JPH03127306A - 複合磁気ヘッドとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ＶＴＲの特殊再生ヘッドやフロッピーディス
ク用トンネルイレースヘンド等に使用する２個の磁気ヘ
ッドを一体結合した複合磁気ヘッドとその製造方法に関
するものである。

従来の技術 第５図（Ａ）、　（Ｂ）は従来の２個のヘッド２８及び
ヘッド２９を非磁性体３０を介して両側に配し、それら
を接着剤Ｎ３１で接着し一体化した複合ヘッド３２であ
る。

同図（Ａ）は、ＶＴＲで使用される特殊再生ヘッドであ
り、同図（Ｂ）は、フロンピーディスク等で使用するト
ンネルイレーズ型ヘッドである。いずれもギヤ７１６部
分が磁性合金３３で形成されている。従来、このような
複合ヘッド３２は次のような製造方法で造っていた。即
ち、ギャップＧ及びそのトラック端３４に設けたガラス
溜を高融点の非結晶ガラス３５で封着して個々のヘッド
２８及びヘッド２９を造った後、それらのヘッド間に非
＆ｆｆｆ’１体３０を挟んで前記ガラス溜め３５のガラ
スよりも低融点ガラスからなる接着剤層３１で封着し一
体化する方法で製造していた：このように構成した従来
の複合磁気ヘッド３２は、そのトラック端非結晶ガラス
３５と接着剤層３１両ガラスはその融点に差をもつもの
でなければ接着剤層３１のガラス融着工程の熱処理時に
ガラス溜中のガラス融着部分を緩めることになる。即ち
、接着剤層３１ガラスに対してトラック端ガラス３５の
融点が低い場合はトランク端ガラス３５に緩みが生しギ
ャップ寸法の低下を招いていた。一方、アモルファス合
金を用いたへンドコアは、そのアモルファス合金の結晶
化温度によって、トラック端３４に用いるガラスは温度
制限を受けるため、接着剤７３３１に低融点ガラスを使
用することによって両者間の温度差をつくりギャップが
動かないようにしてそのギャップ精度を得ていた。しか
し、その反面接着剤層３１の機械的強度が弱く、欠けや
割れ等が生じヘッドの品質低下と生産性が低下する等の
問題があった。また非磁性体３０の両側にコア半体を高
融点ガラスで接着し、接着後にギャップ形成を前記接着
剤層３１より低融点ガラスで行ったヘッドはそのギャッ
プ強度が弱い。このＸｓ、ギヤツブ崩れを招きヘッド特
性の劣化と品質の低下が生し、でいた。

特に、ヘッドコアにアモルファス合金を用いた場合は、
アモルファス合金の結晶化温度以上の融点を持つガラス
が使用できない制限を受ける。従って、アモルファス合
金の結晶化温度がおよそ５００°Ｃ前後であって、その
温度以下でトラック端３４と接着剤層３１のガラスを温
度差を持って形成し、ギャップＧの精度や接着面の機械
的強度を得ることは不可能であった。

発明が解決しようとする課題 少なくとも２個の磁気ヘッドをそれらのトランク端及び
ヘッド間を非結晶ガラスで融着する接着方法の場合、ギ
ャップの緩みや欠は或は接着層部の機械的強度が不足で
あった。

課題を解決するための手段 トランク端の封着ガラスに非結晶ガラスを用いヘッド間
の非磁性体の接着に使用するガラスを結晶化ガラスとす
る。

作用 磁気ヘッドと非磁性体を接着するガラスに非晶質ガラス
を設゛け熱処理によって結晶化させ結晶化ガラスを得る
。結晶化ガラスになると機械的強度が大きく融点が高く
なるので、トランク端ガラスに高融点ガラスを使用でき
る。この為、ギャップや接着ガラスの機械的強度が増し
ギヤ・７ブ崩れや接着の緩みがなく、ギャップ精度を高
めテープ潜動時にテープに損傷を与えず、ヘッド品質と
ヘッドの生産性を高める作用がある。

実施例 以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。

実施例１ 第１図は、本発明の複合ヘッド１２を示すものである。

即ち、ヘッド１とヘッド２はそのコアの一部にアモルフ
ァス合金コア３を用い、それぞれのトランク＠４を非結
晶ガラス５で封着し個々のヘッドを構成した後、非磁性
体板１０を介し結晶化ガラス７′で融着し複合ヘッド１
２としたものである。第２図（Ａ）〜（Ｅ）にこのよう
な本発明による複合ヘッド１２の製造方法の一例を示し
説明を行う。同図（Ａ）は、ギャップｇがアモルファス
合金コア３で形成され、しかも、そのトラック端４及び
巻線窓８から非結晶ガラス５で封着したヘッドを複数個
連ねたヘッドブロック９を得る。この場合アモルファス
合金コア３はそのアモルファス合金の結晶化温度がおよ
そ５００　’Ｃ程度であって、これ以上の温度を加える
とアモルファス合金の結晶化が進みｉｆｆｆｆ性が劣化
する。従って、使用する封着のための非結晶ガラス５は
コア特性を劣化させず、しかもヘッドブロック９の機械
的強度が高いものを得る必要性を考慮し、出来る限り融
着温度を高＜１，５００°Ｃ程度で融着できる非結晶ガ
ラスを用い封着する。同図ＣＢ）は、必要な厚さｔの非
磁性体ＩｆｉｌＯの）反の両側に非晶質ガラス７をスパ
ッタリング等の方法によって膜付けを行う。

前記スパッタリングは高周波スパッタリング装置により
鉛を主成分とする他シリコンやボロン及び亜鉛等の酸化
物からなる非晶質ガラスの円盤状ターゲフトを用い、ア
ルゴンガス中又はアルゴンと酸素の混合雰囲気中等で行
うことによってガラス膜が形成されるものである。又、
上記非晶質ガラスはおよそ０．ｌ〜５ミクロン程度の膜
付けを行う。

前記非晶質ガラス７はアモルファス合金の結晶化温度よ
りも低い軟化点を有するものを選択する。

ここではその軟化点がおよそ４４０　’Ｃのものを使用
した。同図（Ｃ）は、前記の通り構成したへンドブロン
ク９とへンドブロツタ９′の２個を非磁性体板１０の非
晶質ガラスのスパッタ膜７に瓜ねそれらの位置合わせを
行った後に熱処理を施し、前記非晶質ガラス７を結晶化
せしめた結晶化ガラス接着層７′により一体結合し複合
ヘッド体１１を得る。前記非晶質ガラスのスパッタ膜７
はへッドブロノク９．９′側に構成されてもよい。前記
熱処理はアモルファスコアを結晶化させないよう最高お
よそ４８０　’Ｃで３０分の温度で行い非晶質ガラスを
結晶化せしめ融着した。前記結晶化ガラスは微結晶化状
態でそのガラス強度を増すと共に融点がおよそ１００度
高くなる。同図（Ｄ）は、切断線ｃ−ｃ’で示すように
所定の寸法位置で切断し、同図（Ｅ）の複合ヘッド１２
を得るものである。

又、前記複名ヘッド１２がアモルファス合金コアを用い
た場合について説明したがセンダスト合金等、他の磁性
合金やフェライトコアでは、前記非結晶ガラスや結晶化
ガラスがより高融点のものを使用できる点でより強固な
ガラス結合による複合ヘッドを得ることが可能である。

更に、前記複合ヘッド１２はアモルファス合金がギャッ
プ形成面の近傍のみであるが、第３図の如く磁性合金に
よる積層膜１３をたとえばチタマグ系酸化物等の非磁性
基板１４で挟んだ構造からなるコアを用いた複合ヘッド
１２であっても前記ガラスを使用することができるもの
であり、結合するヘッド数はデジタルＶＴＲ等に使用で
きるよう２個以上であっても可能である。又、前記へン
ドはフロッピーディスク用としては記録へンドと消去ヘ
ッドからなるトンネル消去型ヘッドの構造であっても構
わない。

実施例２ 第４図（Ａ）〜（Ｅ）は、本発明の製造方法による他の
実施例である。即ち、同図（Ａ）は非ｔｆ！性体ブロン
ク１０の両側面にスパッタリングによって非晶質ガラス
粒子層７を付着させた状態を示す。尚スパッタリング条
件やガラス層厚みは前記の実施例１と同しで行った。同
図（Ｂ）は、前記非晶質ガラス粒子層７のそれぞれの面
にコア半体１７及び別のコア半体１８を重ねて熱処理を
行い結晶化させて接着しコア半体結合ブロック２５を作
成した状態を示すものである。前記熱処理温度はコア半
体結合ブロック２５の外面にアモルファス合金２０を形
成しているためそのアモルファス合金の結晶化温度より
も低いおよそ５００　’Ｃ前後で処理し、非晶質ガラス
層だけを結晶化させて接着を行った。

前記結晶化ガラスの融点はおよそ１００度前後高くなっ
ている。又、コア半体結合ブロック２５の両側のアモル
ファス合金部分２０にはその両端がｉ締約にはトランク
端２２を形成する切り溝２１がその使用状態で定まる間
隔で配列されており、前記切り溝２１内には非結晶の低
融点ガラス２３が熔着充填されである。前記低融点ガラ
ス２３の熔着温度は前記接着部分の結晶化ガラスｊ！Ｊ
７がその融点が６００°Ｃ程度に高く成っているためア
モルファス合金２０を結晶化させない範囲の比較的高い
温度が使用可能であり５００°Ｃ前後で行った。

又、非磁性体ブロックＩＯを挟む両側のコア半体１７と
コア半体１８のアモルファス合金２０間の距諦を所定寸
法に揃え平滑研磨を行い、それぞれギャップ形成面２４
を有するコア半体結合ブロック２５を構成する。同図（
Ｃ）は、前記コア半体結合ブロック２５に設けた両側の
ギャップ形成面２４に前記コア半体結合ブロック２５を
形成したコア半体と同様にアモルファス合金コアで構成
しギヤツブ構成面に所定の厚みのガラス材等からなるギ
ャップ材層２６を形成した他のコア半体１７′とコア半
体１８′を配置した様子を示す。次に示す同図（Ｄ）は
、コア半体ブロックとそのトラック幅が所定寸法に成る
位置で重ね合わせると共に、前記コア半体１７′及びコ
ア半体１８′に設けた巻線窓２７からガラス熔着し、非
磁性体ブロンク１０の両側にヘッド１とへラド２の２個
を合体した複合へンドブロノク１１を得るものである。

尚、前記巻線窓２７の熔着ガラス及びその熱処理温度条
件は、前記へラドコア半体結合ブロック２５作成時と同
一であってもよく、且つ、前記複合へッドブロンク１１
は切り満２１に設けた低融点ガラス２３を再加熱して熔
着することによって得ることもできる。又、前記ギャッ
プ材層２６はコア半体結合ブロック２５のギヤツブ形成
部２４に設けてもよい、同図（Ｅ）は、前記複合ヘッド
ブロック１１をｃ−ｃ’で示す切断線で分離して得た複
合へラド１２を示す。

発明の詳細 な説明したように本発明によれば、接着を結晶化ガラス
で行うために接着部の機械強度を高めるだけでなく、ギ
ャップの接合にも融点の高いガラスが使用可能となり、
接着部からの欠けや崩れによるヘッド前面の出傷がなく
、しかもギヤ・７プ精度を高めることができる。またヘ
ッドの電磁気特性や品質を高め記録媒体との接触を良好
にできる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による複合磁気ヘッドの正面図、第２図
は同製造工程図、第３１２Ｉは積層膜コアにより構成し
た本発明による複合磁気ヘッドの正面図、第４図は同製
造工程図、第５図は従来の複合ヘッドの正面図である。 ｌ・・・・・・ヘラＦｌ、２・・・・・・ヘッド２．３
・・・・・・アモルファス合金コア、４・・・・・・ト
ラック端、５・・・・・・非結晶ガラス、７・・・・・
・非晶質ガラス、７′・・・・・・結晶化ガラス、８・
・・・・・巻線窓、９，９′・・・・・・へンドブロツ
タ、１０・・・・・・非磁性体板、１１・・・・・・複
合ヘッドブロック、１２・・・・・・複合ヘッド、１３
・・・・・・積層膜、１４・・・・・・非磁性基板、１
７．１８・・・・・・コア半体、１７’、１Ｂ’・・・
・・・コア半体、２ｏ・旧・・アモルファス合金、２１
・・・・・・切り溝、２２・・・・・・トランク端、２
３・・・・・・低融点ガラス、２４・・・・・・ギヤツ
ブ形成面、２５・・・・・・コア半体結合ブロック、２
６・・・・・・ギャップ材層、２７・・・・・・巻線窓
、２８．２９・・・・・・単体へラド、３０・・・・・
・非磁性体、３１・・・・・・接着剤、３２・・・・・
・複合ヘッド、３３・・・・・・磁性合金、３４・・・
・・・トラック端、３５・・・・・・非結晶ガラス。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）複数のヘッドチップを少なくとも非磁性体を挟み
   、その両側に接着剤層を介し一体に結合した構造の磁気
   ヘッドであって、前記接着剤層が結晶化ガラスであるこ
   とを特徴とする複合磁気ヘッド。
2. （２）磁気ヘッドの少なくともギャップをアモルファス
   或はセンダスト等の磁性合金膜で形成したことを特徴と
   する請求項（１）記載の複合磁気ヘッド。
3. （３）２個の磁気ヘッドを構成するそれぞれのコア半体
   を非磁性体を挟みその両側に配し重ね合わせ熱処理を施
   し、予めその接合面にスパッタリング等により介在した
   接着用非晶質ガラス層を結晶化させて結合する工程と、
   前記非磁性体を挟む両コア半体の外側面をヘッドギャッ
   プ面として仕上げる工程と、予めＳｉＯ＿２などによっ
   て所定のギャップ構成膜を有するそれぞれの他のコア半
   体を前記工程のギャップ面に重ね合わせ、それぞれのコ
   ア半体とその近傍から非結晶ガラスを熔着し一体結合す
   る事を特徴とする複合磁気ヘッドの製造方法。