JPS62128013A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く技術分野〉 本発明は、スパッタリング法、真空蒸着法等の薄膜形成
技術を用いて形成された軟磁性金属薄膜をコアとして用
いてなるハードディスク用浮上型高密度磁気記録用とし
て好適な磁気ヘッドに関するものである。

〈従来技術〉 近年、磁気記録の分野において記録密度の向上。

は著しく、それにつれて電磁変換素子としての磁気ヘッ
ドは狭ギャップ化、狭トラツク化へ向けて開発が進めら
れている。又、高保磁力材料を用いて構成される記録媒
体に十分な記録磁界を与えるために、ヘッドコア材料と
しても飽和磁束密度の高い、そして記録周波数の増加に
伴なって高周波領域での再生感度向上のために透磁率の
高周波特性の優れた材料が検討されている。

ハードディスク用の浮上型ヘッドにおいては、高密度化
に対応して低浮上スライダーや、薄膜ヘッド技術の研究
が行なわれている。ハードディスク用の浮上型ヘッドで
は、浮上させるためにスライダー後端部付近にヘッドが
構成されるが、従来、そのヘッドは構成法によって■モ
ノリシック型、■フェライトコアを非磁性スライダーに
搭載したコンポジット型、■薄膜型等がある。しかし、
これらの磁気ヘッドには、高密度化への対応を行なうに
あたって次のような問題点があった。モノリシック型ヘ
ッドについては狭トラツク化を行なう際に、ヘッドアク
セス部の厚さの低下のために、前記箇所の機械的強度の
低下をまねく。そのためアクセス時の耐久性が低下し、
ヘッドクラッシュが発生しやすくなるためＣ８Ｓや長時
間の安定なアクセスには問題がある。コンポジント型ヘ
ッドについては前記モノリシック型の問題点は改善され
たが、コア材料としてフェライトを使用しているため、
飽和磁束密度および透磁率の周波数特性については記録
密度向上という点で十分でない。

薄膜型ヘッドについてはヘッドアクセス部の強度および
コア材料特性の点で、前記２種のへ・ソドに比べ優れて
いるが、その作製には多くの加工プロセスを必要とする
ので製造上困難であるという問題を有する。

〈発明の目的〉 本発明は上記従来技術の問題点を解消するためになされ
たものであり、加工プロセスが容易で安価な高密度磁気
記録に適用し得る磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。

〈実施例〉 第１図は本発明の１実施例である浮上型高密度磁気記録
用の磁気ヘッドスライダ−の斜視図である０ 又、第２図乃至第６図に本発明に係る磁気ヘッドの製造
工程を示す。

第２図においてガラス、セラミンク等より選択された非
磁性基板１上に、電子ビーム蒸着法によりＦｅ−Ａｌ−
３ｉ膜２を磁気ヘッドのトラック幅に相当する厚さに形
成する。この際高周波領域における渦電流損失に起因す
る透磁率の低下を防ぐために、電気的絶縁性を有する材
料、例えばＳ　ｉ０２　。

Ａｌ２Ｏ３等の酸化物や窒化物３を中間層として介挿し
、ラミネート構造の薄膜コアとする。但し合金膜２のみ
であっても実用可能である。Ｆｅ−Ａｌ−３ｉ膜２上に
は第３図の如く酸化等の防止、耐摩耗性の向上、また後
述する低融点ガラスとの相互拡散による熱融合での接着
強度向上の目的でＳ　ｉ０２あるいはＡｌ２ｏ３の保護
膜４を形成する。さらに、保護膜４の上に低融点ガラス
５を被覆し、その上に第４図の如く非磁性基板！′を搭
載し、両弁磁性基板１，１′を加圧治具６の中で、外方
より圧力（Ｐ）でコア部全体を加圧支持する。

上記低融点ガラス５としては、シート状あるいは薄膜の
ものを用いてもよい。第４図の状態で、窒素ガスを流し
、窒素ガス雰囲気中において、加熱処理を施こす。この
処理により、Ｆｅ−Ａｌ−３ｉ膜２の保護膜４と低融点
ガラス５．低融点ガラス５（！−非磁性基板１′の界面
は材料の相互拡散によって均一に接合される。また、こ
の熱処理はＦｅ−Ａｌ−５ｉ膜２のアニール処理も兼ね
ている。以上の工程により、Ｆｅ−Ａｌ−３ｉ膜２が非
磁性基板！。

１′によってはさみ込まれた構造をもつ磁気コアを作製
することができる。次に第５図のＡＢＣＤで囲まれる平
面でこのコアを切断し、ＡＢＣＤで切断した面について
、その一方にコイル巻線の為の溝８を入れ、さらに表面
を精密研磨し、ギャップ突合せ前のコア部材とする。次
に磁気的なギャップスペーサ−（５ｉ０２．Ａｌ２０１
膜等の非磁性膜）を介してギャップ形式を行なう。

以上により第６図の如く磁気ヘッドのブロックが形成さ
れる。

さらにこの様に形成されたブロックを例えば次の様な工
程を経る事により、浮上型ヘッドスライダ−の形状に加
工を行なう。

まず、媒体対向面（第６図の上面）の鏡面仕上げを行な
う。この時ギャップデプスｄを所定の値に設定する。次
に、テーパーフラット部（第１図の符号９）の加工を施
こし、さらに、所定の浮上量が得られる様にレール（第
１図の符号１０）加工を行なう。この後前述のコアの片
側（第５図でカットした部分）をスライスして一部除去
し、その後巻線７を施こす。最終的に、このヘッドスラ
イダ−１２を第７図の如くサスペンション１１に取付け
る事によって、浮上型磁気ヘッドが作製される。同図で
１３はジンバル板バネである。

尚、上記実施例では、軟磁性金属薄膜さして、電子ビー
ム蒸着法で形成したＦｅ−Ａｌ−３ｉ膜を用いたが、ス
パッタリング法による形成方法を用いてもよく、あるい
は他の軟磁性金属の材料薄膜でも、本発明の実施に際し
て何ら支障は生じない。

また、上記実施例では、スライダーはテーパーフラット
型正圧スライダーを示したが、他の正圧型あるいは負圧
型スライダーにも適用できる。

〈発明の効果〉 以上の本発明によれば、次の効果がある。

りコア材として、軟磁性金属を用いているので、コア材
の飽和磁化の大きさが従来のフェライトに比べて大きく
、高保磁力媒体への記録が可能である。

２）高周波領域での透磁率の増大化および狭トラツク化
とも相俟って高密度での記録再生が可能となる。

３）トラック幅を軟磁性金属薄膜の膜厚で制御できるの
で、ヘッドアクセス部を薄くする必要がない。そのため
強固なギャップ部が形成され、媒体との接触（Ｃ５Ｓ）
による損傷が少なく、耐久性に優れている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの！実施例を示すスラ
イダーの斜視図、第２図乃至第６図はその製造工程を示
す斜視図、第７図は浮上型磁気ヘッドの斜視図を示す。 図中、 １．１’：非磁性基板　２：軟磁性金属薄膜３：絶縁膜
　４、保護膜　５．低融点ガラス６：加圧部材　７：巻
線　８：溝　９：テーパフラット部　ｊＯ：レール　１
１：サスペンション１２：ヘッドスライダ−１３ニシン
パル板バネ代理人　弁理士　福　士　愛　彦（他２名）
１２　　　第１図 ｇ％３図 第４図 気５（７１

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、非磁性基板上に軟磁性金属薄膜を成膜し、前記軟磁
   性金属薄膜を非磁性スペーサーを介して突き合わせた磁
   気ヘッドを浮上型スライダーとして構成したことを特徴
   とする磁気ヘッド。