JPH02227805A - 磁気消去ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はＶＴＲに使用する回転磁気消去ヘッドの改良に
関するものである０ 〔発明の概要〕 高珠磁力磁気記碌媒体に対する消去ヘッドの消去率を向
上させるために、高飽和磁束密度の金属磁性薄膜を消去
ヘッドにおける高透磁率の軟磁性材料磁気ギャップ形成
面に被着させることが提案されている。しかし、金属磁
性薄膜は、透磁率が単結晶フェライト等の軟磁性材料に
比較し低いため、金属磁性薄膜を被着すると磁気ヘッド
全体の透磁率低下を起こす。また、この磁気ヘッドはＩ
コアとＣコアの結合面全体が金属磁性薄膜と磁気ギャッ
プ形成ガラスであり、この結合力は単結晶フェライトと
磁気ギャップ形成ガラスの結合力に比較して勃＜、生産
工程中でのワレにつながっている。そこで、金属磁性薄
膜な被着させる部分を磁気回路的にもっとも重要な、ト
ラック幅であり。

かつギャップデプス部分となる磁気ギャップ形成面に被
着させる。これにより、透磁率の低い磁性材料が被着し
ている部分が少くなるので、磁気ヘッド全体の透磁率の
低下が少くなり、かつ、金属磁性薄膜が被着されていな
い部分では単結晶フェライトと磁気ギャップ形成ガラス
が接しており。

磁気ヘッド全体の強度も増し、生産歩留の向上を図るこ
とができる。

〔従来の技術〕

磁気記録媒体の保磁力が高（なるにしたがい。

従来のフェライト等の酸化物磁性材料を用いた磁気消去
ヘッドでは飽和磁束密度が低く、磁気飽和現象を起こし
、十分に消去し得ない現象が生じてきている。そこで、
第３図に示すように酸化物磁性材料等の飽和磁束密度の
低い軟磁性材料１の磁気ギャップ形成面に金属磁性薄膜
２をスパッタリング等で被着させた回転磁気消去ヘッド
が提案されている。なお、３はＩコア、４はＣコア、６
はトラック幅制御溝、７は巻線用溝（窓）、８は磁気ギ
ャップ、９はトラック幅制御溝充填ガラスである。

しかし、一般に金属ａ性薄膜は透磁率が低（。

磁気ギャップ形成面全体に被着させると、磁気飽和現象
は起きにくくなるものの、消去の効率が低下することに
より、同値の消去電流を磁気ヘッドに与えた場合の消去
率は金属磁性薄膜な被着させない場合に比較し劣化する
。

また、ａｌ気ギャップを形成するガラスやトラック幅側
ａ溝に埋め込む充填ガラスは酸化物磁性体に対してはヌ
レ性が良く結合力が強いが、金属磁性薄膜に対してはヌ
レ性が悪い。したがって、金ｌｌ４ａ性薄膜を磁気ギャ
ップ形成面全体に被着させるということは、トラック幅
制御溝部１巻線溝部。

および後部磁気ギャップ部にも被着することになるので
、磁気ギャップ部を介しての■コアとＣコアの接着強度
が低下し、磁気ヘッド全体の強度が低（なる。磁気ヘッ
ド全体の強度が低（なることにより、チップ切断工程や
テープ摺動面研磨工程等の磁気ヘッド生産の各工程にお
いて不良率が高くなり、生産歩留が低下する。

〔発明が解決しようとする課題〕

前述のように従来技術には、消去効率および生産歩留が
低下するという問題がある０本発明は。

単結晶フェライト等の軟磁性材料に高飽和磁束密度の金
属磁性薄膜を被着させる部分を必要最小限にし上記問題
点を解決した磁気消去ヘッドを提供することを目的とす
る。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は上記の目的を達成するため、酸化物磁性材料に
被着する金属磁性薄膜の被着部分を磁気ギャップ形成面
全面に行わず、磁気ヘッドを構成する■コアとＣコアの
磁気ギャップ対向面トラック幅のギャップデプス部分に
のみ行う。磁気飽和を起こす部分は上記ＩコアとＣコア
の磁気ギャップ対向面トラック幅部分で、起こり初める
のであるから、この部分に磁気飽和を起こさない高飽和
磁束密度の金属磁性薄膜を用いることにより、現在実用
化されている１、　２　Ｘ　１０５Ａ／ｍ程度の高保母
Ｍ＠気記録媒体に対しては、何ら問題が無い。

磁気ギャップ対向面のギャップデプス部分にのみ飽和磁
束密度が高く透磁率の低い金属磁性薄膜を使用するので
あるから９本発明を用いて製造した磁気ヘッドの透磁率
の低下は、磁気ギャップ対向面トラック幅のギャップデ
プス部分でのみ起こり。

それ以外では起こらないことになり、磁気ヘッド全体の
透磁率低下を最小限度におさえることができる。

またヌレ性が悪い磁気ギヤノブ形成用ガラスと金属磁性
薄膜が接触する部分も、磁気ギャップ対向面トランク幅
のギャップデプス部分のみであり。

他の部分においては磁気ガラスと酸化物磁性体が接触す
ることになり、ヌレ性が良く結合力が強くなる。

〔作用〕

その結果２本発明によれば、低い消去電流でも高保母力
磁気記碌媒体に対して、十分な消去率を得る磁束を与え
ることが可能な程度の透磁率を持つ回転消去ヘッドが歩
留良（得られる。

〔実施例〕

以下９本発明の一実施例を第１図および第２図（ａ）〜
（ｄ）により説明する。第１図は本発明により得られる
磁気へッドチノプの斜視図、第２図（ａ）〜（ｄ）は本
発明の磁気ヘッドを得るための製造工程を示す斜視図で
ある。ｌは酸化物磁性材料等の軟磁性材料、２は金属磁
性薄膜、３はＩコア、４はＣコア、５は磁気キャップ形
成用ガラス、６はトラック幅制御溝、７は巻線溝を示す
。

まず、第２図（ａ）、（ｂ）に示すように、Ｃコア４゜
■コア３を構成すべき磁性基板である酸化物磁性材料１
の前部磁気ギャップ対向面部分のみを被着すべき金属磁
性膜厚さ分より数μ程度余分に研磨する。その上に金属
磁性薄膜２を最終的に所望する厚さより数μ程度余分に
スパッタリングで被着させ、かつＣコアとすべき磁性基
板には巻線溝加工を行い第２図（ａ）、　（ｂ）のよう
なＣコアとＩコアを得る０ さらに、この金属磁性薄膜を被着した磁性基板上に、ダ
イサー　ワイヤソー等を用いて、トラック幅制御溝加工
を行った後、トラック幅制御溝充填用ガラス板を置き、
ガラスボンディングでトランク幅制御溝を充填する。こ
の上で巻線溝部の充填ガラスをダイサー等で除去し、か
つ磁気ギャップ対向面全面を研磨する。この時、研磨工
程では。

最終的に所望する金属磁性薄膜厚みを残すようにする。

つまり、前述の工程で最終的に所望する金属磁性薄膜よ
り余分に被着した数μ程度を研磨する。上記工程の結果
、金属磁性薄膜は前部磁気ギャップ対向面部分、すなわ
ちギャップデプス部分のみに残り、後部磁気ギャップ対
向面部分からは除去される。この上に再びスパッタリン
グで磁気ギャップ形成ガラス５を被着し、第２図（ｅ）
、　（ｄ）のＣコア、■コア一対の磁気コアを得る。こ
の一対ノ磁気コアを電気炉でガラスホンデイングラ行つ
が、この時のガラスポンディング温度は、金属ａ性薄膜
が再結晶しない温度で行うのは当然である。

このようにして得られた磁気ブロックの磁気媒体対向面
にあたる部分を所定の形状に研磨した後。

ダイサー　ワイヤソー等を用いて、所望の厚さに切断し
１図の磁気チップを得る。この後、既知の方法により、
前述の切断したチップをペースに接着し１巻線を施すこ
とにより、所望の回転消去用磁気ヘッドが得られる。

なお、８は磁気ギャップ、９はトラック幅制御溝充填ガ
ラスである。

前述の方法はアジマス角を持たない回転消去用磁気ヘッ
ドの場合であるが、チップ切断工程において所望の角度
に傾けて切断することにより、アジマス角を持つ回転消
去用磁気ヘッドも同様にして得られる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、消去効率を低下させることなく、磁気
飽和を起こさない回転消去用磁気ヘッドを得ることがで
きる。また、従来の金属磁性薄膜に比較し、磁気ギャッ
プを介して、■コアとＣコアの接着強度を上げることか
でき、よって歩留良い生産が可能になる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気へラドチップの斜視図、第２
図（ａ）〜（ｄ）は本発明の磁気ヘッドを得るための製
造工程を示す斜視図、第３図は従来の磁気ベツドチップ
の斜視図である。 ｌ二酸化物磁性材料、２：金属磁性薄膜、３：■コア、
４：Ｃコア、５：磁気ギャップ形成用ガラス、６：トラ
ツク幅制御溝、７：巻線用溝、８：磁気ギャップ、９ニ
ドラック幅制御溝充填ガラス０

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、トラック幅制御溝を設けて、トラック幅長を磁気記
   録媒体接触面幅より小さくした磁気消去ヘッドにおいて
   、磁気回路を形成する１対の軟磁性材料磁気コア双方の
   、トラック幅をなしギャップデプス部分となる磁気ギャ
   ップ形成面にのみ、高飽和磁束密度の金属磁性薄膜を被
   着したことを特徴とする磁気消去ヘッド。