JPS6161212A - 磁気ヘツドコアの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドコアの製造方法Info
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- JPS6161212A JPS6161212A JP18331084A JP18331084A JPS6161212A JP S6161212 A JPS6161212 A JP S6161212A JP 18331084 A JP18331084 A JP 18331084A JP 18331084 A JP18331084 A JP 18331084A JP S6161212 A JPS6161212 A JP S6161212A
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- Japan
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は軟磁性金属薄膜を用いた磁気ヘッドコアの製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
〈従来技術〉
磁気記録技術の分野における最近の記録密度の向上は著
しく、これに伴なって電磁変換素子としての磁気ヘッド
に対する狭トラツク化及びコア材料の飽和°磁化の増大
化並びに高周波領域における透磁率の改善率の改善とい
った要求が高まっている。従来、磁気ヘッドのコア部材
は第２図に示す様なフェライトあるいはセ／ダスをブロ
ック状に切り出し、ダイシングブレード等でトランク幅
の規制を行なうための溝ｌとコイル巻線の溝２を加工形
成したものであった。しかし、３０μｍ以下の狭トラツ
クを形成するとなると、トラック幅規制のための溝ｌの
間隔が狭くなるためにトラック雇の精度やトラック幅部
分３のチッピングによる形状不良が発生するという問題
が生じてくる。一方、この問題に対してセンダストやア
モルファス等をコア材として使う場合には樹脂を用いて
、超急冷薄帯をガラス等の非磁性基板で挾み込んでコア
を形成する方法やガラス等の非磁性基板上にこれらの金
属をスパッタリングで形成した後に樹脂全周いて他方の
非磁性基板を堆積して挾み込むことによりコアを形成す
る方法が採られている。これらの方法ではコアのトラッ
ク部分を所定トラック幅に相当する厚みを有する薄板で
形成するかあるいはスパッタリングによってトラック幅
に相当する膜厚を形成すればよくトランク幅を規制する
加工が除外される点で上記、ブロック状のコア材を用い
た場合に生ずる問題は解決される。しかし、樹脂を接合
材として薄板あるいは薄膜を非磁性基板で挾み込む際に
は新たに次の様な問題が生ずる。
しく、これに伴なって電磁変換素子としての磁気ヘッド
に対する狭トラツク化及びコア材料の飽和°磁化の増大
化並びに高周波領域における透磁率の改善率の改善とい
った要求が高まっている。従来、磁気ヘッドのコア部材
は第２図に示す様なフェライトあるいはセ／ダスをブロ
ック状に切り出し、ダイシングブレード等でトランク幅
の規制を行なうための溝ｌとコイル巻線の溝２を加工形
成したものであった。しかし、３０μｍ以下の狭トラツ
クを形成するとなると、トラック幅規制のための溝ｌの
間隔が狭くなるためにトラック雇の精度やトラック幅部
分３のチッピングによる形状不良が発生するという問題
が生じてくる。一方、この問題に対してセンダストやア
モルファス等をコア材として使う場合には樹脂を用いて
、超急冷薄帯をガラス等の非磁性基板で挾み込んでコア
を形成する方法やガラス等の非磁性基板上にこれらの金
属をスパッタリングで形成した後に樹脂全周いて他方の
非磁性基板を堆積して挾み込むことによりコアを形成す
る方法が採られている。これらの方法ではコアのトラッ
ク部分を所定トラック幅に相当する厚みを有する薄板で
形成するかあるいはスパッタリングによってトラック幅
に相当する膜厚を形成すればよくトランク幅を規制する
加工が除外される点で上記、ブロック状のコア材を用い
た場合に生ずる問題は解決される。しかし、樹脂を接合
材として薄板あるいは薄膜を非磁性基板で挾み込む際に
は新たに次の様な問題が生ずる。
（１） 超急冷薄帯の場合は、表面の凹凸及び平担性
が悪いために一様な接合が困難である。
が悪いために一様な接合が困難である。
（２）スパッタリングによる成膜の場合には、表面の凹
凸は微小であるが膜の内部応力により、成膜した基板に
反りを生ずるため面全体で一様な接合が得られ難い。
凸は微小であるが膜の内部応力により、成膜した基板に
反りを生ずるため面全体で一様な接合が得られ難い。
（３）外力で矯正しながら接着を行なうと樹脂による接
合層の大きさが不均一になったりあるいは厚さ１μｍ以
上の接合層を形成しこれが原因となってコアの研磨や、
ヘッド形成後の記録媒体摺動に対して異常に凹になって
しまうことがある。
合層の大きさが不均一になったりあるいは厚さ１μｍ以
上の接合層を形成しこれが原因となってコアの研磨や、
ヘッド形成後の記録媒体摺動に対して異常に凹になって
しまうことがある。
（４）樹脂を用いるため磁気的ギャップを形成する際に
ガラス装置の方法が用いられない。
ガラス装置の方法が用いられない。
（５）樹脂を用いることで、研磨加工後コアのアニール
処理を行なうことができない。
処理を行なうことができない。
（６）樹脂の吸湿性や、膜の内部応力によって時間とと
もに接合面が剥離することがある。
もに接合面が剥離することがある。
又、接合材として低融点ガラスのモールドやスパッタリ
ングによる接合層としての低融点ガラス層を形成する手
法もあるが上記に示した被接合面の凹凸や平担性の影響
で面全体での均一な接合は困難である。
ングによる接合層としての低融点ガラス層を形成する手
法もあるが上記に示した被接合面の凹凸や平担性の影響
で面全体での均一な接合は困難である。
〈目 的〉
本発明は、上記従来技術の欠点を解消する為になされた
ものであり、軟磁性金属薄膜（又は薄板〕上に予じめガ
ラスとのなじみの良い５ｉＯｚ６るいはＡｔ２０３等の
酸化膜を形成し、接合材として低融点ガラス材を用いて
適当な熱処理を施すことにより上記金属薄膜と非磁性基
板を均一に接合して信頼性の高い磁気ヘッドのコアを作
製する新規有用な磁気ヘッドコアの製造方法全提供する
こと全目的とする。
ものであり、軟磁性金属薄膜（又は薄板〕上に予じめガ
ラスとのなじみの良い５ｉＯｚ６るいはＡｔ２０３等の
酸化膜を形成し、接合材として低融点ガラス材を用いて
適当な熱処理を施すことにより上記金属薄膜と非磁性基
板を均一に接合して信頼性の高い磁気ヘッドのコアを作
製する新規有用な磁気ヘッドコアの製造方法全提供する
こと全目的とする。
〈実施例〉
本発明者等は特願昭５８−１１０４１号及び特願昭５８
−１９９７２７号にて、すでに提案した様に電子ビーム
蒸着法による、鉄−硅素−アルミニウム系の高透磁率合
金膜の製造方法を確立しているが、以下の実施例はこの
方法を用いて説明する。
−１９９７２７号にて、すでに提案した様に電子ビーム
蒸着法による、鉄−硅素−アルミニウム系の高透磁率合
金膜の製造方法を確立しているが、以下の実施例はこの
方法を用いて説明する。
第１図（八（Ｂ）は本発明の１実施例？示す磁気ヘッド
コアの工程説明図である。
コアの工程説明図である。
非磁性基板４上に電子ビーム蒸着により、鉄。
硅素及びアルミニウム合金膜（以下Ｆｅ−３ｉ −Ａｔ
膜と記す〕５を形成する。本実施例では渦電流による高
周波での膜の透磁率の低下を防ぐため、Ｆｅ−５ｉ−Ａ
ｔ膜５に重畳して５ｉ０２やＡノア０３等の酸化膜を中
間層６として介設している。１１２１Ｊも同一真空中で
４層のＦｅ−５ｉ−Ａｔ膜５とその間に挿入される３層
の中間層６と全交互に堆積してラミネート構造の薄膜コ
アを形成している。又非磁性基板４の材料としてＹ’ｉ
Ｆ ｅ −５１−Ａｔ膜５との熱膨張係数αの整合性
を考慮してα）Ｉ ３０Ｘ Ｉ Ｏ’／ｄｅｇの結晶化
ガラスを用いた。最上層のＦｅ５ｉ−Ａｔ膜ｓ上にｎ
Ｓ ｉ Ｏ２又はＡｔ２０３等の酸化膜から成るパッシ
ベーション膜７を数μｍ程度の厚さに堆積する。パッシ
ベーション膜７は耐摩耗性と低融点ガラスとの相互拡散
による融合を加味して設けられるものであり、サブミク
ロン程度の厚さでも充分である。パッシベーション膜７
上には高周波スパッタリング法によりＰｂ−３ｉＯ，＋
−アルカリ金属系の低融点ガラス＄８を被覆する。低融
点ガラス膜８け後述する低融点ガラスシートとのなじみ
金より一層良好にする目的で設けられるものであるが必
ずしも必要なものではない。Ｆｅ−５ｉ−Ａｔ膜５［６
００°Ｃの熱処理で磁気特性が回復することが判明して
いるので接合材１０としてガラスの特性における屈伏点
温度が５００〜５４０°Ｃ１軟化点温度が６２０〜６５
０″Ｃ１熱膨張係数が１３０− Ｉ ５０Ｘ １０
’／ｄｅｇのＳ ｉ Ｏ２−Ａ Ｉ４０３アルカリ金属
系ガラス／−トヲ用いる。次にｇ！ｊＩ図（島に示す如
くプレス治具９の間に第１図（Ａ）に示す構造を有する
基板と接合材１０を重畳挿入して加圧しＮ２雰囲気中で
６００°Ｃ３０分以上の熱処理を施す。この場合、熱処
理時間が過度に長くなると接合材１０の接合界面からの
発泡が接合材ＩＯの低融点ガラスシート中に生じるので
適度に熱処理時間を設定する。この加圧熱処理によ！１
ｌＦｅ−５ｉ−Ａｔ１ｌＦｅ−５ｉ−Ａ成膜５が結晶化
ガラスから成る非磁性基板４と非磁性低融点ガラスシー
トの接合材ＩＯに挾み込まれた構造が得られる。パッシ
ベーンヨン膜７と接合材１０は界面で良好に相互拡散し
て安定な溶着状態を維持している。また従来みられたよ
うな厚さの顕著な接合層も存在しない。さらに、Ｆｅ−
５ｉ−Ａｔ成膜に数μｍから十数μｍの凹凸がある場合
でもこれを吸収して面全体で均一な接合を得ることがで
きる。これらは光学顕微鏡を用いた組織の観察により確
かめられた。軟磁性金属薄膜のアニール効果が確認され
ている場合ににそのアニール温度が接合材１０としての
ガラスの屈伏点より大きなガラス材を選択することでコ
ア部材の接合と軟磁性金属薄膜のアニール処理を同時に
行なうことができる。Ｆｅ−３ｉ−Ａｔ 膜５のアニー
ル効果を説明するために、熱処理前後におけるＢ−Ｈ（
磁束密度対印加磁界）特性を第３図に示す。ｔｌは熱処
理前、ｔｌは熱処理後のＢ−Ｈループ曲線である。また
、予め熱処理を施したＦ ｅ −５１−Ａｔ成膜を用い
た場合でも接合のだめの熱処理によりＦｅ５ｉ−ＡＡＡ
ｃ１Ｂ−Ｈ特性にはほとんど変化が生じない。これを第
４図に示す。ｔ３は熱処理前、１−４ｆ′ｉ熱処理後の
Ｂ−Ｈループ曲線である。
膜と記す〕５を形成する。本実施例では渦電流による高
周波での膜の透磁率の低下を防ぐため、Ｆｅ−５ｉ−Ａ
ｔ膜５に重畳して５ｉ０２やＡノア０３等の酸化膜を中
間層６として介設している。１１２１Ｊも同一真空中で
４層のＦｅ−５ｉ−Ａｔ膜５とその間に挿入される３層
の中間層６と全交互に堆積してラミネート構造の薄膜コ
アを形成している。又非磁性基板４の材料としてＹ’ｉ
Ｆ ｅ −５１−Ａｔ膜５との熱膨張係数αの整合性
を考慮してα）Ｉ ３０Ｘ Ｉ Ｏ’／ｄｅｇの結晶化
ガラスを用いた。最上層のＦｅ５ｉ−Ａｔ膜ｓ上にｎ
Ｓ ｉ Ｏ２又はＡｔ２０３等の酸化膜から成るパッシ
ベーション膜７を数μｍ程度の厚さに堆積する。パッシ
ベーション膜７は耐摩耗性と低融点ガラスとの相互拡散
による融合を加味して設けられるものであり、サブミク
ロン程度の厚さでも充分である。パッシベーション膜７
上には高周波スパッタリング法によりＰｂ−３ｉＯ，＋
−アルカリ金属系の低融点ガラス＄８を被覆する。低融
点ガラス膜８け後述する低融点ガラスシートとのなじみ
金より一層良好にする目的で設けられるものであるが必
ずしも必要なものではない。Ｆｅ−５ｉ−Ａｔ膜５［６
００°Ｃの熱処理で磁気特性が回復することが判明して
いるので接合材１０としてガラスの特性における屈伏点
温度が５００〜５４０°Ｃ１軟化点温度が６２０〜６５
０″Ｃ１熱膨張係数が１３０− Ｉ ５０Ｘ １０
’／ｄｅｇのＳ ｉ Ｏ２−Ａ Ｉ４０３アルカリ金属
系ガラス／−トヲ用いる。次にｇ！ｊＩ図（島に示す如
くプレス治具９の間に第１図（Ａ）に示す構造を有する
基板と接合材１０を重畳挿入して加圧しＮ２雰囲気中で
６００°Ｃ３０分以上の熱処理を施す。この場合、熱処
理時間が過度に長くなると接合材１０の接合界面からの
発泡が接合材ＩＯの低融点ガラスシート中に生じるので
適度に熱処理時間を設定する。この加圧熱処理によ！１
ｌＦｅ−５ｉ−Ａｔ１ｌＦｅ−５ｉ−Ａ成膜５が結晶化
ガラスから成る非磁性基板４と非磁性低融点ガラスシー
トの接合材ＩＯに挾み込まれた構造が得られる。パッシ
ベーンヨン膜７と接合材１０は界面で良好に相互拡散し
て安定な溶着状態を維持している。また従来みられたよ
うな厚さの顕著な接合層も存在しない。さらに、Ｆｅ−
５ｉ−Ａｔ成膜に数μｍから十数μｍの凹凸がある場合
でもこれを吸収して面全体で均一な接合を得ることがで
きる。これらは光学顕微鏡を用いた組織の観察により確
かめられた。軟磁性金属薄膜のアニール効果が確認され
ている場合ににそのアニール温度が接合材１０としての
ガラスの屈伏点より大きなガラス材を選択することでコ
ア部材の接合と軟磁性金属薄膜のアニール処理を同時に
行なうことができる。Ｆｅ−３ｉ−Ａｔ 膜５のアニー
ル効果を説明するために、熱処理前後におけるＢ−Ｈ（
磁束密度対印加磁界）特性を第３図に示す。ｔｌは熱処
理前、ｔｌは熱処理後のＢ−Ｈループ曲線である。また
、予め熱処理を施したＦ ｅ −５１−Ａｔ成膜を用い
た場合でも接合のだめの熱処理によりＦｅ５ｉ−ＡＡＡ
ｃ１Ｂ−Ｈ特性にはほとんど変化が生じない。これを第
４図に示す。ｔ３は熱処理前、１−４ｆ′ｉ熱処理後の
Ｂ−Ｈループ曲線である。
尚、上記実施例において、Ｆｅ−５ｉ−Ａｔ成膜を電子
ビーム蒸着する基板４として結晶化ガラス全周いたが接
合材ＩＯと同じ低融点ガラスシート材を用いても同様な
／−ト状の磁気ヘッドコアを得ることができる。この場
合ガラスシート材の熱膨張係数は＋４０ｘｌＯ’／ｄｅ
’ｇ以上のものが蒸着後の基板の反りやＦｅ５ｉ−Ａｔ
成膜との密着性の点で良い結果を得ている。
ビーム蒸着する基板４として結晶化ガラス全周いたが接
合材ＩＯと同じ低融点ガラスシート材を用いても同様な
／−ト状の磁気ヘッドコアを得ることができる。この場
合ガラスシート材の熱膨張係数は＋４０ｘｌＯ’／ｄｅ
’ｇ以上のものが蒸着後の基板の反りやＦｅ５ｉ−Ａｔ
成膜との密着性の点で良い結果を得ている。
第５図（Ａ）（Ｂ）は本発明の他の実施例を示す磁気ヘ
ッドコアの工程説明図でちる。第１図（八に示すコア部
材を多層に積層してプレス治具１１に保持する。この状
態で加圧し熱処理を施すことにより第５図（Ｂ）に示す
ような多層化された磁気ヘッドコアのブロックが得られ
る。更にこの多層化された磁気ヘッドコアのブロックに
第６図（Ａ）に示す如く多結晶フェライトＩｎ−接合し
、コアの多層化方向と直角の方向に積層して加圧すると
ともにコアブ０７りの接合材１０のガラス転移点温度と
屈伏点温度との間の温度例えば５００〜５２０″Ｃで熱
処理することにより第６図串）に示すＦｅ−５ｉ−ＡＡ
Ａｃ１多結晶フェライト１２から成る複合コアブロック
を形成することができる。
ッドコアの工程説明図でちる。第１図（八に示すコア部
材を多層に積層してプレス治具１１に保持する。この状
態で加圧し熱処理を施すことにより第５図（Ｂ）に示す
ような多層化された磁気ヘッドコアのブロックが得られ
る。更にこの多層化された磁気ヘッドコアのブロックに
第６図（Ａ）に示す如く多結晶フェライトＩｎ−接合し
、コアの多層化方向と直角の方向に積層して加圧すると
ともにコアブ０７りの接合材１０のガラス転移点温度と
屈伏点温度との間の温度例えば５００〜５２０″Ｃで熱
処理することにより第６図串）に示すＦｅ−５ｉ−ＡＡ
Ａｃ１多結晶フェライト１２から成る複合コアブロック
を形成することができる。
上記実施例では軟磁性金属薄膜を電子ビーム蒸着で形成
したがスパッタリング法を用いても同等の結果が得られ
る。
したがスパッタリング法を用いても同等の結果が得られ
る。
又軟磁性金属簿膜部材として超急冷ロール法によって得
られたリボン状の部材やバルク状の材料をスライス及び
研磨することにより得られた部材を用いる場合でも表面
にあらかじめ、５１０２やＡｔ２０３の酸化膜を形成し
ておき第７図に示す様に両面から上記接合材１０として
のシート状の低融点ガラスを押しあて、適当な熱処理を
施すことにより上記実施例で得られたと同様の磁気ヘッ
ドコアを形成することができる。上記実施例で軟磁性金
属薄膜を電子ビーム蒸着法によって形成した意図は、同
−真空中内で、しかも高速に（５０００Ａ／分以上）成
膜することができるという、コア製造に要する時間短縮
の利点を生かすことにある。
られたリボン状の部材やバルク状の材料をスライス及び
研磨することにより得られた部材を用いる場合でも表面
にあらかじめ、５１０２やＡｔ２０３の酸化膜を形成し
ておき第７図に示す様に両面から上記接合材１０として
のシート状の低融点ガラスを押しあて、適当な熱処理を
施すことにより上記実施例で得られたと同様の磁気ヘッ
ドコアを形成することができる。上記実施例で軟磁性金
属薄膜を電子ビーム蒸着法によって形成した意図は、同
−真空中内で、しかも高速に（５０００Ａ／分以上）成
膜することができるという、コア製造に要する時間短縮
の利点を生かすことにある。
〈発明の効果〉
本発明の従来技術に対する利点を要約すると次の様にな
る。即ち、軟磁性金属薄膜を非磁性基板ではさんで磁気
ヘッドコアを形成する際に従来の様に樹脂を用いずに低
融点ガラスシートを用いることにより、 （１） 軟磁性金属薄膜表面に多少の凹凸あるいは反
りが存在する場合でも樹脂接合の場合はどに強力に矯正
しながら接合を行なう必要がなく、ガラスの適度な粘度
の低下により、接合の際に生じている空間を埋めつくし
て接合されるので均一な面接合が可能である。
る。即ち、軟磁性金属薄膜を非磁性基板ではさんで磁気
ヘッドコアを形成する際に従来の様に樹脂を用いずに低
融点ガラスシートを用いることにより、 （１） 軟磁性金属薄膜表面に多少の凹凸あるいは反
りが存在する場合でも樹脂接合の場合はどに強力に矯正
しながら接合を行なう必要がなく、ガラスの適度な粘度
の低下により、接合の際に生じている空間を埋めつくし
て接合されるので均一な面接合が可能である。
（２）軟磁性金属Ｖ表面に形成したパッシベーション膜
とガラスの相互拡散（あるいは融合）を利用しているの
で接合強度が樹脂接合に比して大きく又有限厚味の接合
層を有しない。
とガラスの相互拡散（あるいは融合）を利用しているの
で接合強度が樹脂接合に比して大きく又有限厚味の接合
層を有しない。
（３） ガラスの温度特性を、軟磁性金属膜の適正ア
ニール温度に対して適当に選択することで接合とアニー
ルとを同時に行なうことができる。
ニール温度に対して適当に選択することで接合とアニー
ルとを同時に行なうことができる。
（４）樹脂接合では接合処理後、比較的高温の熱処理は
加えられないが低融点ガラスシーｉ用いた接合では、接
合時の処理温度を越えない範囲で再加熱が可能である０ 等の優れた効果が得られ、樹脂接合に比べて能率よく、
又再現性よくコアを製造することができる０
加えられないが低融点ガラスシーｉ用いた接合では、接
合時の処理温度を越えない範囲で再加熱が可能である０ 等の優れた効果が得られ、樹脂接合に比べて能率よく、
又再現性よくコアを製造することができる０
第１図（Ａ）（Ｂ） Ｕ本発明の１実施例を示す磁気ヘ
ッドコアの工程説明図である。 第２図は従来のフエライ）６るいはセンダストブロック
の斜視図である。 第３図及びｇ７Ｊ４図はＦ ｅ −５１−Ａｔ膜のＢ−
Ｈ特性を示す特性図である。 第５図（Ａ）（１１１及び第６図（八（同はそれぞれ本
発明の他の実施例を示す磁気ヘッドコアの工程説明図で
おる。 第７図Ｇ−ｊ ＋Ｊポン状あるいはシート状の軟磁性金
属簿膜を用いた場合の熱処理方法を示す説明図でおる。 ４・・・非磁性基板、５・・・Ｆ ｅ −５１−Ａｔ膜
、６・・・酸（ｔＪ、７・・・パッシベーション［，９
，１１・・・プレス治具、！０・・・接合材、１２・・
・多結晶フェライト。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦（他２名）１７′Ｖ （Ａ） と８ノ 第 １（２１ 第２図 Ｈ−ｍ−−１− 第３図
ッドコアの工程説明図である。 第２図は従来のフエライ）６るいはセンダストブロック
の斜視図である。 第３図及びｇ７Ｊ４図はＦ ｅ −５１−Ａｔ膜のＢ−
Ｈ特性を示す特性図である。 第５図（Ａ）（１１１及び第６図（八（同はそれぞれ本
発明の他の実施例を示す磁気ヘッドコアの工程説明図で
おる。 第７図Ｇ−ｊ ＋Ｊポン状あるいはシート状の軟磁性金
属簿膜を用いた場合の熱処理方法を示す説明図でおる。 ４・・・非磁性基板、５・・・Ｆ ｅ −５１−Ａｔ膜
、６・・・酸（ｔＪ、７・・・パッシベーション［，９
，１１・・・プレス治具、！０・・・接合材、１２・・
・多結晶フェライト。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦（他２名）１７′Ｖ （Ａ） と８ノ 第 １（２１ 第２図 Ｈ−ｍ−−１− 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性基板上に軟磁性金属薄膜を堆積し、更にガラ
スとなじみの良い酸化膜と接合材を兼ねる非磁性材とし
て低融点ガラス層を積層して加圧及び加熱し、該低融点
ガラス層の屈伏点以上の温度に昇温して前記酸化膜と前
記低融点ガラス層を溶着し、前記軟磁性金属薄膜を非磁
性材で挟設することを特徴とする磁気ヘッドコアの製造
方法。 ２、酸化膜と低融点ガラス層の溶着工程で前記軟磁性金
属薄膜のアニール処理を同時に行なうようにした特許請
求の範囲第１項記載の磁気ヘッドコアの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18331084A JPS6161212A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18331084A JPS6161212A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6161212A true JPS6161212A (ja) | 1986-03-29 |
Family
ID=16133447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18331084A Pending JPS6161212A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6161212A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02141909A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH04134708A (ja) * | 1990-09-26 | 1992-05-08 | Nikko Kyodo Co Ltd | 磁性膜基板の積層方法及び装置 |
| US5208971A (en) * | 1990-05-17 | 1993-05-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Process of manufacturing a magnetic head |
-
1984
- 1984-08-31 JP JP18331084A patent/JPS6161212A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02141909A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| US5208971A (en) * | 1990-05-17 | 1993-05-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Process of manufacturing a magnetic head |
| JPH04134708A (ja) * | 1990-09-26 | 1992-05-08 | Nikko Kyodo Co Ltd | 磁性膜基板の積層方法及び装置 |
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