JPS6218617A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6218617A JPS6218617A JP15914685A JP15914685A JPS6218617A JP S6218617 A JPS6218617 A JP S6218617A JP 15914685 A JP15914685 A JP 15914685A JP 15914685 A JP15914685 A JP 15914685A JP S6218617 A JPS6218617 A JP S6218617A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- head
- magnetic
- slider
- groove
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明はスパッタリング法、真空蒸着法等の薄膜形成技
術を用いて形成された軟磁性金属薄膜をコアとして用い
た磁気ヘッドに関するものである。
術を用いて形成された軟磁性金属薄膜をコアとして用い
た磁気ヘッドに関するものである。
〈従来技術〉
近年、磁気記録の分野において記録密度の向上は著しく
、これに対応するべく電磁変換素子としての磁気ヘッド
において、狭ギャップ化、狭トラツク化へ向けて開発が
進められている。
、これに対応するべく電磁変換素子としての磁気ヘッド
において、狭ギャップ化、狭トラツク化へ向けて開発が
進められている。
又、ヘッドコア材料としては高保持力材料を用いた記録
媒体に充分な記録磁界を与えるために飽和磁束密度の高
いそして記録周波数の増加に伴って高周波領域での再生
感度向上のために透磁率の高周波特性の優れた材料が検
討されている。又、ハードディスク用の浮上型ヘッドに
おいても、高密度化に対応して低浮上スライダーや薄膜
ヘッドの研究が行なわれている。尚浮上型ヘッドでは従
来浮上させるためのスライダー後端部付近にヘッドが構
成された。
媒体に充分な記録磁界を与えるために飽和磁束密度の高
いそして記録周波数の増加に伴って高周波領域での再生
感度向上のために透磁率の高周波特性の優れた材料が検
討されている。又、ハードディスク用の浮上型ヘッドに
おいても、高密度化に対応して低浮上スライダーや薄膜
ヘッドの研究が行なわれている。尚浮上型ヘッドでは従
来浮上させるためのスライダー後端部付近にヘッドが構
成された。
従来、磁気ヘッドはその構成法によって（１）モノリシ
ックｆｆＬ （２）フェライトコアを非磁性スラ、イダ
ーに搭載したコンポジット型、（３）薄膜型等に分ける
ことができる。しかしこれらのヘッドには高密度化を行
うにあたって次のような問題点があった。
ックｆｆＬ （２）フェライトコアを非磁性スラ、イダ
ーに搭載したコンポジット型、（３）薄膜型等に分ける
ことができる。しかしこれらのヘッドには高密度化を行
うにあたって次のような問題点があった。
モノリシック型ヘッドについては狭トラツク化を行う際
に、ヘッドアクセス部の厚さの低下のために前記箇所の
機械的強度の低下をまねく。そのためアクセス時の耐久
性が低下しヘッドクラッシュが発生しやすくなるため長
時間の安定なアクセスには問題がある。コンポジット型
については前記モノリシック型の問題点は改善されたが
、コア材料としてフェライｌ−に使用しているため飽和
磁束密度および透磁率の周波数特性については記録密度
向上という点で充分でない。薄膜ヘッドについてはヘッ
ドアクセス部の強度およびコア材料特性の点で前記２種
のヘッドに比べて優れているが、その作製には多くの加
工プロセスを必要とする。
に、ヘッドアクセス部の厚さの低下のために前記箇所の
機械的強度の低下をまねく。そのためアクセス時の耐久
性が低下しヘッドクラッシュが発生しやすくなるため長
時間の安定なアクセスには問題がある。コンポジット型
については前記モノリシック型の問題点は改善されたが
、コア材料としてフェライｌ−に使用しているため飽和
磁束密度および透磁率の周波数特性については記録密度
向上という点で充分でない。薄膜ヘッドについてはヘッ
ドアクセス部の強度およびコア材料特性の点で前記２種
のヘッドに比べて優れているが、その作製には多くの加
工プロセスを必要とする。
〈発明の目的〉
本発明は上記従来技術の問題点を解消するためになされ
たものであり、加工プロセスが容易で安価な高密度磁気
記録用ヘッドを提供することを目的とする。
たものであり、加工プロセスが容易で安価な高密度磁気
記録用ヘッドを提供することを目的とする。
〈実施例〉
第１図は本発明の１実施例の浮上型高密度磁気記録用ヘ
ッドの斜視図である。
ッドの斜視図である。
ヘッド本体はヘッド部（Ｈ）とスライダ一部（Ｓ）とか
ら成シ、それぞれ独立に加工されたものを接着すること
によシ一体化している。第２図は第１図のヘッド部（Ｈ
）の斜視図である。第３図は第１図のスライダ一部（Ｓ
）の斜視図である。
ら成シ、それぞれ独立に加工されたものを接着すること
によシ一体化している。第２図は第１図のヘッド部（Ｈ
）の斜視図である。第３図は第１図のスライダ一部（Ｓ
）の斜視図である。
次にヘッド部（Ｈ）の製作手順について説明する。
第４図乃至第７図ば本発明の１実施例である磁気ヘッド
の製造工程順に示した要部斜視図である。
の製造工程順に示した要部斜視図である。
第４図はＦｅ−Ａｎ−３ｉ膜を下地基板に形成した状態
を示す。まず、ガラス、セラミック等より選択された非
磁性基板４上に電子ビーム蒸着法によシ、鉄、硅素及び
アルミニウムからなる合金膜２（以下Ｆｅ−ＡＪ−５ｉ
膜と称す）を蒸気ヘッドのトラック幅に相当する厚さに
形成する。この際、同図の構造は高周波領域における渦
電流損、失に起因する透磁率の低下を防ぐために電気的
絶縁性を有する材料例えばＳ ｉ０２ 、Ａｌ２Ｏ３等
の酸化物や窒化物を中間層として介層し、ラミネート構
造の薄膜コアとしているが、合金膜２のみであっても実
用可能である。次に第５図に示す様にＦｅＡＪＳｉ膜２
上には膜化上の防止、耐摩耗性の向上、及び後述する低
融点ガラスとの相互拡散による熱融合での接合強度向上
の目的で５ｉ０２あるいはＡ４□０３の保護膜５を形成
する。保護膜５の上に低融点ガラス６、非磁性基板７を
順次載置し、両非磁性基板４，７を加圧治具８の中で外
方より圧力Ｐでコア部材全体を加圧支持する。上記低融
点ガラス６としてはシート状あるいは薄膜のものを用い
てもよい。この状態で窒素ガスを流し、窒素ガヌ雰囲気
中において加熱処理を施す。
を示す。まず、ガラス、セラミック等より選択された非
磁性基板４上に電子ビーム蒸着法によシ、鉄、硅素及び
アルミニウムからなる合金膜２（以下Ｆｅ−ＡＪ−５ｉ
膜と称す）を蒸気ヘッドのトラック幅に相当する厚さに
形成する。この際、同図の構造は高周波領域における渦
電流損、失に起因する透磁率の低下を防ぐために電気的
絶縁性を有する材料例えばＳ ｉ０２ 、Ａｌ２Ｏ３等
の酸化物や窒化物を中間層として介層し、ラミネート構
造の薄膜コアとしているが、合金膜２のみであっても実
用可能である。次に第５図に示す様にＦｅＡＪＳｉ膜２
上には膜化上の防止、耐摩耗性の向上、及び後述する低
融点ガラスとの相互拡散による熱融合での接合強度向上
の目的で５ｉ０２あるいはＡ４□０３の保護膜５を形成
する。保護膜５の上に低融点ガラス６、非磁性基板７を
順次載置し、両非磁性基板４，７を加圧治具８の中で外
方より圧力Ｐでコア部材全体を加圧支持する。上記低融
点ガラス６としてはシート状あるいは薄膜のものを用い
てもよい。この状態で窒素ガスを流し、窒素ガヌ雰囲気
中において加熱処理を施す。
この処理によりＦ ｅＡＪ Ｓ ｉ膜の保護薄膜５と低
融点ガラス６、非磁性基板７と低融点ガラス６の界面は
材料の相互拡散によって均一に接合される。
融点ガラス６、非磁性基板７と低融点ガラス６の界面は
材料の相互拡散によって均一に接合される。
この熱処理はまた、ＦｅＡβＳｉ膜２のアニール処理も
兼ねている。以上の工程によりＦｅ−Ａｇ−３ｉ膜２が
非磁性基板４，７によってはさみ込まれた構造をもつ磁
気コアを作製することができる。
兼ねている。以上の工程によりＦｅ−Ａｇ−３ｉ膜２が
非磁性基板４，７によってはさみ込まれた構造をもつ磁
気コアを作製することができる。
次に第５図のＡＢＣＤで囲まれる平面でこのコアを切断
しＡＢＣＤ面で切断した面についてその一方にコイル巻
線の為の溝を入れ、さらに表面を精密研摩しギャップ突
合せ前のコア部材とする。
しＡＢＣＤ面で切断した面についてその一方にコイル巻
線の為の溝を入れ、さらに表面を精密研摩しギャップ突
合せ前のコア部材とする。
これを第６図に示す。
次に磁気的なギャップ用スペーサ（ＳｉＯ２膜、Ａ ６
２０３膜などの非磁性膜）を介してギャップ形成を行な
う。これを第７図に示す。この様なヘッドの溝Ａに巻線
１０を巻回すれば第１図に示すヘッド部（Ｈ）が得られ
る。
２０３膜などの非磁性膜）を介してギャップ形成を行な
う。これを第７図に示す。この様なヘッドの溝Ａに巻線
１０を巻回すれば第１図に示すヘッド部（Ｈ）が得られ
る。
次にスライダ一部の構成について説明する。
スライダ一部の形状としては第３図に示す様にヘッドチ
ップを挿入するための溝９を中央部に形成する。このス
ライダー材質としてはヘッド構成部分と同質の非磁性材
が望ましい。この様なスライダーの溝９に前述した様に
作製した軟磁性薄膜コアヘッドのチップを樹脂接着望ま
しくはガラスボンディングを用いて取シ付ける。
ップを挿入するための溝９を中央部に形成する。このス
ライダー材質としてはヘッド構成部分と同質の非磁性材
が望ましい。この様なスライダーの溝９に前述した様に
作製した軟磁性薄膜コアヘッドのチップを樹脂接着望ま
しくはガラスボンディングを用いて取シ付ける。
更に、これらのヘッド及びスライダーが所定の浮上量を
得られる様に媒体対向面を仕上げ、装置本体側のサスペ
ンションへの取付けを行なう。以上により浮上型高密度
磁気記録用ヘッドが作製される。木実施例では軟磁性金
属薄膜として電子ビーム蒸着法で形成したＦｅＡＡ’Ｓ
ｉ膜を用いたが、ヌパッタリング法による形成方法を用
いてもよくあるいは他の軟磁性金属の材料薄膜でも本発
明の実施に際しては何ら支障は生じない。
得られる様に媒体対向面を仕上げ、装置本体側のサスペ
ンションへの取付けを行なう。以上により浮上型高密度
磁気記録用ヘッドが作製される。木実施例では軟磁性金
属薄膜として電子ビーム蒸着法で形成したＦｅＡＡ’Ｓ
ｉ膜を用いたが、ヌパッタリング法による形成方法を用
いてもよくあるいは他の軟磁性金属の材料薄膜でも本発
明の実施に際しては何ら支障は生じない。
尚、本実施例ではスライダーは正圧型スライダーである
が、負圧型スライダーにも本発明は適用できる。
が、負圧型スライダーにも本発明は適用できる。
〈発明の効果〉
（１） コア材として軟磁性金属を用いているのでコ
ア材の飽和磁化の大きさが従来のフェライトに比べて大
きく高保持力媒体での記録が可能である。
ア材の飽和磁化の大きさが従来のフェライトに比べて大
きく高保持力媒体での記録が可能である。
（２）高周波領域での透磁率の増大化及び狭トラツク化
とも相俟って高密度での磁気記録再生が可能となる。
とも相俟って高密度での磁気記録再生が可能となる。
（３）トラック幅を基板に積層する膜厚で制御できるの
で、ヘッドアクセス部を薄くする必要がない。そのため
強固なギャップ部が形成され、媒体との摺動による損傷
が起こらない。
で、ヘッドアクセス部を薄くする必要がない。そのため
強固なギャップ部が形成され、媒体との摺動による損傷
が起こらない。
第１図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例の斜視図、
第２図はヘッド部の斜視図、第３図はスライダ一部の斜
視図、第４図乃至第７図は磁気へラドの製造工程順に示
した斜視図である。 図中、１・・・非磁性部材 ２・・・ＦｅＡ６Ｓｉ膜
３．５・・・絶縁膜 ４，７・・・非磁性基板６・低
融点ガラス ８・・・治具押圧板９・・・溝 １０
・・・コイル 代理人 弁理士 福 士 愛 彦（他２名）第２図 第３図 第４図 し 第５図 第７図
第２図はヘッド部の斜視図、第３図はスライダ一部の斜
視図、第４図乃至第７図は磁気へラドの製造工程順に示
した斜視図である。 図中、１・・・非磁性部材 ２・・・ＦｅＡ６Ｓｉ膜
３．５・・・絶縁膜 ４，７・・・非磁性基板６・低
融点ガラス ８・・・治具押圧板９・・・溝 １０
・・・コイル 代理人 弁理士 福 士 愛 彦（他２名）第２図 第３図 第４図 し 第５図 第７図
Claims (1)
- １、非磁性基板上に軟磁性金属薄膜を成膜し前記軟磁性
金属薄膜を非磁性スペーサを介して突き合わせた磁気ヘ
ッドを、ヘッド挿入用溝を形成した非磁性スライダーに
挿入固定したことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15914685A JPS6218617A (ja) | 1985-07-16 | 1985-07-16 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15914685A JPS6218617A (ja) | 1985-07-16 | 1985-07-16 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6218617A true JPS6218617A (ja) | 1987-01-27 |
Family
ID=15687259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15914685A Pending JPS6218617A (ja) | 1985-07-16 | 1985-07-16 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6218617A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58104148A (ja) * | 1981-12-14 | 1983-06-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体機器のリ−ド材用銅合金 |
| US5168407A (en) * | 1990-03-26 | 1992-12-01 | Nippon Mining Company, Ltd. | Flying magnetic head |
-
1985
- 1985-07-16 JP JP15914685A patent/JPS6218617A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58104148A (ja) * | 1981-12-14 | 1983-06-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体機器のリ−ド材用銅合金 |
| US5168407A (en) * | 1990-03-26 | 1992-12-01 | Nippon Mining Company, Ltd. | Flying magnetic head |
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