JPH01137414A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野〕 本発明は、いわゆるメタルテープ等の高抗磁力磁気記録
暖体に対して記録・再生を行うのに好適な磁気ヘッドに
関し、詳細には金属磁性膜を積層化した磁気ヘッドに関
する。 〔発明の概要〕 本発明は、基板と金属磁性膜よりなる磁気コア半体対を
突合わせて構成されるとともに、上記金属磁性膜により
閉磁路が形成されるいわゆるメタル・イン・ギャップ型
の磁気ヘッドにおいて、上記金属磁性膜を少なくともフ
ロントギャップから巻線溝まで連続的に金属磁性材料の
みで形成し、上記フロントギャップ部以外の部分では絶
縁膜を介した積層膜とすることにより、基板とこの基板
に被着形成される金属磁性膜との間に生じる疑偵ギャッ
プの形成を防止して記録・再生信号の品質を向上させ、
高出力、高帯域化が可能な磁気ヘッドを得ようとするも
のである。 〔従来の技術〕 近年、磁気記録の分野においては、記録信号の高密度化
が進行しており、高い抗磁力と高い残留磁束密度を有す
る磁気記録媒体（例えばメタルテープ等）が使用される
ようになっている。これに伴って磁気ヘッドに対しては
、当該磁気ヘッドのコア材料が高飽和磁束密度、高透磁
率を有することが要求されている。 このような要求を満たすため、従来から補助コア材にフ
ェライトを用い、そのフェライト上に高飽和磁束密度を
有するセンダストやアモルファス等の金属磁性膜を主コ
ア材として被着形成し、ギャップ部が上記金属磁性膜よ
り形成されてなるいわゆるメタル・イン・ギャップ型の
磁気ヘッドが提案されており、メタルテープ等の記録・
再生に好適なものとなっている。 ところが、上記磁気ヘッドにあっては、さらに高出力、
高帯域の磁気ヘッドが要求されている。 このため、上記金属磁性膜の膜厚を厚くしてこれに対処
することが考えられるが、単に膜厚を厚くするだけでは
渦電流損が多くなり出力が低下する。 そこで、上記渦電流損を防止することができ且つ高出力
、高帯域化を可能とする方法として膜厚の薄い金属磁性
膜を絶縁膜を介して積層する方法が知られている。上記
金属磁性膜を積層すると、従来からコア材として使用さ
れているフェライトの透磁率等に比べてはるかに高い透
磁率が得られる。 例えばフェライトの実効透磁率がＩＯＭＨ２において３
００程度であるのに対し、３μ〜６μ程度の膜厚の金属
磁性膜を５ｉｆｔ等の絶縁膜を介して積層した場合は１
０００〜１５００以上の実効透磁率が得られる。このた
め、金属磁性膜を積層した磁気ヘッドが使用されるよう
になっている。 その−例として、金属磁性膜を積層した磁気ヘッドを第
１３図および第１４図に示す。 上記磁気ヘッドは、第１３図および第１４図に示すよう
に、記録媒体対接面１の中央に位置するフロントギャッ
プ２を境として左右側々に形成された磁気コア半体１．
ＩＩ対が突合わされてなり、所定位置にコイルが巻装さ
れてなるものである。 上記磁気コア半休！、■は、コイルを巻装するための巻
線溝７．８を有した非磁性材料からなる基板３，４の当
該巻線溝７．８側の一表面上に金属磁性膜５，６が被着
形成されたものである。この金属磁性膜５，６は、上記
基板３．４の形状に沿ってフロントギャップ２からバッ
クギャップ９側に亘って連続して膜厚の薄い金属磁性材
料層ｍ、。 ｍｌ　ｍ（、ｍａ　　、　　ｍ＠　　、　　ｍｅ　　、
　　ｍ＠　　、　　ｍ＞　　、　　ｍ！　。 ｍｊがそれぞれ５ｉｆｔ等の絶縁膜ｎｌｌ　＊　ｎｈ　
＊ｎｃ　＊　　ｎ−＋　　ｎａ　＋　　ｎｆ　ｒ　　ｎ
ｅｔ　　ｎｈを介して順次積層された積層膜とされてい
る。そして、この磁気コア半休１．　　ＩＩ対は金属磁
性膜５．６を当接面として突合わされて当該金属磁性膜
５，６により閉磁路が形成された磁気ヘッドとなってい
る。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、上述のように形成された磁気ヘッドでは、閉
磁路を形成する金属磁性膜５．６は絶縁膜ｎ＠ｒ　ｒｋ
ｂ＋　ｎｅｔ　ｆｌａ＋　ｎｅａｒ　ｎｅｔ　ｎｅｔｎ
ゎを介して積層されているため、上記記録媒体対接面ｌ
に何層もの絶縁膜ｎａ　＋　　ｎｈ　＊　ｆｉｔ　＋　
ｎａ　＊ｎ、ｌ　　ｎｌ　＋　　ｎｏ　ｒ　　ｎ−がフ
ロントギャップ２と平行に現れることになる。このため
、上記絶縁膜ｎｓ＋　　ｎｈ＋　　Ｄｅｎ　　ｒｔ、、
　　Ｈｅｎ　　ｎｔ、　　ｎｅｔ　　ｎｂが疑偵ギャッ
プとして作用し本来フロントギャプ２における磁束と干
渉を起こして疑僚信号を生成し、記録・再生信号の品質
を低下させている。 そこで本発明は、上述の実情に鑑みて提案されたもので
あって、上記疑伯ギャップの形成を防止して記録・再生
信号の品質を向上させ、高出力。 高帯域化を可能とする磁気ヘッドを提供することを目的
とする。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明の磁気ヘッドは、上記問題点を解決するとともに
、上記目的を達成するため、基板と金属磁性膜よりなる
磁気コア半体対が突き合わされた磁気ヘッドにおいて、
前記金属磁性膜はフロントギャップから少なくとも巻線
溝まで連続的に形成され、前記フロントギャップ部では
金属磁性材料のみからなり、フロントギャップ部以外の
部分では絶縁膜を介した積層膜となっていることを特徴
とするものである。 【作用】 本発明に係る磁気ヘッドは、フロントギャップ部が金属
磁性材料のみで形成されているため、本来フロントギャ
ップで発生する磁束と干渉を起こす疑領ギャップが形成
されることがない、このため、周波数特性にうねりが生
ずることなく記録・再生信号の品質が向上する。 また、フロントギャップ部以外の部分では、絶縁膜を介
した金属磁性材料の積層膜となっているため、高い透磁
率が得られ、高出力、高帯域化が図れる。 〔実施例〕 以下、本発明を適用した磁気ヘッドの具体的な実施例を
図面を説明しながら説明する。 第上曵災隻■ 第１の実施例の磁気ヘッドは、第１図に示すよ′　　　
うに、記録媒体対接面ｌＯの略中夫に位置するフロント
ギャップ１１を境として左右別々の磁気コア半休ＩＩＩ
、　Ｎとして作成され、最後にガラス融着等により各磁
気コア半体■、■が対向して接合され、当該磁気コア半
体■、■にコイルがそれぞれ巻装されてなるものである
。 上記磁気コア半体■、■は、補助コア部である基板１２
．１３と主コア部である金属磁性膜１４゜１５とから構
成されている。 上記基板１２．１３は、非磁性フェライトあるいはセラ
ミックス等の非磁性材料からなり、突合わされる当接面
側のフロントギャップ１１の端部近傍には、上記フロン
トギャップ１１のデプス長を規制するとともにコイルを
巻装するための巻線溝１６．１７が形成されている。こ
の巻線溝１６゜１７の形状は、基板１２．１３単体では
台形状であるが、基板１２．１３同士突合わされると六
角形状となる。すなわち、巻線溝１６．１７には、基板
１２．１３の略中夫にコイルを巻装するための巻装部１
６ａ、１７ａが上記フロントギャップ１１と平行に形成
され、またその巻装部１６ａ。 １７ａの両端部には傾斜部１６ｂ、１７ｂ、１６ｃ。 １７ｃがそれぞれ形成されている。 また、上記フロントギャップ１１の両端にはトラック幅
Ｔｗを規制するための略円弧状の切り溝１８．１９が設
けられている。この切り溝１８゜１９には、磁気記録媒
体との当たり特性を確保するとともに上記磁気記録媒体
の摺接による偏摩耗を防止するためにガラス等の非磁性
材料が充填されている。なお、本実施例では上記基板１
２．１３の材料として非磁性材料を用いたが、磁性材料
のフェライト等を使用しても差し支えない。 そして、上述のように形成された基板１２．１３の上記
巻線溝１６．１７が形成された面倒に、フロントギャッ
プ１１からバックギャップ２０に亘って主コア部となる
金属磁性膜１４．１５が被着形成されている。上記金属
磁性膜１４．１５は、フロントギャップ部１４ａ、１５
ａＪ９よびバックギャップ部１４ｃ、１５ｃでは単層膜
となっており、巻線溝部１４ｂ、１５ｂでは絶縁膜を介
した積層膜となっている。 すなわち、フロントギャップ１１からバックギャップ２
０まで連続して一層の金属磁性材料層ｍ１゜ｍ、が基板
ｘ２．１３の形状に沿って被着形成されており、特にフ
ロントギャップ１４　ａ　＋　　１５　ａでは、この金
属磁性材料層ｍｌ　、ｍ、の単層膜を金属磁性膜として
いる。そして、巻線溝部１４ｂ。 １５ｂでは上記金属磁性材料層ｍ、、ｍ、上に５１０ｇ
等の絶縁膜ｎｔ＋　　ｎｔ＋　　ｎｓ＋　　ｎ４＋　　
ｎｓ＋”　＋　　ｎｔ　ｌ　　ｎ＠を介して何層もの金
属磁性材料層ｍｚ　＋　ｍｚ　＋　ｍ４１　ｍＢ　＋　
ｍ６　＋　ｍｌ　＋　ｍＢ　＋ｍ９．ｍｌ。が順次積層
されて積層膜となっている。なお、本実施例の巻線溝部
１４ｂ、１５ｂの金属磁性材料層は５層となっている。 勿論、積層膜はこれに限定されるものではなく、適宜設
定すればよい、また、上記フロントギャップ１１近傍に
は、当該フロントギャップ１１の後端縁１’ｌａから巻
線溝１６．１７側に向かって傾斜した傾斜部２１．２２
が形成されている。この傾斜部２１゜２２は、前記積層
化された各金属磁性材料層ｍ８゜ｍｓ　　＋　　ｍａ　
　＋　　ｍｓ　　＊　　ｍｈ　　＋　　ｍｑ　　＋　　
ｍｓ　　＋　　ｍ啼＋　　ｆｆｌ＋＠の一端部を連なら
せて形成されており、フロントギャップ１１以外の部分
での磁気的短絡を防止し、発生する磁束の効率を向上さ
せるものである。これに対して、パックギャップ部１４
ｃ、１５ｃ近傍では、前記積層化された各金属磁性材料
層ｍｔ１ｍｓ　　＋　　ｍａ　　＋　　ｍｓ　　＋　　
ｍｈ　　＋　　ｍｙ　　＋　　ｍｓ　　＋　　ｍｅ　　
＋　　ｍｈ。 の他端部は、当該バックギャップ部１４ｃ、１５ｃに形
成された金属磁性材料層ｆｆｌ＋　、　ｍ、と同一直線
、上に連なっている。すなわち、各磁気コア半休１［１
，ｆＶが突合わされると、上記各金属磁性材料層ｍｔ　
　ｌ　ｍｓ　　＋　　ｍａ　　＋　　ｍｓ　　＋　　ｍ
ｈ　　＋　　ｍｑ　　ｌ　ｍｓ　　＋　　ｍｑ　　＋ｍ
　ｌｏの他端部同士が突合わされる。 このように金属磁性膜１４．１５は、フロントギャップ
部１４ａ、１５ａおよびバックギャップ部１４ｃ、１５
ｃが金属磁性材料のみからなっｔいるため、記録媒体摺
動面１０には絶縁膜ｎｌ＋ｎｔ＊　　ｎ３．ｎ４＋　　
ｎａｒ　　ｎａｒ　　ｎａｒ　　ｎａが存在することが
ない、すなわち、上記絶縁膜ｎｌ＋ｎｇ、ｎｓ＋　　ｎ
ａｒ　　ｎａｒ　　ｎａｒ　　ｎ？＋　　ｎ、は疑似ギ
ャップとして作用することがない、よって、本来のフロ
ントギャップ１１で発生する磁束と干渉することがない
ので周波数特性にうねりを生ずることもなく、記録・再
生信号の品質が向上する。 また、巻線溝部１４ｂ、１５ｂでは、絶縁［ｎ＋。 ｎａｒ　　ｎ３＋　　ｎａｒ　　ｎａｒ　　ｎ、、ｎ？
＋　　ｎｓと金属磁性材料層ｍｌ　、　ｍｚ　、　ｍ３
　、　ｆｆ１ａ　、　ｍｓ、　ｍ６　。 ｍ？ｒ　ｍｓ　＋　ｍａ　＊　ｍａｅが何層にも積層化
されているので、磁気回路断面積が大きくなるとともに
高い透磁率が得られる。 ここで、上記金属磁性材料層ｍ＋　＋　ｍ寞＊　ｍｘ　
＋ｍ４　、　　ｍｓ＋　　ｍ６　＊　ｍ　ｙ　＋　ｍｌ
　ｌ　ｍｅ　ｌ　　ｍ　１＠は、強磁性非晶質金属合金
、いわゆるアモルファス合金（例えば、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃ
ｏの１つ以上の元素とＰ、Ｃ，Ｂ、Ｓｔの１つ以上の元
素とからなる合金、またはこれを主成分としＡｎ！、　
Ｇｅ、　　Ｂｅ。 Ｓｎ、Ｉ　ｎ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ、Ｗｎ、Ｃｒ、Ｚｒ。 Ｎｆ、Ｎｂ等号含んだ合金等のメタル−メタロイド系ア
モルファス合金、あるいはＣｏ、　Ｈｆ、　　Ｚｒ等の
遷移元素や希土類元素等を主成分とするメタル−メタル
系アモルファス合金）、Ｆｅ−Ａｌ！、−３ｉ系合金、
Ｆｅ−Ａｊ！系合金、Ｆｅ−３ｉ−Ｇ。 系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａｊ！−Ｇｅ系合金
、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−３ｉ−Ｇｅ系合金、
Ｆｅ−Ｃｏ−３Ｉ　−Ａｌ系合金等の強磁性金属材料、
あるいはＦｅ−Ｇａ−３ｉ系合金、さらには、上記Ｆｅ
−Ｇａ−３ｉ系合金の耐蝕性や耐摩耗性の一層の向上を
図るために、Ｆｅ、Ｇａ。 Ｃｏ　（Ｆｅの一部をＣＯで置換したものを含む）。 Ｓｉを基本組成とする合金に、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ。 Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｒｈ。 Ｉｒ、Ｒｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｈｆ、Ｖの少なくとも
１種を添加したものであってもよい。 これに対して絶縁Ｉ！Ｉｎｔ　＋　　ｎ茸＊　　ｎｓ　
＊　　ｎａ　＋”Ｓ　＋　　ｎｈ　＊　　ｎｔ　ｌ　　
ｎｌは、Ｓｉｎ、等の他Ｔａ。 Ｏｓ　、Ａｌｔｏｓ　、ＺｒＯ富、Ｓ　ｉｓＮｍ等が用
いられる。 これら金属磁性材料層および絶縁膜の形成方法としては
、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティン
グ法、クラスター・イオンビーム法等に代表される真空
薄膜形成技術が挙げられる。 上述のように形成された磁気コア半休ＩＩ１．　Ｒ／対
は、金属磁性膜１４．１５を当接面として突合わされ、
当該磁気コア半体ＩＩ１．　ＩＶに形成された切り溝１
８．１９にガラス等が充填されてガラス層２３が形成さ
れて接合され、当該金属磁性膜１４゜１５により閉磁路
が形成された磁気ヘッドとされている。 第ｍ凱 本発明に係る第２の実施例の磁気ヘッドは、前記第１の
実施例の磁気ヘッドの補助コア部である基板に、フェラ
イトと非磁性材料とからなる複合基板を用いて摺動ノイ
ズを低く抑えるようにしたものである。すなわち、補助
コア部にフェライトと非磁性材料とからなる複合基板を
用いた場合、摺動ノイズが低（抑えられるという特徴が
ある。 このため、本発明の磁気ヘッドに上記フェライトと非磁
性材料からなる複合基板を補助コア部として使用した。 上記複合基板を使用した第２の実施例の磁気ヘッドは、
第３図に示すように、フロントギャップ１１近傍部分に
フェライ）２４．２５を使用し、上記フロントギャップ
１１以外の部分には非磁性材料２６．２７を使用した複
合基板２８．２９を補助コアとして用いた。そして、こ
の複合基板２８．２９上に前記第１の実施例と同様に金
属磁性膜１４．１５を被着形成して磁気コア半体■、■
と成し、当該磁気コア半体■、■対の金属磁性膜１４．
１５を当接面として突合わせ形成したものである。上記
磁気ヘッドは、第１の実施例の磁気ヘッドの基板の材料
の違いのみで、その他は全て第１の実施例の磁気ヘッド
と同じ構成となっている０本例では、前記第１の実施例
の磁気ヘッドと同一形状かつ同一名称の部材にはその第
１の実施例の磁気ヘッドと同一の番号を付しその説明は
省略する。また、本実施例では、フロントギャップ１１
近傍部分をフェライト２４．２５で形成しその他の部分
を非磁性材料２６．２７で形成しているが、反対にフロ
ントギャップ１１近傍部分に非磁性材料を用い、その他
の部分にはフェライトを用いた複合基板としてもよい。 １盈Ω１隻■ 第３の実施例の磁気ヘッドは、前記第２の実施例と同様
に、補助コア部としてフェライトと非磁性材料とからな
る複合基板を使用したものである。 その構造は第４図に示すように、フロントギャップ１１
近傍部分およびパックギャップ２０形成部分にそれぞれ
フェライト３０，３１，３２．３３を用い、巻線溝１６
．１７が形成される部分に非磁性材料３４．３５を用い
た複合基板３６．３７を補助コアとし、この複合基板３
６．３７上に前記第１の実施例と同様に金属磁性膜１４
．１５を被着形成して磁気コア半体■、■と成し、当該
金属磁性１７！Ｊ１４．１５を当接面として突合わせ形
成したものである。この第３の実施例の磁気ヘッドは、
第１の実施例の磁気ヘッドの基板の材料の違いのみで、
その他は全て上記第１の実施例の磁気ヘッドと同じ構成
となっている。なお、前記第１の実施例の磁気ヘッドと
同一形状かつ同一名称の部材にはその第１の実施例の磁
気ヘッドと同一の番号を付しその説明は省略する。 箪土至塞旌■ 第４の実施例の磁気ヘッドは、第１の実施例の磁気ヘッ
ドの磁気コア半体対を接合させる際に、基板に被着形成
された金属磁性膜上にさらにもう一層の金属磁性材料層
を積層したものである。 すなわち、第５図および第６図に示すように、第１の実
施例の磁気ヘッドの磁気コア半休と同様に形成された磁
気コア半休ＩＩ１．　ＩＶは、突合わされる面倒に形成
された金属磁性膜１４．１５上にさらにもう一層の金属
磁性材料層ｍ＋＋　　、ｍ１ｇが積層され（図中破線で
示す）、巻線溝部１４ｂ、１５ｂの積層化された各金属
磁性材料層ｍ、、ｍ、。 ｍｓ＋　　ｍａ　　Ｉ　ｍｓ、　　ｍｈ＊　　ｍ、、　
　ｍｓ、　　ｍ＊＋　　ｍ。 のエツジ部が接続されてなるものである。このように形
成された磁気コア半体対■、■は、上記金属磁性膜ｍ＋
＋　　、ｍ１ｇを当接面として突き合わされて磁気ヘッ
ドとされている。なお第４の実施例の磁気ヘッドは、補
助コア部としてフロントギャップ１１近傍部分にフェラ
イ）３８．３９を用い、その他の部分に非磁性材料４０
．４１を用いた複合基［４２，４３を使用した。またそ
の他の構成は、前記第１の実施例の磁気ヘッドと同じ構
成である。なお、前記第１の実施例の磁気ヘッドと同一
形状かつ同一名称の部材にはその第１の実施例の磁気ヘ
ッドと同一の番号を付しその説明は省略する。 また、上記基板４２．４３に被着形成されている金属磁
性膜１４．４５上にさらにもう一層の金属磁性材料層ｍ
＋＋　　＋　ｍｔｇを被着させる際に、前記第１の実施
例の磁気コア半体■、■のフロントギャップ部１４ａ、
１５ａおよびバックギャップ部１４ｃ、１５ｃに被着形
成されている金属磁性材料層ｍ、、ｍ、を研磨して取り
除いた後に、この上に金属磁性材料層ｍｒ＋　　＋　ｍ
ｔｇを被着し、当該金属磁性材料層ｆｎｔｌ　　、　ｍ
ｌ、の単層膜をフロントギャップ部１４ａ、１５ａとし
てもよい。 ５（７）１１医 第５の実施例の磁気ヘッドは、フロントギャップから巻
線溝までは金属磁性材料層のみで形成され、上記フロン
トギャップ以外の部分は絶縁膜を介した積層膜とされた
ものである。 すなわち、この磁気ヘッドは、第７図に示すように、フ
ロントギャップ１１から巻線溝１６，１７までは金属磁
性材料層ｍｌ　、ｍ６のみがらなり、上記フロントギャ
ップ１１以外の部分は絶縁膜ｎｌ＋ｎ！＋　　ｎｓ＋　
　”４１　　ｎｓ、”６１　　ｎｔｒ　　ｎ−をそれぞ
れ介した金属磁性材料層ｍｌ　＋　ｍｚ　＊　ｍｌ　＋
ｍａ１ｍｓ＋　ｍｉ＋　ｍｙ＋　ｍ＝、ｍｅ、ｍｌ＠の
積層膜とされた磁気コア半体Ｖ、Ｖｌ対が当該金属磁性
膜１４．１５を当接面として突合わせ形成されたもので
ある。 この磁気コア半体Ｖ、　Ｖｌを作成するには、フロント
ギャップ１１形成面の高さがパックギャップ２０形成面
の高さよりも高く形成された複合基板４８．４９を用い
、この上に前記第１の実施例と同様に金属磁性膜１４．
１５を被着して積層膜を形成する。その後、フロントギ
ャップ１１形成面上に形成された積層膜のを研磨して単
層の金属磁性材料層ｍ、、ｍ６とする。この研磨の際、
上記フロントギャップ１１以外の部分は、上記フロント
ギ中ツブｌｌ形成面がパックギャップ２０形底面よりも
高（形成されているため、研磨されることがない、この
ため、上記フロントギャップ１１以外の部分は絶縁ＩＩ
　”Ｉ　ｒ　　ｎｇ　ｌ　　ｒｌｓ　ｌ　　”４　ｒ　
　ｎｓ　＋ｎ６＋　　ｎｔｒ　　ｎ＃を介した金属磁性
材料層ｍ＋。 ｍｔ　＊　ｍｓ　＋　ｍａ　＋　ｍｓ　＋　ｍｈ　＋　
ｍｙ　＋　ｍ＠＋　ｍｅ　＋ｍ＋＠の積層膜となる。 なお、本実施例の複合基板４８．４９は、フロントギャ
ップ１１近傍部分にフェライト４４，４５、その他の部
分に非磁性材料４６．４７を用いた。また、前記第１の
実施例の磁気ヘッドと同一形状かつ同一名称の部材には
その第１の実施例の磁気ヘッドと同一の番号を付しその
説明は省略する。 ］」ｊすｍ 第６の実施例の磁気ヘッドは、前記した第１の実施例の
磁気ヘッドのフロントギャップのトラック幅を狭くし、
狭トラツク化したものである。この磁気ヘッドの構成を
その製造方法の一例と共に第８図乃至第１２図を参照し
ながら説明する。 先ず、上記磁気ヘッドを作成するに当たって、第８図に
示すようにフェライト６２と非磁性材料６３とからなる
複合基板ブロック６４上に、絶縁膜６５を介して金属磁
性膜６６を積層して積層膜を形成する。なお、上記複合
基板６４には、巻線溝６０とこの巻線溝６０に直交し各
ヘッドチップに対応する位置に凹溝６１が形成されてい
る。 次に、第９図に示すように、凹溝６１が形成されたフロ
ントギャップ部６８が図中上方位置になるように前記複
合基板ブロック６４を傾斜させる。 そして、上記フロントギャップ部６８近傍のみを所望の
トラック幅となる位置（図中二点鎖線で示す位置）まで
研削し、第１０図に示す如（トラック幅規制溝６７を形
成する。このトラック幅規制溝６７は、前記工程で形成
されたヘッドチップに対応する位置に形成された凹溝６
１よりも幅広に形成されており、この工程でトラック幅
が決定される。 次に、第１１図に示すように、フロントギャップ部６８
とパックギャップ部６９に形成された積層膜を研磨して
金属磁性１１１６６のみからなるようにする。すなわち
、絶縁ＷＡ６５がない状態とする。 その際、上記フロントギャップ部６８およびパックギャ
ップ部６９以外の部分は、絶縁膜６５と金属磁性１１６
６との積層膜となっている。 その後、第１２図に示すように、金属磁性膜６６が積層
された複合基板ブロック６４をスライシングして磁気コ
ア半休７０．７１をそれぞれ形成する。そして、上記磁
気コア半休７０．７１対を金属磁性膜６６．６６を当接
面として突合わせ、ガラス融着によりガラス層７２を形
成し接合して狭トラツク幅Ｗを有した磁嶽ヘッドを形成
する。 このように形成された磁気ヘッドは、トラック幅Ｗを狭
くしても、前記第１の実施例の磁気ヘッドと同様に疑似
ギャップが形成されず、高透磁率を有した磁気ヘッドと
なっている。 本実施例の磁気ヘッドは、いずれもフロントギャップが
ヘッドチップの厚み方向に対して直交方向に形成された
ものであるが、これに限定されず例えばフロントギャッ
プがヘッドチップの厚み方向に対して直交方向でないア
ジマス付の磁気ヘッドにも適用されるものである。 〔発明の効果〕 以上の説明からも分かるように、金属磁性膜を少なくと
もフロントギャップから巻線溝まで連続的に金属磁性材
料のみで形成しているため、上記フロントギャップ近傍
に疑領ギャップとして作用する絶縁膜が現れることがな
い、したがって、疑僚ギャップの形成を防止することが
でき、磁気記録・再生信号の品質を向上させることがで
きる。 また、フロントギャップ以外の部分は絶縁層を介した積
層膜となっているため、高い透磁率が得られる。したが
って、高出力で高帯域化を可能とする磁気ヘッドを提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用した磁気ヘッドの第１の実施例を
示す断面図であり、第２図はその記録媒体対接面を示す
要部拡大平面図である。第３図は第２の実施例の磁気ヘ
ッドを示す断面図であり、第４図は第３の実施例の磁気
ヘッドを示す断面図である。第５図は第４の実施例の磁
気ヘッドを示す断面図であり、第６図は第４の実施例の
磁気ヘッドの記録媒体対接面を示す要部拡大平面図であ
る。第７図は第５の実施例の磁気ヘッドの断面図である
。第８図乃至第１２図は第６の実施例の磁気ヘッドを製
造する際の各工程を示すものであり、第８図は複合基板
に絶縁膜を介して金属磁性膜を積層する工程、第９図お
よび第１０図はトラック幅規制溝形成工程、第１１図は
フロントギャップ部およびバックギャップ部に形成され
た積層膜の研磨工程、第１２図は磁気コア半体対の融着
工程をそれぞれ示す工程図である。第１３図は従来の磁
気へラドのの一例を示す断面図であり、第１４図はその
記録媒体対接面を示す要部拡大平面図である。 １１　　　　　　　　　・・・フロントギャップ１２、
１３．２８．２９．３６　　　・・・基板３７．４２，
４３．４８．４９ ｎ＋＋　ｎｔ＊　ｎ＠、　ｎａ、　　　・・・絶縁膜’
Ｓ＋　　　ｎｈｎ　　　ｎｔ、　　　ｎｓ、　　　６５
１４．１５．６６　　　　　　・・・金属磁性膜１４ａ
、　１５ａ、　６８　　　・・・フロントギャップ部１
４ｂ、　１５ｂ　　　　　・・・巻線溝部１４ｃ、　１
５ｃ、　６９　　　・・・パックギャップ部１６、１７
．６０　　　　　　・・・巻線溝部　許　出　願　人　
　ソニー株式会社代理人　　　弁理士　　小　池　　　
見間　　　田村榮− 同　　　佐藤　勝 第１図 第２図 Ｃ） 転 Ｃつ　　− ＊ 区 ぐ 第５図 第６図 第１０図 第１１図 第１２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基板と金属磁性膜よりなる磁気コア半体対が突合わされ
   た磁気ヘッドにおいて、 前記金属磁性膜はフロントギャップから少なくとも巻線
   溝まで連続的に形成され、前記フロントギャップ部では
   金属磁性材料のみからなり、フロントギャップ部以外の
   部分では絶縁膜を介した積層膜となっていることを特徴
   とする磁気ヘッド。