JPH0887727A

JPH0887727A - 磁気ヘッド装置

Info

Publication number: JPH0887727A
Application number: JP22300594A
Authority: JP
Inventors: Seiichi Ogata; 誠一小形; Takashi Sugano; 丘菅野; Hisami Takahashi; 久美高橋; Atsushi Sato; 敦佐藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1994-09-19
Filing date: 1994-09-19
Publication date: 1996-04-02

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は、強い接着強度と高い精度を確保せ
しめることにより回転ドラム等の被取付け部材に対して
高精度の組み立てが行える磁気ヘッド装置を提供するこ
とを目的とする。【構成】磁気ヘッドチップがその媒体摺動面を突出さ
せた状態でヘッド取付基台５１に貼着固定されてなる磁
気ヘッド装置５０において、上記ヘッド取付基台におけ
る磁気ヘッドチップの接着面５１ａ側の表面粗さが、ド
イツ工業規格（ＤＩＮ）４７６３において定義された中
心線の深さで、０．０５μｍ以上で２μｍ以下である構
成の磁気ヘッド装置５０とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドがその媒体
摺動面を突出させた状態でヘッド取付基台に接着固定さ
れてなる磁気ヘッド装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ビデオテープレコーダ（以下、
「ＶＴＲ」という。）等の磁気記録再生装置には、回転
ドラムに搭載されるとともに、磁気記録媒体と接触して
情報の信号を記録及び／又は再生を行う磁気ヘッド装置
が知られている。

【０００３】上記磁気ヘッド装置は、磁気ヘッドがその
媒体摺動面を突出させた状態で板状のヘッド取付基台に
載置されて構成され、上記回転ドラムとともに回転し
て、上記磁気ヘッドが回転ドラムの周面に沿ってある角
度で走行する磁気記録媒体と接触して情報信号の記録及
び／又は再生を行うものである。

【０００４】まず、上記磁気ヘッドは、コイルが巻回さ
れる巻線溝を有する磁気コア半体と巻線溝を有しない磁
気コア半体が突き合わされ接合一体化されて、その突き
合わせ面間に磁気ギャップが構成されてなる。また、上
記磁気ギャップが構成される媒体摺動面は、上記磁気記
録媒体との接触を確保し、スペーシングロスを低減すべ
く、ラップ仕上げにより円弧状に研磨されて形成されて
いる。

【０００５】そして、上記構成の磁気ヘッドを装置本体
側の被取付け部材に取り付ける場合には、この被取付け
部材との間の介在部材であるヘッド取付基台を介して、
磁気ヘッドをヘッド取付基台の前方側に上記円弧状の媒
体摺動面を突出させた状態で載置する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気ヘッド
を装置本体側の被取付け部材にヘッド取付基台を介して
取付ける場合には、磁気ギャップの距離や平行度、さら
にトラック等を高い精度に位置決め調整する必要があ
る。

【０００７】しかしながら、磁気記録の高密度化に伴
い、磁気ヘッド装置には一層高精度な組立が要求されて
きているために、上記従来の磁気ヘッド装置には、その
組み立て工程において、次のような問題が生じている。

【０００８】例えば、家庭用ＶＴＲでは、回転ドラムの
１８０度対向する位置にアジマス角の異なる２個の磁気
ヘッドがヘッド取付基台に接着固定されて組み立てられ
る場合がある。

【０００９】このような組み立てにおいては、磁気ヘッ
ドが磁気記録媒体に対して均一な記録トラックパターン
を形成するために、磁気ヘッドに形成された磁気ギャッ
プのヘッド取付基台の主面に直交する方向の位置（以
下、高さ方向の位置と称する。）の調整が必要となる。

【００１０】このため従来では、この高さ方向の位置の
調整は、磁気ヘッドが載置される各ヘッド取付基台の少
なくとも一方を、このヘッド取付基台に当接する調整ネ
ジをねじ込ませて、調整ネジの先端部がヘッド取付基台
の主面に当接させて変位させることで、このヘッド取付
基台に接着固定された磁気ヘッドの磁気ギャップの高さ
方向の位置を調整している。

【００１１】しかしながら、このような方法の高さ方向
の位置の調整では、磁気ヘッドの位置がずれることによ
り磁気ヘッドの磁気ギャップ位置がトラック幅の中心か
らずれてしまうことになる。この磁気ギャップ位置がず
れが大きくなると、磁気ヘッドと記録媒体との正確な当
たりが確保されず、再生出力が劣化する。この傾向は、
情報信号の高記録密度化に伴いトラック幅が狭くなれば
狭くなる程顕著に現れる。

【００１２】一方、上記回転ドラムの偏心等によって磁
気ヘッドの位置に変化が生じて、先行した磁気ヘッドに
よって記録された情報信号の一部に、後続の磁気ヘッド
により新たな情報信号が記録され、消去されてしまうと
いう異常トラックパターンが発生し、再生出力が劣化す
る場合がある。この異常トラックパターンが再生出力に
及ぼす影響も、情報信号の高記録密度化に伴いトラック
幅が狭くなる程顕著に現れる。

【００１３】このため従来では、この異常トラックパタ
ーンを解決すべく、一のヘッド取付基台にアジマス角度
の異なる２つ以上の磁気ヘッド並列して接着固定して、
各々の磁気ヘッドの磁気ギャップの高さ方向の位置の差
が、磁気記録媒体に記録される情報信号のトラックピッ
チとほぼ等しくなるように段差を設けて、同時に記録再
生を行うように組み立てられている。この組み立ての場
合、各々の磁気ヘッドの高さ方向の段差がトラックピッ
チとなるため、各々の磁気ヘッドの高さ方向の相対的な
位置を高精度に位置決めする必要がある。

【００１４】そして、磁気ヘッドの高さ方向の精度を向
上させるためには、磁気ヘッドのヘッド取付基台に対す
る接着面からトラックエッジ迄の高さ寸法を高度に設定
するともに、ヘッド取付基台の磁気ヘッドが接着される
側の面粗さを平滑にする必要がある。

【００１５】しかしながら、この面粗さを平滑にしすぎ
ると、接着剤等がうまく着かず磁気ヘッドとヘッド取付
基台の接着強度が不足することとなって、磁気ヘッドの
接着工程以降のコイルの巻装等の製造工程において、剥
離による製品不良が増加するという問題を有する。

【００１６】そこで、本発明は、磁気ヘッドをヘッド取
付基台に接着固定するに際し、強い接着強度と高い精度
を確保せしめることにより、回転ドラム等の被取付け部
材に対して高精度の組み立てが行える磁気ヘッド装置を
提供することを目的とするものである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成すべく、磁気ヘッドチップがその媒体摺動面を突出さ
せた状態でヘッド取付基台に接着固定される磁気ヘッド
装置において、上記ヘッド取付基台における磁気ヘッド
の接着面側の表面粗さが、ドイツ工業規格（ＤＩＮ）に
おいて定義された中心線の深さで、０．０５μｍ以上で
２μｍ以下であることを特徴とする。

【００１８】上記表面粗さが中心線の深さで０．０５μ
ｍ未満のものを用いたヘッド取付基台では、磁気ヘッド
の半数以上がヘッド取付基台から剥離した。

【００１９】しかし、ヘッド取付基台５１の磁気ヘッド
チップの接着面側の表面粗さを中心線の深さが０．０５
μｍ以上で０．１μｍ未満のヘッド取付基台では、磁気
ヘッドが剥離したのは僅かにすぎず、０．１μｍ以上で
のヘッド取付基台を用いた磁気ヘッド装置ではほぼ皆無
であった。

【００２０】

【作用】本発明に係る磁気ヘッド装置は、上記ヘッド取
付基台における磁気ヘッドチップの接着面側の表面粗さ
が、ドイツ工業規格（ＤＩＮ）４７６３において定義さ
れた中心線の深さＧが、０．０５μｍ以上２μｍ以下で
あることにより、磁気ヘッドチップをヘッド取付基台に
接着固定するに際し、強い接着強度と高い精度を確保せ
しめることにより、回転ドラム等の被取付け部材に対し
て高精度の組み立てが行える。

【００２１】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。

【００２２】作製される磁気ヘッドの構成本実施例が対象とする磁気ヘッドは、図４に示すよう
に、金属磁性膜３が膜厚方向より一対の基板１１，１２
により挟み込まれてなる磁気コア半体１と、同様に金属
磁性膜４が膜厚方向より一対の基板１３，１４により挟
み込まれてなる磁気コア半体２が、上記金属磁性膜３，
４を突き合わせるようにして接合一体化されたものであ
る。そして、上記金属磁性膜３，４の突き合わせ面間に
は、ギャップｇ₁（フロントギャップ）と、ギャップｇ
₂（バックギャップ）が形成され、該金属磁性膜３，４
により閉磁路が構成されている。

【００２３】また、上記磁気ヘッドにおいては、一方の
磁気コア半体２の対向面に、その一端によりフロントギ
ャップｇ₁のデプス（深さ）ｄを規制するとともに、図
示しないコイルを巻装するための巻線溝８が設けられて
いる。なお、この巻線溝８と対向する反対側の各側面に
は、コイルの巻装状態を良好なものとなすための巻線ガ
イド溝１８，１９が設けられている。

【００２４】また、上記金属磁性膜３，４は、高周波帯
域での渦電流損失を回避するため、絶縁膜を介して交互
に何層にも積層されている。

【００２５】上記金属磁性膜３、４は、各種強磁性材料
の他に、例えば高飽和磁束密度を有し、かつ軟磁気特性
に優れた強磁性合金材料が使用できるが、かかる強磁性
合金材料としては従来より公知のものがいずれも使用で
き、結晶質であるか、非結晶質であるかを問わない。

【００２６】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
（センダスト）、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ
系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系
合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合
金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ
−Ａｌ系合金等が挙げられる。また、耐蝕性や耐摩耗性
等の一層の向上を図るために、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，
Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の少なくとも一種
を添加したものであってもよい。また、酸素含有センダ
スト，窒素含有センダスト、酸素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ
−Ｒｕ系合金、窒素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金
等の結晶質磁性膜でも良い。さらには、Ｆｅ系微結晶
膜、Ｃｏ系微結晶膜を用いてもよい。

【００２７】また、強磁性非晶質合金、いわゆるアモル
ファス合金（例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの１つ以上の元
素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素からなる合金、
またはこれらを主成分としているＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，
Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系アモルフ
ァス合金、或いはＣｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素や希土
類元素等を主成分とするメタル−メタル系アモルファス
合金）等が挙げられる。

【００２８】これら金属磁性膜３，４の成膜方法として
は、膜厚制御性に優れるスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、イオンビーム法等に代表
される真空薄膜形成技術が採用されている。

【００２９】また、上記基板１１、１２、１３、１４に
は、フェライト材の他に、非磁性フェライト、酸化ジル
コニウム系セラミック、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系
セラミック、ＢａＴｉＯ₃，Ｋ₂ＴｉＯ₃等のチタン酸
系セラミック等が用いられる。

【００３０】上記磁気ヘッドにおいては、基板１１，１
２，１３，１４を用いていることから、磁気ギャップの
トラック幅Ｔｗは、上記金属磁性膜３，４の膜厚によっ
て決定される。

【００３１】また、この磁気ヘッドは、上記磁気コア半
体１，２同士を融着ガラス２０によって接合一体化され
ている。なお、磁気記録媒体摺動面には、磁気記録媒体
との当たりを確保するための段差１６，１７が設けられ
ている。

【００３２】そして、上記磁気ヘッドは、その円弧状の
媒体摺動面を突出させた状態でヘッド取付基台５１に接
着固定される。

【００３３】ヘッド取付基台の構成このヘッド取付基台５１は、図１及び図２に示すよう
に、真鍮を材料として略矩形状に形成され、該矩形状の
一側端部に上記磁気ヘッドチップが接着固定される固定
部５２が一体に突出形成されている。このヘッド取付基
台５１の一方の面は、上記磁気ヘッドがコイルを巻装さ
れていない磁気ヘッドチップの状態で接着固定される接
着面５１ａとされている。なお、磁気ヘッドチップが接
着固定される面は、上記接着面５１ａの上記固定部５２
側の載置部５３にのみ限るようにすることも可能であ
る。

【００３４】さらに、このヘッド取付基台５１は、上記
磁気ヘッドのフロントギャップｇ₁のデプスｄ方向とバ
ックギャップｇ₂の軸線と一致する位置に取付け穴５
４，５５が穿設されている。

【００３５】そして、ヘッド取付基台５１の接着面５１
ａに上記磁気ヘッドチップが接着剤等により接着固定さ
れて磁気ヘッド装置５０が構成されることとなる。

【００３６】本実施例では、このヘッド取付基台５１の
接着面５１ａの表面粗さが、ドイツ工業規格（ＤＩＮ）
において定義された中心線の深さＧが、０．０５μｍ以
上で２μｍ以下となさている。

【００３７】ここで、ドイツ工業規格（ＤＩＮ）におい
て定義された中心線の深さＧとは、ＤＩＮ４７６３にお
いて定義されている。すなわち、図３・図４に示すよう
に、上の限界線から平均線（その線より上部にある曲線
の描く面積と下部にある曲線の描く面積とが、等しくな
るような水平線）までの深さをいい、μ単位で表示され
る。図３・図４に示されるＡ，Ｂ２つの面は、機械的性
質等を考えると当然Ａの方が良いと思われるが、最大高
さＨｍａｘで比較すると、ほとんど差が認められない。
しかし、平均線の深さＧで表示すると、明瞭に両者を区
別でき、Ａの方が表面粗さが良いように表示できる。こ
の値は、電気容量式表面粗さ測定機や電子管回路による
自動計算が可能で、ドイツにおいて広く用いられてい
る。

【００３８】そして、上記接着面５１ａの表面粗さを上
記範囲に設定するには、当該接着面５１ａをラップ液で
ラップし、そのときのラップ条件を適宜選定すれば良
い。

【００３９】このように構成される磁気ヘッド装置５０
は、ヘッド取付基台５１の取付け穴５３に図示しない取
付けネジがねじ込まれ、回転ドラム等の被取付け部材に
取付けられる。

【００４０】磁気ヘッドの製造方法次に上述した実施例に係る磁気ヘッド装置５０を製造す
る製造方法について説明する。

【００４１】先ず、図６に示すように、磁性フェライト
材よりなる基板２１と、これを重ね合わる基板２２を用
意する。そして、上記の一方の基板２１の主面に鏡面加
工を施す。

【００４２】なお、本実施例では、上記基板２１とし
て、単結晶の磁性フェライト材を用いたが、これに限ら
ず多結晶の磁性フェライト材や、これら単結晶と多結晶
の接合フェライト材、さらには、非磁性フェライト，Ｂ
ａＴｉＯ₃，Ｋ₂ＴｉＯ₃，結晶化ガラス等の非磁性材
等も使用可能である。

【００４３】また、本実施例に用いた上記単結晶フェラ
イトの結晶面の指数を図３に示す。すなわち、フェライ
ト結晶の切り出しの結晶方位を摺動方向において（１０
０）面が現れるようにした。但し、上記結晶面の指数と
は異なる単結晶フェライト、或いは、接合基板等を用い
てもよい。

【００４４】次に、図６及び図７に示すように、上記基
板２１に絶縁膜２６を介して金属磁性膜２５を積層す
る。

【００４５】ここで、本実施例においては、上記基板２
１上に、ＳｉＯ₂膜２４を形成し、このＳｉＯ₂膜２４
上にマスクスパッタを用いて必要最小限の面積に金属磁
性膜２５を形成する。

【００４６】まず、上記基板２１に金属磁性膜２５を成
膜する前提として、基板２１との付着力向上のための下
地層として５０ｎｍ厚のＳｉＯ₂膜２４が成膜した。こ
こで、成膜される下地層としては、上記ＳｉＯ₂膜２４
の他、Ｔａ₂Ｏ₅等の酸化物膜、Ｓｉ₃Ｎ₄等の窒化物
膜、或いは、Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜及びそ
れらの合金膜、或いは、それらを組み合わせた積層膜を
用いても良い。

【００４７】その後、上記ＳｉＯ₂膜２４上にマスクス
パッタを用いて金属磁性膜２５を形成する。この金属磁
性膜２５の厚さは、高周波特性向上のために一層当たり
の２〜５μｍとし、目的とするトラック幅Ｔｗの１〜３
倍程度の膜厚となる様に絶縁膜２６を介して数層積層す
る必要がある。なお、この絶縁膜２６に関しては、０．
１〜０．３μｍ厚のＳｉＯ_2,Ｔａ₂Ｏ₅等の酸化物膜、
Ｓｉ₃Ｏ₄等の窒化物膜等を用いれば良い。本実施例で
は、トラック幅Ｔｗを５μｍとするために１層当たりの
金属磁性膜２５の厚さを３μｍとし、絶縁膜２６として
の０．２μｍ厚のＳｉＯ_2,膜２４を介して三層重ね合わ
せた。

【００４８】次いで、図８及び図９に示すように、上記
金属磁性膜２５の表面と重ね合わせ側のフェライト基板
２２の表面にもスパッタリングを用いて０．１〜０．５
μｍ厚の低融点ガラス膜２７を形成する。

【００４９】このガラス膜２７は、上記基板２１の金属
磁性膜２５上の表面か、或いは、金属磁性膜２５を形成
していない重ね合わせ側の基板２２の表面かの少なくと
も一方の表面に形成しても良い。なお、本実施例では、
スパッタリングによって形成されたガラス膜２８を用い
たが、スピンコーティング等によって塗布されたフリッ
トガラスを用いてもよい。

【００５０】また、このガラス膜２７の成膜に際して
は、上記磁性基板２１の金属磁性膜２５と重ね合わせ側
の基板２２のフェライトとの反応防止を目的として、Ｓ
ｉＯ_2,Ｔａ₂Ｏ₅等の酸化物膜、Ｓｉ₃Ｏ₄等の窒化物
膜、Ｃｒ，Ａｌ，ＳｉＰｔ等の金属膜、これらの合金
膜、或いは、それらを組み合わせた積層膜を予めスパッ
タリング等を用いて形成しておいても良い。

【００５１】本実施例では、０．１μｍ厚のＣｒ膜２８
を上記磁性基板２１の金属磁性膜２５と重ね合わせ側の
基板２２のフェライトとの反応防止を目的として形成し
た後に、０．２μｍ厚のＰｂ系のガラス膜２７をやはり
スパッタリングを用いて形成した。

【００５２】以上のようにして、金属磁性膜２５が積層
された基板２１に重ね合わせ側の基板２２を圧着しなが
ら５００〜７００°Ｃに加熱接合して、図１０及び図１
１に示すように、接合基板３０を作製する。なお、図１
０に示す上記接合基板３０の拡大断面図が図１１であ
る。

【００５３】次いで、上記接合基板３０を目的とするア
ジマス角と同角度で切り出す。すなわち、図１２に示す
ように、上記接合基板３０のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線、Ｃ−
Ｃ線から、図１３に示すように、所定の大きさからなる
一対の磁気コア半体ブロック３１，３１を得る。

【００５４】次いで、同図１３に示すように、上記一対
の磁気コア半体ブロック３１，３１の不要な部分を平面
研削盤を用いて除去する。すなわち、上記一対の磁気コ
ア半体ブロック３１，３１の上記切り出し方向に沿って
絶縁膜２６を介して成膜した金属磁性膜２５が現れるま
で基板２１の不要な部分を上記基板２１の前記（１０
０）面から平面研削盤を用いて除去する。そして、その
後、巻線溝８とガラス溝１５等を形成する。

【００５５】次いで、図１４に示すように、トラック幅
Ｔｗの規制溝３３を上記各磁気コア半体ブロック３１，
３１に機械加工により長手方向に沿って形成する。この
トラック幅規制溝３３の形成により、磁気ギャップ対向
面のトラック幅Ｔｗが規制される。

【００５６】ここで、同図１４に示すように、スパッタ
リング等を用いて融着ガラス２０との反応を防止する防
止膜２９を形成しても良い。この反応防止膜２９として
は、厚み０．０５μｍ以上のＳｉＯ₂，Ｔａ₂Ｏ₅等の
酸化物膜Ｓｉ₃Ｎ₄等の窒化物膜、或いは、Ｃｒ，Ａ
ｌ，Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜及びそれらの合金膜及びそれ
らの合金膜、或いは、それらを組み合わせた積層膜を用
いれば良い。本実施例では、トラック幅規制溝２８を形
成した後、０．２μｍ厚のＣｒからなる反応防止膜２９
をスパッタリングを用いて形成した。

【００５７】次いで、図１５に示すように、ポリッシン
グ等を用いてフロントギャップｇ₁面に鏡面加工を施し
た後、ギャップ膜を形成する。

【００５８】次いで、巻線溝８同士、トラック幅Ｔｗの
規制溝３３同士の位置合わせ等を行った後に、図１６に
示すように、上記一対の磁気コア半体ブロック３１，３
１同士をガラスを流し込みながら融着ガラス２０により
ギャップ接合を行う。

【００５９】次いで、巻線溝８の加工、当たり幅加工等
を行った後に、目的とするチップ厚に切断する。その
後、磁気記録媒体摺動面には、磁気記録媒体との当たり
を確保するための段差１６，１７を設ける。また、この
切断されたヘッドチップ３４に対して磁気記録媒体摺動
面となる部分を円筒研磨するとともに、巻線溝８にコイ
ルを確実に巻装するための巻線ガイド溝１８，１９を切
削加工する。このようにして、磁気ヘッドが図５に示す
ように完成する。磁気ヘッド装置の製造以上のようにして製造された磁気ヘッドを、図１に示す
ように、ヘッド取付基台５１に接着剤を用いて接着固定
した。このときのヘッド取付基台５１は、接着面５１ａ
の表面粗さを種々異ならせた磁気ヘッド装置５０を製造
した。なお、接着面５１ａの表面粗さの設定には、当該
接着面５１ａをラップ液でラップし、そのときのラップ
条件を適宜選定することにより行った。

【００６０】実験結果そして、ヘッド取付基台５１の接着面５１ａをラップ条
件等を変更して、表面粗さが、ドイツ工業規格（ＤＩ
Ｎ）において定義された中心線の深さＧで０．０１μｍ
〜５μｍのものを用いて実験した。

【００６１】これら磁気ヘッド装置５０における磁気ヘ
ッドの接着強度を、抗折強度測定器を用いて調べたとこ
ろ、表面粗さが中心線の深さで０．０５μｍ未満のもの
を用いたヘッド取付基台５１では、磁気ヘッドの半数以
上がヘッド取付基台５１から剥離した。

【００６２】しかし、ヘッド取付基台５１の接着面５１
ａの表面粗さを中心線の深さＧが０．０５μｍ以上０．
１μｍ未満でのヘッド取付基台１では、磁気ヘッドが剥
離したのは僅かに１０％以下であり、０．１μｍ以上で
のヘッド取付基台１を用いた磁気ヘッド装置５０では皆
無であった。

【００６３】したがって、上記ヘッド取付基台５１の接
着面５１ａの表面粗さが、ＤＩＮに於いて定義された中
心線の深さＧで、０．０５μｍ以上で２μｍ以下である
ことが接着強度に優れることがわかる。

【００６４】そこで次に、各種ヘッド取付基台５１の取
り付け精度を確認するために、一旦ヘッド取付基台５１
に貼り付けた磁気ヘッドを剥がして再度同じヘッド取付
基台５１に貼り付けた後に、ヘッド取付基台５１の接着
面５１ａから磁気ヘッドのトラックエッジ迄の高さの測
定を行うという実験を繰り返し、３０回行い、その標準
結果を得た。なお、ここで、磁気ヘッドのトラックエッ
ジとは、磁気ヘッドのトラック幅Ｔｗの一方の端部をい
い、磁気ヘッドの高さ方向の位置調整に重要なものであ
る。

【００６５】以上の実験結果、２μｍ以上のヘッド取付
基台５１を使用すると、ヘッド取付基台５１における磁
気ヘッドのトラックエッジ迄の高さのバラツキは、３σ
≧５μｍであったのに対して、１μｍ以上で２μｍ以下
では３σ≒５μｍであり、１μｍ未満では３σ≧２μｍ
であった。

【００６６】したがって、本実施例に係る磁気ヘッド装
置５０において、ヘッド取付基台の接着面５１ａの表面
粗さが、ＤＩＮに於いて定義された中心線の深さＧで、
０．０５μｍ以上で２μｍ以下であることは、取付け精
度においても優れていることがわかる。

【００６７】なお、本実施例では、いわゆるラミネート
タイプの磁気ヘッドについて説明したが、金属磁性薄膜
を磁気ギャップ形成面に平行に成膜した、いわゆるメタ
ル・イン・ギャップタイプの磁気ヘッドにも実験した結
果、上記実施例と同様、良好な再生特性が得られた。

【００６８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る磁気ヘッド装置は、磁気ヘッドチップがその媒体
摺動面を突出させた状態でヘッド取付基台に接着固定さ
れてなる磁気ヘッド装置において、上記ヘッド取付基台
における磁気ヘッドの接着面側の表面粗さが、ドイツ工
業規格（ＤＩＮ）４７６３において定義された中心線の
深さで、０．０５μｍ以上で２μｍ以下であることを特
徴とするから、磁気ヘッドとの貼り付け強度を確保でき
るとともに、高精度な磁気ヘッド装置の組立を行うこと
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気ヘッド装置の一実施例を示す
平面図である。

【図２】上記磁気ヘッド装置に使用されるヘッド取付基
台の一構成例を示す平面図である。

【図３】ドイツ工業規格（ＤＩＮ）４７６３において定
義された中心線の深さＧを説明するための図である。

【図４】ドイツ工業規格（ＤＩＮ）４７６３において定
義された中心線の深さＧを説明するための図である。

【図５】上記ヘッド取付基台に接着される磁気ヘッドの
一例の概略構成を示す斜視図である。

【図６】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、金属
磁性膜が形成される基板と重ね合わせ側の基板を準備す
る工程を示す斜視図である。

【図７】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
に絶縁膜を介して金属磁性膜を成膜する工程を示す拡大
断面図である。

【図８】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
に反応防止膜とガラス膜を成膜する工程を示す拡大断面
図である。

【図９】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、重ね
合わせ側の基板に反応防止膜とガラス膜を成膜する工程
を示す拡大断面図である。

【図１０】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基
板に重ね合わせ側の基板を重ね合わせて接合基板を製作
する工程を示す斜視図である。

【図１１】図９の拡大断面図である。

【図１２】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基
板に重ね合わせ側の基板を重ね合わせた接合基板にアジ
マス角を付与して切断する工程を示す斜視図である。

【図１３】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、一
対の磁気コア半体に巻線溝とガラス溝を施す工程を示す
斜視図である。

【図１４】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、一
対の磁気コア半体にトラック幅規制溝と反応膜防止膜を
施す工程を示す斜視図である。

【図１５】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、ギ
ャップ面に鏡面加工を施す工程を示す斜視図である。

【図１６】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、一
対の磁気コア半体ブロック同士を突き合わせ接合一体化
する工程を示す斜視図である。

【符号の説明】

１，２・・・磁気コア半体３，４，２５・・・金属磁性膜８・・・巻線溝１１，１２，１３，１４・・・基板２０・・・融着ガラス２１・・・基板２２・・・重ね合わせ側の基板３４・・・ヘッドチップｇ₁・・・フロントギャップｇ₂・・・バックギャップ５０・・・磁気ヘッド装置５１・・・ヘッド取付基台５１ａ・・・ヘッド取付基台の磁気ヘッドチップの接着
面５３・・・ヘッド取付基台の磁気ヘッドチップの載置部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者佐藤敦東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気ヘッドチップがその媒体摺動面を突
出させた状態でヘッド取付基台に貼着固定されてなる磁
気ヘッド装置において、上記ヘッド取付基台における磁気ヘッドチップの接着面
側の表面粗さが、ドイツ工業規格（ＤＩＮ）４７６３に
おいて定義された中心線の深さで、０．０５μｍ以上で
２μｍ以下であることを特徴とする磁気ヘッド装置。