抵
抗が低く、磁気効率及び生産性が向ヒすると共に、記録
媒体摺動面側の偏摩耗を防止することができる薄膜磁気
ヘッドを提供する技術を開示するものである。
上側に補強板を接着した薄膜磁気ヘッドにおいて、対向
した位置に凹部を有する基板および補強板と、それ孜れ
の四部面を覆って形成された磁性層と、基板側の磁性層
上に絶縁層を介して形成される少なくとも１層のコイル
と、記録媒体摺動面側において補強板の磁性層上に形成
されたギャップ層と、補強板と基板との間に流し込まれ
て固化される接着剤層とを設けることにより、コイル及
び絶縁層の表面を平坦化することが可能となり、磁気抵
抗が低く、磁気効率及び生産性が向ヒすると共に、記録
媒体摺動面側の偏摩耗を防止することができる薄膜磁気
ヘッドを提供する技術を開示するものである。
［従来の技術］
薄膜磁気ヘッドはＩＣの製造技術と同様な薄膜堆積法と
、フォトリングラフィ技術によってコイル部分や磁性層
を形成する構造を採用しているため、小型で精密であり
、大量生産に適し、マルチトラック化も極めて容易に実
現することができる。
、フォトリングラフィ技術によってコイル部分や磁性層
を形成する構造を採用しているため、小型で精密であり
、大量生産に適し、マルチトラック化も極めて容易に実
現することができる。
この種の薄膜磁気ヘッドは例えばフェライト基板上にギ
ャップ層を形成し、その上に絶縁層やコイル部分を順次
積層して形成し、これらの上に絶縁層を介してパーマロ
イ等によりヨーク部を構成する磁性層を形成し、さらに
これらの上側に５ｉ０２等で保護層を形成する。
ャップ層を形成し、その上に絶縁層やコイル部分を順次
積層して形成し、これらの上に絶縁層を介してパーマロ
イ等によりヨーク部を構成する磁性層を形成し、さらに
これらの上側に５ｉ０２等で保護層を形成する。
そして、さらに薄膜素子部分を保護及び補強するために
、補強板を無機及び有機の接着剤により接合し、基板と
ともにサンドイッチ構造としている。
、補強板を無機及び有機の接着剤により接合し、基板と
ともにサンドイッチ構造としている。
このような構造を有する薄膜磁気ヘッドは磁気記録媒体
摺動面（以下、Ｗ！動面と略称する）側における接着剤
の厚さが薄膜素子の高さ以上となってしまい、次のよう
な欠点が生じる。
摺動面（以下、Ｗ！動面と略称する）側における接着剤
の厚さが薄膜素子の高さ以上となってしまい、次のよう
な欠点が生じる。
（１）摺動面側に臨まされる薄膜素子や接着剤等の各々
が異なった摩耗度を有するため偏摩耗が発生する。特に
接着剤層の摩耗が激しく、この結果スペーシングロスに
より記録及び再生効率が著しく悪化する。
が異なった摩耗度を有するため偏摩耗が発生する。特に
接着剤層の摩耗が激しく、この結果スペーシングロスに
より記録及び再生効率が著しく悪化する。
（２）接着剤層が偏摩耗すると、基板や補強板との間に
段差ができ、この段差中に塵埃や媒体の磁Ｐ１粉がたま
り、これらが大きな固りとなって媒体や摺動面に傷を付
ける原因となる。
段差ができ、この段差中に塵埃や媒体の磁Ｐ１粉がたま
り、これらが大きな固りとなって媒体や摺動面に傷を付
ける原因となる。
（３）接合に無機接着剤を用いた場合には気泡が多く発
生し、これらが摺動面側に位置する場合が多くヘッドが
不良品となる原因をなす。
生し、これらが摺動面側に位置する場合が多くヘッドが
不良品となる原因をなす。
（４）また薄膜素子を形成する時、凹凸が生じ。
以後のエツチング処理等が困難となり、プロセスが複雑
となってしまう。そして、磁性材からなるヨーク部分も
凹凸となるため磁気抵抗が増加し、磁気効率が低下して
しまう原因となる。
となってしまう。そして、磁性材からなるヨーク部分も
凹凸となるため磁気抵抗が増加し、磁気効率が低下して
しまう原因となる。
］−述したような欠点を除去するために各種の技術が提
案されている。そのいくつかの例を第４図及び第５図に
示す。
案されている。そのいくつかの例を第４図及び第５図に
示す。
第４図に示す例は搏動面側に滑り易い材料からなるブロ
ックを設けている。
ックを設けている。
即ち、第１図において符号■で示すものは基板−で、そ
の上にギャップ層７が形成され、その１−側に電極を含
む１層目のコイル４が形成され、その北側に絶縁層５を
介して２層目のコイル４ａが形成されている。
の上にギャップ層７が形成され、その１−側に電極を含
む１層目のコイル４が形成され、その北側に絶縁層５を
介して２層目のコイル４ａが形成されている。
そして、２層目のコイル４ａの上側に絶縁層５を介して
ヨーク部を構成する磁性層６が形成されている。
ヨーク部を構成する磁性層６が形成されている。
この磁性層６の上側には図示を省略したが保護層が形成
される。
される。
このようにして得られた薄膜素子部分を有する基板上に
接着剤となる低融点ガラス層３を介して補強板２が接合
される。
接着剤となる低融点ガラス層３を介して補強板２が接合
される。
そして、摺動面８側に滑り易い材料からなるブロック９
が低融点ガラス層３内に埋設されている。
が低融点ガラス層３内に埋設されている。
矢印は媒体の移動方向を示す。
Ｆ述したような構造では摺動面側にブロック９が存在し
、低融点ガラス層３の摺動面側に臨まされる部分が少な
いため、偏摩耗する低融点ガラス層３が少なく、媒体を
滑り易くすることができる。
、低融点ガラス層３の摺動面側に臨まされる部分が少な
いため、偏摩耗する低融点ガラス層３が少なく、媒体を
滑り易くすることができる。
しかし、このような構造を採用しても接着剤である低融
点ガラス層は摺動面側に出ており、わずかであっても偏
摩耗は生じる。
点ガラス層は摺動面側に出ており、わずかであっても偏
摩耗は生じる。
一方、第５図に示す例にあっては補強板２側に四部２ａ
を形成し、この四部２ａ中に薄膜素子部分を嵌合させ、
接着剤である低融点ガラス層３が摺動面側に臨まされる
部分を極めて薄くしである。
を形成し、この四部２ａ中に薄膜素子部分を嵌合させ、
接着剤である低融点ガラス層３が摺動面側に臨まされる
部分を極めて薄くしである。
しかし、前述した例と同様に偏摩耗する部分を完全にな
くすることはできなかった。
くすることはできなかった。
［発明が解決しようとする問題点］
１；述した例に共通して言えることは偏摩耗が完全に解
決できない他に薄膜素子側との位置合せか低融点ガラス
等の接着剤層を介して行なわれるた □め、粘度
が出す、作業が極めて困難となる。
決できない他に薄膜素子側との位置合せか低融点ガラス
等の接着剤層を介して行なわれるた □め、粘度
が出す、作業が極めて困難となる。
また、無機接着剤は補強板を加圧した状７１ａｉで加
□熱が行なわれるため、加熱する前の加圧によっ
て薄膜素子に大きな力が加わり素子が破壊されるという
欠点がある。
□熱が行なわれるため、加熱する前の加圧によっ
て薄膜素子に大きな力が加わり素子が破壊されるという
欠点がある。
本発明は以−１−のような従来の欠点を除去するために
成されたもので偏摩耗が、生じないようにするとともに
、ヨークを構成する磁性層の凹凸をなくシ、磁気抵抗を
下げ磁気効率を向」〕させることができる薄膜磁気ヘッ
ドを提供することを目的としている。
成されたもので偏摩耗が、生じないようにするとともに
、ヨークを構成する磁性層の凹凸をなくシ、磁気抵抗を
下げ磁気効率を向」〕させることができる薄膜磁気ヘッ
ドを提供することを目的としている。
［問題点を解決するための手段］
かかる目的下に於いて本発明の薄膜磁気ヘッドに於いて
は対向した位置に段付きの凹部を有する基板および補強
板と、それぞれの段付きの凹部面を覆って形成された磁
性層と、基板側の磁性層上に絶縁層を介して形成される
少なくとも１層のコイルと、記録媒体摺動面側において
補強板の磁性層上に形成されたギャップ層と、補強板と
基板との間に流し込まれて固化される接着剤層とからな
る構成としている。
は対向した位置に段付きの凹部を有する基板および補強
板と、それぞれの段付きの凹部面を覆って形成された磁
性層と、基板側の磁性層上に絶縁層を介して形成される
少なくとも１層のコイルと、記録媒体摺動面側において
補強板の磁性層上に形成されたギャップ層と、補強板と
基板との間に流し込まれて固化される接着剤層とからな
る構成としている。
［作 用］
上述の如く構成することによって、接着剤層が摺動面側
には臨まず、かつコイル及び絶縁層の表面を平坦化する
ことが可能となり、これらに伴い磁気抵抗が低く、磁気
効率及び生産性が向上すると共に、記録媒体摺動面側の
偏摩耗を防止できるものである。
には臨まず、かつコイル及び絶縁層の表面を平坦化する
ことが可能となり、これらに伴い磁気抵抗が低く、磁気
効率及び生産性が向上すると共に、記録媒体摺動面側の
偏摩耗を防止できるものである。
［実施例］
以ド、図面に示す実施例にＪＱづいて本発明の詳細な説
明する。
明する。
第３図は本発明の一実施例を説明するもので。
図中第１図及び第２図と同一部分または相当する部分に
は同一符号を付し、その説明は省略する。
は同一符号を付し、その説明は省略する。
本実施例にあっては、基板ｌと補強板２はセラミックが
用いられており、両者の対向する位置には各々四部１ａ
、２ａがエツチングあるいはダイヤモンドカ７夕等で形
成されている。
用いられており、両者の対向する位置には各々四部１ａ
、２ａがエツチングあるいはダイヤモンドカ７夕等で形
成されている。
そして、凹部１ａ側には摺動面側に露出しない状態で磁
性層６がセンダストやＦｅ−Ｎｉあるいはアモルファス
を用いて形成されている。
性層６がセンダストやＦｅ−Ｎｉあるいはアモルファス
を用いて形成されている。
また、補強板２側には四部２ａをも含めて摺動面側に露
出する状態で上述したと同様な磁性層（ヨーク）６ａが
形成されている。
出する状態で上述したと同様な磁性層（ヨーク）６ａが
形成されている。
四部１ａは段付きの溝であり、これを形成するには基板
１にレジストを塗布し、下側の溝のパターンを形成し、
さらにその上にレジストを塗布して２段目の周パターン
を形成し、ドライエツチングで２段の溝を形成する。
１にレジストを塗布し、下側の溝のパターンを形成し、
さらにその上にレジストを塗布して２段目の周パターン
を形成し、ドライエツチングで２段の溝を形成する。
一方、磁性層６の上側には５ｉ０２等からなる絶縁層５
を形成した後、その上側に１層目のコイル４を形成し、
その上面を研磨する。
を形成した後、その上側に１層目のコイル４を形成し、
その上面を研磨する。
この研磨はケミカル研磨によって行なわれる。
さらにその上側に絶縁層５を形成し、その上面をケミカ
ル研磨することにより、磁性層６の補強板２側の突き合
わせ面により１００Ａ〜５００Ａ程度低くする。この結
果、ギャップ層７と磁性層６の突き合わせが確実に行な
われる。
ル研磨することにより、磁性層６の補強板２側の突き合
わせ面により１００Ａ〜５００Ａ程度低くする。この結
果、ギャップ層７と磁性層６の突き合わせが確実に行な
われる。
次に平坦に研磨された絶縁層５の」−側に２段目のコイ
ル４ａを形成し、その一部を１段目のコイル４と図示し
ていない位置で接続する。
ル４ａを形成し、その一部を１段目のコイル４と図示し
ていない位置で接続する。
つづいてコイル４ａの上側に絶縁層５を形成する。
一方、補強板２はヨークとなる磁性層６ａを形成したの
ち、その表面を研磨して平坦にした後。
ち、その表面を研磨して平坦にした後。
５ｉ０２を ０．１〜 Ｉｐｍ程度形成し、ギャップ層
７とする。
７とする。
そして、補強板２を基板ｌヒに重ね、低融点ガラス３に
より両者を接着するが、この接着は第２図および第３図
に示すようにして行なわれる。
より両者を接着するが、この接着は第２図および第３図
に示すようにして行なわれる。
即ち、ヘッドの製造は連続した基板１と補強板２とを用
いて複ａ１度に行なわれ、第１図に示したような薄膜素
子部が一定間隔で形成される。
いて複ａ１度に行なわれ、第１図に示したような薄膜素
子部が一定間隔で形成される。
一方、補強板２は第２図（Ａ）、（Ｂ）に示すように櫛
歯状に切欠部２ｂが形成されており、兵の切欠部２ｂ中
に低融点ガラスブロー、り３ａが嵌合され、補強板２の
後側縁側には大きなガラスブロック３ｂが配置される。
歯状に切欠部２ｂが形成されており、兵の切欠部２ｂ中
に低融点ガラスブロー、り３ａが嵌合され、補強板２の
後側縁側には大きなガラスブロック３ｂが配置される。
この状態で治具１０，１０（一方は省略）で基板ｌと補
強板２を挾み、確実に固定し、加圧端子１１により補強
板２を加圧し、しかる後、真空加熱することにより低融
点ガラスブロック３ａ。
強板２を挾み、確実に固定し、加圧端子１１により補強
板２を加圧し、しかる後、真空加熱することにより低融
点ガラスブロック３ａ。
３ｂを溶かし、第１図に符号３で示すように基板ｌと補
強板２どの間に低融点ガラスを流し込み、接着を完了さ
せ、しかる後第２図（Ｂ）に点線で示す位置から切断し
、仕上り加工を行なって薄膜磁気ヘッドを得る。
強板２どの間に低融点ガラスを流し込み、接着を完了さ
せ、しかる後第２図（Ｂ）に点線で示す位置から切断し
、仕上り加工を行なって薄膜磁気ヘッドを得る。
本実施例は以北のように構成されているため。
ヨークとなる上側に磁性層６ａを平坦化し、凹凸をなく
すことができ、磁気抵抗を下げ、ヘッドの磁気効率を向
上させることができる。
すことができ、磁気抵抗を下げ、ヘッドの磁気効率を向
上させることができる。
また、１層目のコイル４を覆う絶縁層５を形成した後、
その表面を研磨して平坦化しているため、２層目のコイ
ル形成が容易となり、歩留りと量産性の向上が得られる
。
その表面を研磨して平坦化しているため、２層目のコイ
ル形成が容易となり、歩留りと量産性の向上が得られる
。
［効 果］
以上の説明から明かなように、本発明によれば、基板お
よび補強板の対向する位置に四部を形成し、これら凹部
面を覆って磁性層を形成しており、上側（補強板側）の
磁性層の表面を平坦化でき、基板側に形成されたコイル
を覆う絶縁層をも平坦化することが可能であるため、磁
気抵抗を下げ、ヘッドの磁気効率を向上させることがで
き。
よび補強板の対向する位置に四部を形成し、これら凹部
面を覆って磁性層を形成しており、上側（補強板側）の
磁性層の表面を平坦化でき、基板側に形成されたコイル
を覆う絶縁層をも平坦化することが可能であるため、磁
気抵抗を下げ、ヘッドの磁気効率を向上させることがで
き。
かつコイルの形成が容易となり、歩留りと生産性が向上
する。
する。
また、接着剤は摺動面側に露出していないため、従来の
ような偏摩耗は生じない。
ような偏摩耗は生じない。
第１図〜第３図は本発明の一実施例を説明するもので、
第１図は一部拡大断面図、第２図（Ａ）、（Ｂ）は製造
方法を説明する側面図およびＹ面図、第３図は第２図（
Ｂ）のＡ−Ａ線断面図、第４図および第５図はそれぞれ
異なった従来構造を説明する一部拡大断面図である。 １・・・基板 ２・・・補強板３・・・低融
点ガラス ４．４ａ・・・コイル５・・・絶縁層
６．６ａ・・・磁性層７・・・ギャップ層 ２ ６ａ ２ａ ３ 菟１図 （Ａ） （Ｂ）第２図 第３図
第１図は一部拡大断面図、第２図（Ａ）、（Ｂ）は製造
方法を説明する側面図およびＹ面図、第３図は第２図（
Ｂ）のＡ−Ａ線断面図、第４図および第５図はそれぞれ
異なった従来構造を説明する一部拡大断面図である。 １・・・基板 ２・・・補強板３・・・低融
点ガラス ４．４ａ・・・コイル５・・・絶縁層
６．６ａ・・・磁性層７・・・ギャップ層 ２ ６ａ ２ａ ３ 菟１図 （Ａ） （Ｂ）第２図 第３図
Claims (1)
- 対向した位置に凹部を有する基板および補強板と、それ
ぞれの凹部面を覆って形成された磁性層と、基板側の磁
性層上に絶縁層を介して形成される少なくとも１層のコ
イルと、記録媒体摺動面側において補強板の磁性層上に
形成されたギャップ層と、補強板と基板との間に流し込
まれて固化される接着剤層とからなることを特徴とする
薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12523385A JPS61284814A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12523385A JPS61284814A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61284814A true JPS61284814A (ja) | 1986-12-15 |
Family
ID=14905104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12523385A Pending JPS61284814A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61284814A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4972287A (en) * | 1987-07-01 | 1990-11-20 | Digital Equipment Corp. | Having a solenoidal energizing coil |
| US4985985A (en) * | 1987-07-01 | 1991-01-22 | Digital Equipment Corporation | Solenoidal thin film read/write head for computer mass storage device and method of making same |
| EP0894319A1 (en) * | 1996-04-18 | 1999-02-03 | Storage Technology Corporation | Thin film tape head with reduced pole-tip recession |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5778613A (en) * | 1980-10-30 | 1982-05-17 | Canon Inc | Thin film magnetic head and its manufacture |
| JPS58108017A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-28 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS59140618A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-13 | Nec Home Electronics Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
-
1985
- 1985-06-11 JP JP12523385A patent/JPS61284814A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5778613A (en) * | 1980-10-30 | 1982-05-17 | Canon Inc | Thin film magnetic head and its manufacture |
| JPS58108017A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-28 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS59140618A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-13 | Nec Home Electronics Ltd | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4972287A (en) * | 1987-07-01 | 1990-11-20 | Digital Equipment Corp. | Having a solenoidal energizing coil |
| US4985985A (en) * | 1987-07-01 | 1991-01-22 | Digital Equipment Corporation | Solenoidal thin film read/write head for computer mass storage device and method of making same |
| EP0894319A1 (en) * | 1996-04-18 | 1999-02-03 | Storage Technology Corporation | Thin film tape head with reduced pole-tip recession |
| EP0894319A4 (en) * | 1996-04-18 | 1999-09-15 | Storage Technology Corp | THIN FILM RECORDING HEAD HAVING BOUNDARY HOLLOW BETWEEN THE POLAR PIECES |
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