JPS61194618A - 磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents

磁気ヘツド及びその製造方法

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JPS61194618A
JPS61194618A JP3287685A JP3287685A JPS61194618A JP S61194618 A JPS61194618 A JP S61194618A JP 3287685 A JP3287685 A JP 3287685A JP 3287685 A JP3287685 A JP 3287685A JP S61194618 A JPS61194618 A JP S61194618A
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JP
Japan
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magnetic
film
magnetic film
laminated
insulating film
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JP3287685A
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English (en)
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Hiroshi Sakurai
博 桜井
Hiroshi Tsuchiya
洋 土屋
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/17Construction or disposition of windings

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体に接触してデータの書込み及び
読出しを行う磁気ヘッドに係り、特に複数のトラックを
有する多素子タイプの磁気ヘッド及びその製造方法に関
する。
〔発明の背景〕
この種の多素子タイプの磁気ヘッドにあっては、薄膜形
成技術を利用することによって、単純な工程でトラック
位置及びトラック幅を高精度にできるようにしたものが
提案されている。
第6図及び第7図は特開昭57−169917号公報に
開示された磁気ヘッドの一構成例を示している。
即ち、この磁気ヘッドは、フェライトで形成された基板
l上に絶縁膜2がスパッタ形成され、その絶縁膜2上に
コイル3が蒸着法によって積層されている。一方、セラ
ミック板5上に、フェライトで形成された基板4が積層
され、かつ該基板4が前記コイル3に結合されている。
この磁気ヘッドを形成するには、基板lに対し絶縁膜2
.コイル3を順次積層し、そのコイル3に対しセラミッ
ク5に積層された基板4を結合するので、単純な工程で
かつトラック位置及びトラック幅を高精度にできると共
に、歩留シを良好ならしめることができる。
ところで、近年、高記録密度化が進み、短波長で記録さ
れることに伴ない、磁気ギャップの狭小化が行われてい
る。
しかし、上記に示す従来の磁気ヘッドは、磁気ギャップ
長6がコイル3と絶縁膜2との厚さを加えた寸法である
ため、短波長用としての狭ギャップにすることができな
い問題がある。
その理由は、短波長として必要な記録密度25000P
CIを実現するには、磁気ギャップ長6の寸法を少なく
とも1μm以下にしなければならない。そのため、例え
ば絶縁[2の厚さを0.5μmにすると。
コイル3の厚さを0.5μm以下にする必要があるカー
そのようにした場合、コイル3の巻数が多くなるので、
磁路長が長くなって磁気効率の低下を招く。
また、コイルの寸法は、形成される領域の大きさは勿論
の他、発熱及び電流密度過大によるエレクトロマイグレ
ーションの発生に制限される。そのため、エレクトロマ
イグレーションに対して安全な最大電流密度を106V
−とした場合、通電電流を150mAにとると、コイル
3の断面積を15μ−以上にしなければならない。これ
は、コイル幅を5μmにした場合、コイル厚さが3μm
以上になってしまうので、ギャップを狭小化させること
ができない。仮りに、コイル厚さを1μmとしても、コ
イル幅が15μm以上になるので、コイル巻数を考慮し
た場合、前述と同様に磁気効率の低下を招く。
さらに、一般の磁気ヘッドは、上部基板と下部基板との
後部をつき合せて、磁束漏洩を防ぐように構成している
。しかし、従来例は第7図に破線円7で示すように、後
部ギャップが磁気ギャップ長6と同様の寸法をなしてい
て、基板1と4とがつき合っていないので、特に記録波
長が短いと、その部分で磁気漏洩が起こシ、そのため、
磁気効率が著しく低下する。
従って、短波長用の狭ギャップ化には対応できない問題
か泌る。
また、特開昭57−169917号公報のものは、セラ
ミック板に積層されたフェライト基板に、機械加工によ
ってトラック分離用溝が複数形成され、該夫々のトラッ
ク分離用溝にガラスが充填されている。この公知技術は
、磁気ヘッド全体として、単純で歩留の高い製造し易い
構造であるにもかかわらず、前記の機械加工、ガラス充
填工程を要し、しかもそれらが複雑であるから、歩留り
が低下するおそれがある。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、上記事情に鑑みてなされたものであっ
て、磁気効率の低下を防ぐと共に、ギャップを狭小化さ
せることができ、以て高記録密度化に充分対応すること
ができる磁気ヘッド及びその製造方法を提供するにある
〔発明の概要〕
本発明の磁気ヘッドは、対向配置された一対の磁性基板
の間に後部用磁性膜を挾着し、前記一対の磁性基板のう
ち、一方の磁性基板の内面には、後部用磁性膜を除く位
置に絶縁膜を積層すると共に、該絶縁膜の後部用磁性膜
を取り囲む位置にコイルを積層し、かつ前記絶縁膜と他
方の磁性基板との間には磁気記録媒体と接触し得る前端
部に前部用磁性膜を挾着したことに特徴を有する。
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、磁性基板上に
後部用磁性膜を積層し、次いでその磁性基板上の後部用
磁性膜を除く位置に絶縁膜を積層した後、該絶縁膜上の
前記後部用磁性膜を取り囲む位置に該後部用磁性膜の高
さより低い厚さを有するコイルを積層し、かつ絶縁膜上
の磁気記録媒体と接触し得る前端部に、前記後部用磁性
膜と同じ高さを有する前部用磁性膜を積層し、その後、
絶縁膜上において後部用磁性膜と前部用磁性膜とを除く
位置にその後部用磁性膜と同じ高さを有する絶縁材を積
層して平板状積層体を形成し、該平板状積層体に前記磁
性基板と異なる磁性基板を接合することに特徴を有する
〔発明の実施例〕
以下、本発明の実施例を第1図乃至第5図について説明
する。第1図乃至第3図は本発明の磁気ヘッドを具体化
した第1の実施例を示している。
実施例の磁気ヘッドは、第1図及び第2図に示すように
、対向配置された一対の磁性基板11.12の間に後部
用磁性膜13が挾着されている。
前記一対の磁性基板11.12は、互いに磁気記録媒体
と接触し得る前端が一致するように対向配置されておシ
、夫々が7エライ)(Mn−ZnまたはN i −Z 
n等)によって形成されている。前記後部用磁性膜13
は、磁性基板11,12の間の中央部に挾着されており
、例えばパーマロイまたはアモルファス等の高透磁率材
で厚さ10μmに形成されている。
そして、前記一対の磁性基板11.12のうち、一方の
磁性基板11の内面には、後部用磁性膜13を除く位置
に、絶縁膜14と該絶縁膜14上に配置されるコイル1
5とが積層されている。前記絶縁膜14は、磁性基板1
1の内面の後部用磁性膜工3を除く位置にスパッタリン
グや蒸着法等によって積層され、例えば酸化アルミニウ
ム(hx20. ) *二酸化ケイ素(810z )等
の無機絶縁材によj50.5〜1μm程度の厚さで構成
されている。前記コイル部は、絶縁膜14上において後
部用磁性膜13の周シを取り囲む位置に積層されておシ
、例えば導電性の良好な鋼材等によシ、適度の幅と前記
後部用磁性膜13の高さより低い厚みをもって構成され
ている。実施例ではコイル15の厚みを3μmで、幅を
5μmで夫々形成している。前記コイル15の両端は絶
縁膜14上の後部に積層されたリード端子16に接続さ
れている。
該リード端子16の高さは後部用磁性膜13と同一平面
上に位置している。
また、前記絶縁膜14と他方の磁性基板νとの間には磁
気記録媒体と接触し得る前端部に前部用磁性膜17が積
層されている。該前部用磁性膜17は、フロントコアを
なすものであって、その−側面が第1の絶縁膜14に接
合されると共に、他側面が他方の磁性基板12の内面に
接合されていて、その前端が一対の磁性基板11.12
のそれに一致している。
この磁性膜17は、前記後部用磁性膜13と同様の材質
によシ、これと同じ高さをなす厚みをなしている。
さらに、絶縁[14と他方の磁性基板ルとの間における
コイル部には絶縁材18が充填されている。
該絶縁材18は、絶縁膜14と磁性基板球との間におい
て後部用磁性膜13及び前部用磁性膜17を除いた位置
の空間部に充填されている。この絶縁材18は絶縁膜1
4と同様に無機質の絶縁材からなっているが、コイル1
5と他方の磁性基板ルを電気的に絶縁できるものであれ
ば、有機質のものでも良い。
そして、上記の磁気ヘッドを第3図に示す如く一体的に
形成することによシ、多素子タイプの磁気ヘッドが構成
される。
実施例の磁気ヘッドは上記の如き構成よシなるので、リ
ード端子16に電流を印加すると、後部用磁性膜13.
一対の磁性基板11,12.前部用磁性膜17によって
磁気回路が形成されるので、第2図に太い実線で示す如
く磁束加が生じる。その際、磁気ギャップ長は一方の磁
性基板11と前部用磁性膜17との間、即ち絶縁膜14
だけの厚さ寸法となるので、極めて小さい寸法にするこ
とができる。従って、絶縁膜2とコイル3との厚さ寸法
が磁気ギャップ長6となる従来例に比較すると、コイル
の厚さ及び巻数に左右されないので、ギャップを確実に
狭小化することができる。
また、一対の磁性基板11.12が後部用磁性膜13を
介して相互に接合されているので、その間で磁気短絡さ
せることができる。従って、磁気漏洩を抑えることがで
きるので、記録波長が短いものであるにも拘わらず、磁
気効率が低下するのを確実に防止することができる。
第5図は本発明の磁気ヘッドの第2の実施例を示す。こ
の場合は、一対の磁性基板11.12のうち、一方の磁
性基板11の内面に予め別の磁性膜19が積層されてい
る。この磁性膜19は、予め磁性基板11上に全面に亘
って積層されておシ、例えば前部用磁性[17と同様に
アモルファスやパーマロイ等の高透磁率の材質のものか
らなっている。
この実施例は、前部用磁性膜17と磁性基板11との磁
気特性の差違に起因することによって磁束加に生じるギ
ャップ磁界が非対象になるので、磁気ヘッドの記録再成
信号が乱れるおそれがあるが、前述の如く前部用磁性膜
17と同様の材質の磁性膜19を設けることによシ、前
記ギャップ磁界を対象にさせることができるようになっ
ている。従って、磁気ヘッドの記録・再威信号が乱れる
おそれがない。
次に、磁気ヘッドの製造方法を工程順に述べる。
まず、一方の磁性基板11を予め形成しておき、その磁
性基板11上の中央部に後部用磁性膜13をスパッタリ
ングや蒸着等によって積層する。次いで、その磁性基板
11上の後部用磁性膜13を除く位置に絶縁膜14を積
層する。その場合、絶縁膜14を積場するには、図示し
ないが、例えば後部用磁性膜13にこれとほぼ同じ大き
さの遮蔽マスクをマスキングして、磁性基板11にメッ
キ、蒸着、スパッタ+7ング等によって絶縁膜14を一
様の厚さで積層した後、後部用磁性膜13上に積層され
た絶縁膜を選択エツチングによって除去することにより
、絶縁膜14が形成される。
その後、前記絶縁膜14上にエツチング加工等によって
磁性膜13を取り囲むようにコイル15を積層する。こ
のとき、コイル15の厚さは、後部用磁性、11g13
の高さより低くなっている。
また、前記絶縁膜14上には磁気記録媒体と接触し得る
前端部に前部用磁性膜17を積層する。この前部用磁性
膜17は後部用磁性膜13と同じ高さとなるような厚さ
をもっている。
さらに、前記絶縁膜14上において後部用磁性膜と前部
用磁性膜17とを除く位置に、両者と同じ高さを有する
絶縁材18を積層して、平板状積層体Aが形成される。
その場合、前記絶縁材18は、後部用磁性膜13及び前
部用磁性膜17の高さより高く積層された後、機械加工
等によって両磁性膜13.17と同じ高さになるよう平
らに研磨される。
しかる後、上記平板状積層体Aに、予め形成された他方
の磁性基板ルを接着剤によって接合しく第4図参照)、
これによって多素子タイプの磁気ヘッドを製造する。
その結果、一方の磁性基板11に対し、後部用磁性膜1
3.絶縁膜14.コイル15.前部用磁性膜17を積層
するだけでなく、コイル部分に絶縁材18を積層して凹
みをなくすようにしたので、磁気回路構造を平坦化させ
ることができる。従ってそれだけ製造工程を単純かつ容
易に行うことができる。しかも平板状積層体Aと磁性基
板球とを全面接合するので、磁性基板11.12相互を
強固に組付けることができる。また、前部用磁性膜17
によってトラック位置及び幅が定まるので、従来のよう
なトラック分離用溝の形成加工やガラス充填加工を行な
わくとも、トラック位置及び幅を高精度に形成すること
ができ、それだけ歩留シを向上させることができる。
さらに図示しないが、平板状積層体Aを形成する際、磁
性基板ll上の後部用磁性膜13と、絶縁膜14上の前
部用磁性膜17及び絶縁材18とを望所高さより高く積
層させ、その後、両磁性膜13.17及び絶縁材18を
機械加工によって望所高さまでかつ一括的に研磨して、
平板状積層体Aを形成することもできる。これによって
、両磁性膜13.17及び絶縁材18の積層工程で、各
々の高さをその都度コントロールすることが不要になる
と共に、各々の高さを一括的に形成できるので、よシい
っそう容易に製造することができる。
〔発明の効果〕
以上の実施例よシ明らかなように、本発明によれば、磁
気効率が低下するのを防ぐことができ、かつギャップを
確実に狭小化させることができる。
従って、本発明の磁気ヘッドによれば、高記録密度化の
短波長用として充分に対応できる効果がある。また本発
明の磁気ヘッドの製造方法によれば、上記の効果を奏す
ることができる他、簡単かつ容易に形成でき、しかも歩
留シを向上させることができるので、安価で量産性に優
れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示す平面図、第2図は
第1図のI−1線断面図、第3図は本発明を適用した多
素子タイプの磁気ヘッドの要部を示す平面図、第4図は
多素子タイプの磁気ヘッドの組付は状態を示す説明用斜
視図、第5図は本発明の第2実施例を示す第1図の厘−
1線に相当する断面図、第6図は従来の磁気ヘッドの一
構成例を示す平面図、第7図は第6図の■−■線断面図
である。 11.12・・・磁性基板、13・・・後部用磁性膜、
14・・・絶縁膜、15・・・コイル、17・・・前部
用磁性膜、18・・・絶縁材、A・・・平板状積層体。 代理人 弁理士 秋 本 正 実 第3図 第4図 第 6図 第7図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、対向配置された一対の磁性基板の間に後部用磁性膜
    を挾着し、前記一対の磁性基板のうち、一方の磁性基板
    の内面には、後部用磁性膜を除く位置に絶縁膜を積層す
    ると共に、該絶縁膜の後部用磁性膜を取り囲む位置にコ
    イルを積層し、かつ前記絶縁膜と他方の磁性基板との間
    には磁気記録媒体と接触し得る前端部に前部用磁性膜を
    挾着したことを特徴とする磁気ヘッド。 2、磁性基板上に後部用磁性膜を積層し、次いでその磁
    性基板上の後部用磁性膜を除く位置に絶縁膜を積層した
    後、該絶縁膜上の前記後部用磁性膜を取り囲む位置に該
    後部用磁性膜の高さより低い厚さを有するコイルを積層
    し、かつ絶縁膜上の磁気記録媒体と接触し得る前端部に
    、前記後部用磁性膜と同じ高さを有する前部用磁性膜を
    積層し、その後、絶縁膜上において後部用磁性膜と前部
    用磁性膜とを除く位置にその後部用磁性膜と同じ高さを
    有する絶縁材を積層して平板積層体を形成し、該平板積
    層体に前記磁性基板と異なる磁性基板を接合することを
    特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 3、特許請求の範囲第2項において、前記絶縁材は、絶
    縁膜上における後部用磁性膜と前部用磁性膜とを除く位
    置にその後部用磁性膜の高さより高く積層され、その後
    、後部用磁性膜と同じ高さに研磨されることを特徴とす
    る磁気ヘッドの製造方法。 4、特許請求範囲第2項において、前記後部用磁性膜及
    び前部用磁性膜、絶縁材は、各々が磁性基板及び絶縁膜
    に対し所望高さより高く積層され、その後、機械加工に
    よつて所望高さにかつ一括的に研磨されることを特徴と
    する磁気ヘッドの製造方法。
JP3287685A 1985-02-22 1985-02-22 磁気ヘツド及びその製造方法 Pending JPS61194618A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62277612A (ja) * 1986-05-26 1987-12-02 Toshiba Corp 磁気ヘッド及びその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62277612A (ja) * 1986-05-26 1987-12-02 Toshiba Corp 磁気ヘッド及びその製造方法

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