JPH05242419A

JPH05242419A - 磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JPH05242419A
Application number: JP27616191A
Authority: JP
Inventors: Heikichi Sato; 平吉佐藤; Akira Urai; 彰浦井; Hitoshi Kimura; 均木村; Akira Murakami; 明村上; Masaya Kosaka; 昌也香坂; Osamu Onodera; 修小野寺
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1991-09-30
Filing date: 1991-09-30
Publication date: 1993-09-21

Abstract

(57)【要約】【構成】磁気ギャップ形成面となるべき面１ａに対し
て傾斜した斜面２ａを有する第１の溝２を基板１に形成
した後、上記第１の溝２の斜面２ａに酸化リアクティブ
下地膜３を成膜し、この酸化リアクティブ下地膜３上に
金属磁性薄膜４を形成する。そして、上記斜面２ａに近
接してトラック幅を規制するための第２の溝を形成して
ヘッドコアブロックを作製し、このヘッドコアブロック
同士を接合した後、ヘッドチップに切り出す。【効果】金属磁性薄膜の膜剥がれを防止することがで
きるとともに、磁気コア材のヒビ割れを防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ等に搭載される磁気ヘッドの製造方法に関し、特
に金属磁性薄膜を主コア材とした磁気ヘッドの製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ビデオテープレコーダ等の磁気
記録再生装置においては、記録信号の高密度化が進めら
れており、この高密度記録に対応した磁気記録媒体とし
て磁性粉にＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性金属粉末を用い
た、いわゆるメタルテープや、強磁性金属材料を蒸着に
よりベースフィルム上に被着した、いわゆる蒸着テープ
等が使用されるようになってきている。

【０００３】一方、磁気ヘッドの分野においてもこれに
対処するべく研究が進められており、高抗磁力磁気記録
媒体に好適な磁気ヘッドとして磁気コアに金属磁性薄膜
を用いた磁気ヘッドが種々開発され、その一部が実際に
使用されている。また、記録信号の高密度記録化に伴っ
て、磁気記録媒体に記録される記録トラックのトラック
幅の狭小化も進められており、これに対応して磁気ヘッ
ドのトラック幅も極めて狭いものが要求されてきてい
る。

【０００４】かかる要求を満たす磁気ヘッドの構成とし
ては、例えば磁気コア材の突合わせ面を斜めに切り欠
き、この斜面上にセンダスト等の強磁性金属薄膜を被着
形成してこれら強磁性金属薄膜同士を突合わせることに
より磁気ギャップを構成したものが提案されている。こ
の磁気ヘッドでは、強磁性金属薄膜の斜め膜同士によっ
てトラック幅が規制された狭トラックのヘッドとされ、
且つ上記強磁性金属薄膜によって磁路が構成されるた
め、高出力化が図れる。

【０００５】ところで、上述の磁気ヘッドを作製するに
は、先ず、図２１に示すように、磁気コア材となる基板
１０１の磁気ギャップ形成面となる面１０１ａにこの面
１０１ａに対して傾斜した斜面１０２ａを有する断面略
Ｖ字状の第１の溝１０２を形成する。なお、この第１の
溝１０２は、基板１０１の一側縁部分にのみ形成する。

【０００６】次に、図２２に示すように、上記第１の溝
１０２の斜面１０２ａ上にＳｉＯ₂やＣｒ等の下地膜を
介してセンダスト等の強磁性金属薄膜１０３を被着形成
する。そして、図２３に示すように、上記第１の溝１０
２内にフローや樹脂或いはガラス等の非磁性材料１０４
を充填した後、上記磁気ギャップ形成面１０１ａを平面
研磨する。

【０００７】次に、図２４に示すように、上記斜面１０
２ａに近接してトラック幅を規制するための断面略Ｖ字
状の第２の溝１０５を基板１０１全面に亘って形成す
る。次いで、このようにして形成された基板１０１，１
０６同士を図２５に示すようにトラック位置合わせしな
がら突合わせ、融着ガラス１０７によって接合一体化す
る。

【０００８】そして、図２５中ａ−ａ線及びｂ−ｂ線で
示す位置で切断する。そして最後に、切り出したヘッド
チップに対して磁気記録媒体との当たり特性を確保する
ために、図２６に示すように、磁気記録媒体摺動面１０
８を円筒研磨して磁気ヘッドを完成する。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の磁気
ヘッドを作製するに際しては、強磁性金属薄膜１０３を
形成した後、第１の溝１０２内にガラス等の非磁性材料
１０４を充填することで後工程でヘッドチップに切り出
す際に強磁性金属薄膜１０３が基板１０１から剥がれな
いような工夫がなされている。

【００１０】しかしながら、非磁性材料１０４の充填作
業を必要とすることから、工数が増大し、ガラスの埋め
込み作業による熱処理によって基板１０１にヒビが発生
する等の問題が生ずる。この結果、磁気ヘッドの電磁変
換特性が劣化し、より高記録密度化が要求されるビデオ
テープレコーダ等に対応することが困難となる。

【００１１】そこで本発明は、上述の技術的な課題に鑑
みて提案されたものであって、金属磁性薄膜の膜剥がれ
及び磁気コア材のヒビ割れが防止できる信頼性の高い磁
気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、磁気ギャップ
形成面となるべき面に対して傾斜した斜面を有する第１
の溝を基板に形成する工程と、少なくとも上記第１の溝
の斜面に酸化リアクティブ下地膜を成膜した後、金属磁
性薄膜を形成する工程と、上記斜面に近接してトラック
幅を規制するための第２の溝を形成する工程とによりヘ
ッドコアブロックを作製し、このヘッドコアブロック同
士を接合した後、ヘッドチップに切り出すことを特徴と
するものである。

【００１３】さらに本発明の磁気ヘッドの製造方法は、
磁気ギャップ形成面となるべき面に対してトラック幅規
制溝を形成する工程と、少なくとも磁気ギャップ形成面
に酸化リアクティブ下地膜を成膜した後、金属磁性薄膜
を形成する工程とによりヘッドコアブロックを作製し、
このヘッドコアブロック同士を接合した後、ヘッドチッ
プに切り出すことを特徴とするものである。

【００１４】

【作用】第１の発明にかかる方法においては、金属磁性
薄膜の斜め膜同士の突合わせ面に磁気ギャップが構成さ
れてなる磁気ヘッドを作製するに際し、基板に形成した
第１の溝の斜面に酸化リアクティブ下地膜を成膜した
後、金属磁性薄膜を形成するようにしているので、当該
基板と金属磁性薄膜との密着性が高まり、後工程でヘッ
ドチップに切り出す際に上記金属磁性薄膜が膜剥がれを
起こさない。

【００１５】また、第２の発明にかかる方法において
は、磁気ギャップと平行に配された金属磁性薄膜の突合
わせ面に磁気ギャップが構成されてなる磁気ヘッドを作
製するに際し、磁気ギャップ形成面に酸化リアクティブ
下地膜を成膜した後、金属磁性薄膜を形成しているの
で、当該基板と金属磁性薄膜とが強固に密着し、後工程
でヘッドチップに切り出す際に上記金属磁性薄膜が膜剥
がれを起こさない。

【００１６】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて説明する。実施例１最初に、第１の発明にかかる磁気ヘッドの製造方法の具
体的な実施例について図面を参照しながら詳細に説明す
る。本実施例は、金属磁性薄膜の斜め膜同士の突合わせ
面に磁気ギャップが構成され、突き合わされた金属磁性
薄膜の対向幅によってトラック幅が規制されてなる磁気
ヘッドの例である。

【００１７】磁気ヘッドを作製するには、先ず、図１に
示すように、非磁性材料や酸化物磁性材料よりなる基板
１の磁気ギャップ形成面となるべき面１ａに、後述する
金属磁性薄膜を分断する溝深さ３０〜４０μｍ程度の断
面コ字状の分断溝（図示は省略する。）を図中矢印Ｘ方
向に全長さに亘って所定ピッチで複数平行に形成する。

【００１８】次に、上記基板１の磁気ギャップ形成面１
ａに断面略Ｖ字状をなす第１の溝２を回転砥石等の加工
によって全幅に亘って所定ピッチで複数平行に形成す
る。上記第１の溝２を設けることにより、上記基板１に
は金属磁性薄膜形成面に対応する斜面２ａが上記磁気ギ
ャップ形成面１ａに対して傾斜した面として形成され
る。なお、上記斜面２ａの磁気ギャップ形成面１ａに対
する傾斜角度θは、隣接トラックからのクロストーク並
びに耐摩耗性を考慮して２０度〜８０度程度の範囲に設
定することが望ましい。

【００１９】次いで、図２及び図３に示すように、上記
第１の溝２内を含めて磁気ギャップ形成面１ａ上に酸化
リアクティブ下地膜３を形成する。酸化リアクティブ下
地膜３は、例えばＦｅ、Ａｌ等を主体し、これに少量の
酸素を導入した膜からなる。本実施例では、酸化リアク
ティブ下地膜３としてＦｅＡｌ（Ｏ）なる膜を使用し
た。

【００２０】そして、この酸化リアクティブ下地膜３の
上に強磁性金属材料をスパッタリングし、金属磁性薄膜
４を形成する。このとき、金属磁性薄膜４は酸化リアク
ティブ下地膜３を介して斜面２ａに形成されているの
で、この酸化リアクティブ下地膜３によって上記金属磁
性薄膜４と上記基板１との密着力が高まり、これら金属
磁性薄膜４と基板１との接合強度が向上する。

【００２１】ところで、上記金属磁性薄膜４には、より
高記録密度化が要求されるビデオテープレコーダ等に対
応するべく高飽和磁束密度を有し且つ軟磁気特性に優れ
た強磁性金属材料を用いることが望ましい。かかる強磁
性金属材料を例示するならば、例えばＮｉ−Ｆｅ系合
金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ
−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−
Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金等の強磁性金属材料、或いはＦｅ
−Ｇａ−Ｓｉ系合金、さらには上記Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ系
合金の耐蝕性や耐摩耗性の一層の向上を図るために、Ｆ
ｅ，Ｇａ，Ｃｏ，（Ｆｅの一部をＣｏで置換したものを
含む。），Ｓｉを基本組成とする合金に、Ｔｉ，Ｃｒ，
Ｍｎ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒ
ｈ，Ｉｒ，Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖの少なく
とも一種を添加したもの等が挙げられる。なお本実施例
では、センダストを用いた。

【００２２】次に、上記磁気ギャップ形成面１ａ上に積
層される酸化リアクティブ下地膜３と金属磁性薄膜４を
いずれも平面研磨することによって除去する。このと
き、金属磁性薄膜４は、酸化リアクティブ下地膜３を介
して斜面２ａに強固に被着されているので、平面研磨時
に加わる加工圧力によっては膜剥がれを起こすようなこ
とはない。

【００２３】なお、従来は、金属磁性薄膜４の膜剥がれ
を防止するために、第１の溝２内にガラスを充填するよ
うにしたが、本例ではその工程を省略することができ
る。したがって、高温のガラスパック工程を省略できる
ことから、基板１のヒビ割れを防止できる。

【００２４】次いで、図４に示すように、金属磁性薄膜
４を被着した斜面２ａと隣接して、上記第１の溝２と平
行にトラック幅を規制するための第２の溝５を複数形成
する。第２の溝５の切削位置は、この溝５が上記斜面２
ａ上に形成される金属磁性薄膜４の端部４ａと略一致す
るような位置とする。

【００２５】次に、コイルを巻装するための巻線溝６を
上記基板１に形成する。上記巻線溝６は、上記第１の溝
２と第２の溝５に対して略直交する方向に形成し、断面
略台形状の溝として形成する。この結果、第１の溝２と
第２の溝５によりトラック幅が規制された金属磁性薄膜
４が磁気ギャップ形成面１ａに臨んだヘッドコアブロッ
ク７が作製される。

【００２６】そして、以上の工程を順次繰り返し、図４
に示すヘッドコアブロック７を２個作製する。

【００２７】次に、これらヘッドコアブロック７の磁気
ギャップ形成面１ａを鏡面研磨した後、図５に示すよう
にこれらヘッドコアブロック７同士をギャップスペーサ
膜（図示は省略する。）を介してトラック位置合わせし
て突き合わす。トラック位置合わせは、磁気ギャップ形
成面１ａに露出する互いの金属磁性薄膜４が一致するよ
うにして重ね合わせる。

【００２８】なお、ギャップスペーサ膜としては、例え
ばＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｃｒ等よりなる膜
が使用できる。次に、巻線溝６内にガラス棒を挿入し、
これを溶融して上記第１の溝２及び第２の溝５内に融着
ガラス８を充填する。この結果、上記一対のヘッドコア
ブロック７が融着ガラス８によって接合一体化される。

【００２９】そして、接合一体化されたブロックに対し
て図５中ａ−ａ線及びｂ−ｂ線で示す位置でスライシン
グ加工し、複数個のヘッドチップに切り出す。このスラ
イシング加工においても金属磁性薄膜４を切削すること
になるが、金属磁性薄膜４と基板１との密着性が極めて
高いため、当該金属磁性薄膜４が上記基板１より剥がれ
るようなことがない。

【００３０】次に、このヘッドチップに対して磁気記録
媒体との当たり特性を確保するために、図６に示すよう
に磁気記録媒体摺動面９を円筒研磨して磁気ヘッドを完
成する。この結果、斜め膜とされた金属磁性薄膜４の突
合わせ部に記録再生用ギャップとして機能する磁気ギャ
ップｇが構成されるとともに、この磁気ギャップｇのト
ラック幅Ｔｗが上記金属磁性薄膜４の対向幅によって規
制された磁気ヘッドが得られる。

【００３１】実施例２次に、第２の発明にかかる磁気ヘッドの製造方法の具体
的な実施例について図面を参照しながら説明する。本実
施例は、磁気ギャップと平行に配された金属磁性薄膜の
突合わせ面に磁気ギャップが構成されてなる磁気ヘッド
の例である。本実施例の磁気ヘッドを作製するには、先
ず、図７に示すように、非磁性材料や酸化物磁性材料よ
りなる基板１０の磁気ギャップ形成面となるべき面１０
ａにトラック幅を規制するための断面略Ｖ字状のトラッ
ク幅規制溝１１を回転砥石等の加工によって全幅に亘っ
て所定ピッチで複数平行に形成する。

【００３２】これによって、トラック幅規制溝１１間に
断面略台形状の突起として残存する突起部が形成され、
この突起部の平坦面１０ａが磁気ギャップ形成面とな
る。

【００３３】次に、コイルを巻装するための巻線溝１２
を上記基板１０に形成する。上記巻線溝１２は、上記ト
ラック幅規制溝１１に対して略直交する方向に断面略台
形状の溝として形成する。次に、図８に示すように、ト
ラック幅規制溝１１及び巻線溝１２が形成された面全面
に亘って酸化リアクティブ下地膜１３を被着した後、こ
の酸化リアクティブ下地膜１３上に強磁性金属材料をス
パッタリングして金属磁性薄膜１４を形成する。

【００３４】この実施例においても、酸化リアクティブ
下地膜１３によって金属磁性薄膜１４と基板１０との密
着力が高まり、これら金属磁性薄膜１４と基板１０との
接合強度が向上する。なお、金属磁性薄膜１４には、第
１の実施例で用いた強磁性金属材料がいずれも使用され
る。

【００３５】この結果、酸化リアクティブ下地膜１３を
介して金属磁性薄膜１４が被着形成されたヘッドコアブ
ロック１５が作製される。そして、以上の工程を順次繰
り返し、図８に示すヘッドコアブロック１５を２個作製
する。なお、一方のヘッドコアブロック１５には、少な
くとも磁気ギャップ形成面１０ａ上の金属磁性薄膜１４
の上にギャップスペーサ膜（図示は省略する。）を成膜
する。

【００３６】次に、図９に示すように、これらヘッドコ
アブロック１５同士をトラック位置合わせして突き合わ
す。トラック位置合わせは、トラック幅規制溝１１間に
突出して設けられる突起部の平坦面１０ａ上に被着され
た金属磁性薄膜１４を一致させるようにして重ね合わせ
る。

【００３７】次に、上記巻線溝１２内にガラス棒を挿入
し、これを溶融して相対向して設けられるトラック幅規
制溝１１内に融着ガラス１６を充填する。この結果、上
記一対のヘッドコアブロック１５が融着ガラス１６によ
って接合一体化される。そして、接合一体化されたブロ
ックに対して図９中ｃ−ｃ線及びｄ−ｄ線で示す位置で
スライシング加工し、複数個のヘッドチップに切り出
す。

【００３８】このスライシング加工においても先の実施
例１と同様に、金属磁性薄膜１４を切削することになる
が、金属磁性薄膜１４と基板１０との密着性が極めて高
いため、当該金属磁性薄膜１４が上記基板１０より剥が
れるようなことがない。

【００３９】次に、このヘッドチップに対して磁気記録
媒体との当たり特性を確保するために、図１０に示すよ
うに磁気記録媒体摺動面１７を円筒研磨して磁気ヘッド
を完成する。この結果、磁気ギャップｇと平行に配され
た金属磁性薄膜１４の突合わせ面に磁気ギャップｇが構
成された磁気ヘッドが得られる。

【００４０】実施例３次に、第２の発明を磁気ギャップに対して略直交方向に
金属磁性薄膜を配し、この金属磁性薄膜を磁気コア材よ
りなる基板によってラミネートしてなる磁気ヘッドに適
用した例について説明する。この磁気ヘッドを作製する
には、先ず、図１１に示すように、磁気コア材として例
えばフェライト等の酸化物磁性材料よりなる基板１８と
ガラスやセラミックス等の非磁性材料よりなる基板１９
とを接合一体化して複合基板２０を作製する。

【００４１】そして、上記複合基板２０の金属磁性薄膜
をラミネートする面２０ａを鏡面研磨する。本実施例で
は、最大粗さＲｍａｘで０．１μｍ以下となるように研
磨した。

【００４２】次に、図１２に示すように、金属磁性薄膜
をラミネートする面２０ａ上に酸化リアクティブ下地膜
２１を被着した後、この酸化リアクティブ下地膜２１上
に強磁性金属材料をスパッタリングして金属磁性薄膜２
２を形成する。ここでの金属磁性薄膜２２は、磁気ギャ
ップのトラック幅寸法と同じ膜厚寸法となるようにす
る。

【００４３】これによって、金属磁性薄膜２２と複合基
板２０とが強固に接合されることになる。次に、図１３
に示すように、上記金属磁性薄膜２２上に先の図１１で
作製した酸化物磁性材料よりなる基板２３と非磁性材料
よりなる基板２４の接合体である複合基板２５を重ね合
わせ、接合一体化する。

【００４４】この結果、金属磁性薄膜２２が一対の複合
基板２０，２５によってラミネートされたヘッドコア半
体２６が作製される。

【００４５】そして、上述の工程を順次繰り返し、図１
３に示す磁気コア半体２６を２個作製し、その一方の磁
気コア半体２６にコイルを巻装するための巻線溝２７を
形成する。次に、一方の磁気コア半体２６の巻線溝が形
成された突合わせ面にギャップスペーサ膜（図示は省略
する。）を成膜した後、これら磁気コア半体２６，２８
を図１５に示すようにしてトラック位置合わせして接合
一体化する。

【００４６】トラック位置合わせは、互いの金属磁性薄
膜２２を一致させるようにして重ね合わせる。この結
果、磁気ギャップｇに対して略直交方向に金属磁性薄膜
２２が配されてなるラミネート型の磁気ヘッドが完成す
る。この磁気ヘッドにおいても、金属磁性薄膜２２が酸
化リアクティブ下地膜２１によって複合基板２０に被着
形成されているので、当該金属磁性薄膜２２の上記複合
基板２０に対する密着力が向上する。

【００４７】実施例４この実施例は、金属磁性薄膜を形成した後にトラック幅
規制溝を形成することによって先の実施例２と略同様な
磁気ヘッドを作製する例である。この磁気ヘッドを作製
するには、先ず、図１６に示すように、フェライト等の
酸化物磁性材料よりなる基板２９の主面２９ａにコイル
を巻装するための巻線溝３０を断面略台形状の溝として
形成する。

【００４８】次に、図１７に示すように、上記巻線溝３
０内を含めて上記基板２９の主面２９ａに酸化リアクテ
ィブ下地膜３１を成膜した後、この酸化リアクティブ下
地膜３１上に強磁性金属材料をスパッタリングして金属
磁性薄膜３２を形成する。

【００４９】次いで、上記基板２９の主面２９ａ上に積
層される酸化リアクティブ下地膜３１と金属磁性薄膜３
２を平面研磨して除去する。この結果、図１８に示すよ
うに、巻線溝３０内にのみ金属磁性薄膜３２が残像する
ことになる。次に、フロントギャップ部となる部分にの
みトラック幅を規制するためのトラック幅規制溝３３を
所定ピッチで複数形成する。

【００５０】すなわち、基板２９の一側面２９ｂから巻
線溝３０にかけて断面略円弧状のトラック幅規制溝３３
を形成する。このとき、切削加工の加工圧力等によって
金属磁性薄膜３２に応力等が加わるが、当該金属磁性薄
膜３２は酸化リアクティブ下地膜３１によって基板２９
に対して強固に固定されているので、膜剥がれが起こら
ない。

【００５１】そして、磁気ギャップ形成面となる上記基
板２９の主面２９ａを鏡面研磨して巻線溝３０内に金属
磁性薄膜３２が形成されたヘッドコアブロック３４を作
製する。次に、以上の工程を順次繰り返し、図１８に示
すヘッドコアブロック３４を２個作製する。なお、一方
のヘッドコアブロック３４には、少なくとも磁気ギャッ
プ形成面２９ａ上にギャップスペーサ膜（図示は省略す
る。）を成膜する。

【００５２】次に、図１９に示すように、上記ヘッドコ
アブロック３４同士をトラック位置合わせして突き合わ
せ、融着ガラス３５によって接合一体化する。

【００５３】そして、接合一体化されたブロックに対し
て円筒研磨を施し、巻線溝３０にかかる位置、つまり図
１９中ｅ−ｅ線で示す位置まで研磨する。次に、図１９
中ｆ−ｆ線及びｇ−ｇ線で示す位置でスライシング加工
し、複数個のヘッドチップに切り出す。このスライシン
グ加工においても同様に、金属磁性薄膜３２を切削する
ことになるが、金属磁性薄膜３２と基板２９との密着性
が極めて高いため、当該金属磁性薄膜３２が上記基板２
９より剥がれるようなことがない。

【００５４】この結果、磁気ギャップｇと平行に配され
た金属磁性薄膜３２の突合わせ面に磁気ギャップｇが構
成された磁気ヘッドが得られる。

【００５５】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、第１
の発明にかかる金属磁性薄膜の斜め膜同士の突合わせ面
に磁気ギャップが構成されてなる磁気ヘッドを作製する
に際して、基板に形成した第１の溝の斜面に密着性を高
める酸化リアクティブ下地膜を成膜した後、金属磁性薄
膜を形成するようにしているので、当該基板と金属磁性
薄膜との密着性を向上させることができる。したがっ
て、ガラスパック等の作業をすることなく金属磁性薄膜
の膜剥がれを確実に防止することができ、生産性並びに
信頼性の高い磁気ヘッドを歩留りよく作製することがで
きる。また、ガラスパックによる高温加熱が基板に加わ
らないため、基板のヒビ割れも防止することができる。

【００５６】さらに、第２の発明にかかる磁気ギャップ
と平行に配された金属磁性薄膜の突合わせ面に磁気ギャ
ップが構成されてなる磁気ヘッドを作製するに際して、
磁気ギャップ形成面に密着性を高める酸化リアクティブ
下地膜を成膜した後、金属磁性薄膜を形成しているの
で、当該基板と金属磁性薄膜との密着性を向上させるこ
とができる。したがって、金属磁性薄膜の膜剥がれを確
実に防止することができるとともに、基板のヒビ割れも
防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、第１の溝形成工程を示す斜視図である。

【図２】実施例１の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、金属磁性薄膜形成工程を示す斜視図である。

【図３】実施例１の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、金属磁性薄膜形成部分を拡大して示す正面図であ
る。

【図４】実施例１の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、第２の溝形成工程を示す斜視図である。

【図５】実施例１の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、ガラス融着工程を示す斜視図である。

【図６】実施例１の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、円筒研磨工程を示す斜視図である。

【図７】実施例２の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、トラック幅規制溝形成工程を示す斜視図である。

【図８】実施例２の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、金属磁性薄膜形成工程を示す斜視図である。

【図９】実施例２の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、ガラス融着工程を示す斜視図である。

【図１０】実施例２の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、円筒研磨工程を示す斜視図である。

【図１１】実施例３の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、複合基板形成工程を示す斜視図である。

【図１２】実施例３の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、金属磁性薄膜形成工程を示す斜視図である。

【図１３】実施例３の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、磁気コア半体形成工程を示す斜視図である。

【図１４】実施例３の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、巻線溝形成工程を示す斜視図である。

【図１５】実施例３の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、接合工程を示す斜視図である。

【図１６】実施例４の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、巻線溝形成工程を示す斜視図である。

【図１７】実施例４の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、金属磁性薄膜形成工程を示す斜視図である。

【図１８】実施例４の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、トラック幅規制溝形成工程を示す斜視図である。

【図１９】実施例４の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、ガラス融着工程を示す斜視図である。

【図２０】実施例４の磁気ヘッドの製造工程を示すもの
で、円筒研磨工程を示す斜視図である。

【図２１】従来の磁気ヘッドの製造工程を示すもので、
第１の溝形成工程を示す斜視図である。

【図２２】従来の磁気ヘッドの製造工程を示すもので、
金属磁性薄膜形成工程を示す斜視図である。

【図２３】従来の磁気ヘッドの製造工程を示すもので、
ガラスパック工程を示す斜視図である。

【図２４】従来の磁気ヘッドの製造工程を示すもので、
第２の溝形成工程を示す斜視図である。

【図２５】従来の磁気ヘッドの製造工程を示すもので、
ガラス融着工程を示す斜視図である。

【図２６】従来の磁気ヘッドの製造工程を示すもので、
円筒研磨工程を示す斜視図である。

【符号の説明】

２・・・第１の溝３，１３，２１，３１・・・酸化リアクティブ下地膜４，１４，２２，３２・・・金属磁性薄膜５・・・第２の溝８，１６，３５・・・融着ガラス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者村上明東京都品川区北品川６丁目５番６号ソニー・マグネ・プロダクツ株式会社内 (72)発明者香坂昌也東京都品川区北品川６丁目５番６号ソニー・マグネ・プロダクツ株式会社内 (72)発明者小野寺修東京都品川区北品川６丁目５番６号ソニー・マグネ・プロダクツ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気ギャップ形成面となるべき面に対し
て傾斜した斜面を有する第１の溝を基板に形成する工程
と、少なくとも上記第１の溝の斜面に酸化リアクティブ
下地膜を成膜した後、金属磁性薄膜を形成する工程と、
上記斜面に近接してトラック幅を規制するための第２の
溝を形成する工程とによりヘッドコアブロックを作製
し、このヘッドコアブロック同士を接合した後、ヘッド
チップに切り出すことを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
【請求項２】磁気ギャップ形成面となるべき面に対し
てトラック幅規制溝を形成する工程と、少なくとも磁気
ギャップ形成面に酸化リアクティブ下地膜を成膜した
後、金属磁性薄膜を形成する工程とによりヘッドコアブ
ロックを作製し、このヘッドコアブロック同士を接合し
た後、ヘッドチップに切り出すことを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。