JPH04119510A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

薄膜磁気ヘッド

Info

Publication number
JPH04119510A
JPH04119510A JP24025190A JP24025190A JPH04119510A JP H04119510 A JPH04119510 A JP H04119510A JP 24025190 A JP24025190 A JP 24025190A JP 24025190 A JP24025190 A JP 24025190A JP H04119510 A JPH04119510 A JP H04119510A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
thin film
film
magnetic thin
core
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24025190A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihiro Ishiwatari
石渡 敏博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Victor Company of Japan Ltd
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Victor Company of Japan Ltd filed Critical Victor Company of Japan Ltd
Priority to JP24025190A priority Critical patent/JPH04119510A/ja
Publication of JPH04119510A publication Critical patent/JPH04119510A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、磁気記録再生装置の薄膜磁気へ・ソドにf系
り、iキに、高密度磁気記録用の薄膜磁気ヘッドに関す
る。
(従来の技術) 第11図は従来の薄膜磁気ヘッド50の斜視図である。
同図において、51は基板、52は多層磁性薄膜コア、
53は磁気ギャップ、54は巻線、55は非磁性保護層
、56はコア、56a、56bはコア半体、56cは巻
線窓である。
従来の薄膜磁気ベント50は、ガラスまたはセラミック
スなどからなる基板51の一面上に、磁性薄膜と絶縁膜
とを交互にスパyり法などにより成膜して多層磁性薄膜
コア52を形成し、その多層磁性薄膜コア520面上に
、非磁性保護層55を形成して後、所定の形状に切断し
、巻線窓56cを加工研磨してコア半体56a、56b
を作製する。
さらに、一対のコア半休56a、56bの接合面を接合
してコア56を形成する。@気ギヤIブ53は、コア半
体56 a、56bのキャップ面にキャップ材を介在さ
せて形成する。このコア56の巻線部に、導線を巻線窓
56cを貫通させて巻回しコイル54を形成して従来の
薄膜磁気ヘッド50は作られている。
(発明が解決しようとする課題) 上述した従来の薄膜磁気ヘッド50は、トラック幅か広
いヘッドに使用され、十分な記録能力を有しており、磁
性体を通る磁束か多い場合は、磁束の一部が空間を通っ
ても影響は少ないか、相当大きな記at流をコイルに流
さなければならず、装置の電源が大きくなる傾向があり
、小形化のためには記録電流の低減が望まれる。
また、高密度磁気記録用の狭トラツク化に伴なって、薄
膜磁気ヘッド50の磁気回路全体の厚みを減少していく
と磁気抵抗が増大して、コイルで作られた磁束の空間を
通る磁束量が相対的に増えて、コアの先端の磁束密度が
小さくなり記録、再生効率の低下を招くという問題があ
る。この記録、再生効率の低下の改善策として、ギャッ
プ形成部周辺以外の多層磁性薄膜の膜厚を厚くし電磁変
換効率を上げる方法かある。
第12図(A)、(B)、(C)はギャップ形成部周辺
以外の多層磁性薄膜の膜厚を励磁部方向に厚くしたコア
半体57a、58a、59aの斜視図である。
第12図(A)は、多層薄膜磁気コア52を形成した夫
々の磁性膜を、ギャップ形成部周辺から巻線部に向かっ
て徐々に厚くなるように成膜工程において膜厚を制御し
、積層したコア半体57aであるが、ギャップ形成部周
辺の多層磁性薄膜の膜厚を正確にコントロールして所定
のトラック幅Tを得るのは困難である。
第12図(B)は、多層薄膜コアを形成した夫々の磁性
体膜を、多層薄膜コアのトラック幅Tを形成した磁性体
膜以外の磁性体膜の夫々のキャップ形成部周辺から段階
的に欠落させ積層したコア半#58aであるが、その段
差部が垂直に近いことにより、コンタ−効果による疑似
信号が発生し易くなる欠点がある。
また、第12図(C)は、多層薄膜コアを形成した夫々
の磁性膜を、交互に欠落させ積層したコア半体59aで
あるか、上面の磁性膜が下面の磁性膜を乗り越えるとこ
ろで導磁率か悪くなるという問題があった。
(課題を解決するための手段) 本発明は上記課題を解決するためになされたものであり
、 1)基板上の磁気回路を構成するコアが、絶縁膜を介し
て順次積層した多層磁性薄膜からなる薄膜磁気ヘッドに
おいて、 膜厚が均一なる複数の第1の磁性薄膜と、膜厚がギャッ
プ形成方向に向かい順次薄くなりギャップ形成部周辺に
臨まない複数の第2の磁性薄膜とを絶縁膜を介して交互
に積層して前記多層磁性薄膜を形成し、前記複数の第1
の磁性薄膜を積層した膜厚が所望のトラック幅を形成し
てなることを特徴とする薄膜磁気ヘッドと 2)前記多層磁性薄膜の膜厚が、巻線部周辺より磁気テ
ープとの活動面の端部に向かって、順次薄くなる多層磁
性薄膜からなることを特徴とする請求項1記載の薄膜磁
気ヘッドを提供しようとするものである。
(実施例) 本発明は、上記の点に鑑み、以下のような方法でこの課
題を解決しようとするものである。
第1図は本発明の薄膜磁気ヘッド10の斜視図、第2図
は本発明の薄膜磁気ヘッド10のコア半体20aの斜視
図、第3図は本発明の薄膜磁気ヘッド10のコア半体2
0aの要部拡大図である。同図において、従来の技術の
説明に用いた第11図の構成要素と同一の構成要素には
同一符号を付し説明は省略する。20はコア、20aは
コア半休、20cは接合面、20dはギャップ面、52
は多層磁気薄膜、52aは所望のトラック幅を形成する
ための膜厚が均一なる複数の第1の磁性薄膜、52bは
膜厚がギャップ形成方向に向かい順次薄くなりギャップ
形成部周辺に臨まない複数の第2の磁性薄膜である。
本発明の薄膜磁気ヘッド10は、ガラスまたはセラミッ
クスなどからなる基板51の一面上に、膜厚が均一なる
複数の第1の磁性薄膜52aと、膜厚かギャップ形成方
向に向かい順次薄くなりキャップ形成部周辺に臨まない
複数の第2の磁性薄WA52bとを絶縁膜を介して交互
に8層して多層磁性薄膜52を形成し、その多層磁性薄
膜コア52の面上に、非磁性保護層55を形成した後、
所定の形状に切断し、巻線窓56cを加工研磨してコア
半休20a、20bを作製し、さらに、対のコア半体2
0a、20bの接合面20cを接合してコア20を形成
する。磁気ギャップ53は、コア半体20a、20bの
ギャップ面20dにギャップ材を介在させて接合して一
体形成する。このコア20の巻線部に、導線を巻線窓5
6cを貫通させて巻回しコイル54を形成して、狭トラ
ツク幅の電磁変換効率の優れた本発明の薄膜磁気ヘッド
10は作られている。
つづいて、上記した膜厚がギャップ形成方向に向かい順
次薄くなりギャップ形成部周辺に臨まない複数の第2の
磁性薄1!152bの成膜方法について説明する。
第4図(A>は本発明に用いられる、コア半休20a、
20bの多数個取り用マスク部材30の平面図、第4図
(B)は第4図<A>の切断線A−A4′ニー沿って切
断したマスク部材30の断面拡大図で、その断面はT型
をした金属製の薄板がらなっている。
第5図はマスク部材30を載置した基板51上に、スパ
ッタ法により飛来する磁性体粒子Sか堆積する様子を説
明する拡大断面図である。
同図において、基板51上方より飛来する磁性体粒子S
は、載置したT形マスク部材30に遮られ、マスク部材
30の中心部に近かすくに従い磁性体粒子Sの堆積量は
少なくなり、成膜した磁性体膜52の膜厚を徐々に薄く
することができる。
第6図はT形マスク部材30を載置した基板51を上方
から見た一部拡大平面図で、基板51の切断線31とマ
スク部材30との位置関係を示している。31は基板の
切断線で、切断される全てのコア半休20a、20bの
四隅の一隅には、T形マスク部材30で遮られて磁性体
膜52の膜厚が徐々に薄くなった領域ができる。
以下、本発明の薄膜磁気ヘッドを得るための製造法を説
明する。
〈実施例1) 工程1、ガラスまたはセラミックスなどからなる基板5
1に第1の磁性薄膜52aとなる磁性体と絶縁体をスパ
ッタ法にて所定の厚みを順次成膜する。
工程2、上記絶縁体上にT形マスク部材3oを載置して
、工程1と同様に第2の磁性薄膜52bとなる磁性体を
成膜する。
工程3、T形マスク部材3oを取り除き、工程1と同様
に成膜する。以下、所望するコア厚になるまで工程2と
工程3を交互に繰り返し成膜する。
工程4、第1の磁性薄膜52aによってトラック幅が形
成され、かつ、所望するコア厚に成膜された多層磁性体
薄膜52の上に保護膜55となる酸化物をスパッタ法に
て所定の厚みに成膜する。
工程5、第6図にて説明した基板の切断線31に沿って
基板51を切断する。
第7図は基板51を切断し切り出されたコア半#20a
の斜視図である。
工程6、切り出されたコア半休20a、20bに巻線部
、巻線窓の加工を施す。
第8図は巻線部の加工を施したコア半休20aの斜視図
である。
工程7、一対のコア半# 20 a、20bの接合面を
接合してコア2oを形成する。磁気キャップ53は、:
’ 7 半体20 a、20bのギャップ面にギャップ
材を介在させて形成する。このコア2oの励磁部となる
巻線部に導線を巻回してコイル54を形成して薄膜磁気
ヘッド1oは完成する。
上述した製造方法を用いて製作された本発明の薄膜磁気
ベツド10は、第2図に示すように磁気回路がギャップ
形成部周辺に向かい順次薄くなり、従来の単一厚みの薄
膜磁気ヘッドに比べて、記録再生効率が高く、高Hc記
録媒体に対してMI(タイプの楕遣の磁気ヘッドと同等
以上の記録性内を得ることができる。
さらに、上述した本発明の薄膜磁気ヘッド1(の、記録
再生におけるコンタ−効果を減少させ、効率性能を高め
ることも可能である。
以下、その具体的実施例2について説明する。
実施例2は、上述した実施例1の工程1〜工君4の磁性
体膜の成膜工程において、実施例1で耳いた第1のマス
ク部材3oに、さらに、第2の1スフ部材33を併用す
ることによって得られる。
第9図は第1のマスク部材3oと第2のマスク部材33
を重ね合わせ上方より見た平面図であるが、第2のマス
ク部材33は終始成膜工程中、その位置は固定したまま
である。従って、積層した多層磁性薄膜ll52は第2
のマスク部材30によって励磁部より磁気テープとの摺
動面の端部に向かって、コア厚を3次元的に徐々に薄く
することができると共に、第1のマスク部材によってギ
ャップ形成部周辺に向かい3次元的に薄くなる構造の多
層磁性体薄膜層52が得られる。
第10図は上記製造方法により作られコア半休22 a
の斜視図で、このコア半休22aの一対を接合し、導線
を巻回した薄膜磁気へラド11は記録再生におけるコン
タ−効果を減少させ効率性能を高めることかできる。
〈発明の効果) 上述したように、基板上の磁気回路を構成するコアが、
絶縁膜を介して順次積層した多層磁性薄膜からなるN膜
磁気ヘッドにおいて、膜厚か均一なる複数の第1の磁性
薄膜と、膜厚がギャップ形成方向に向かい順次薄くなり
ギャップ形成部周辺に臨まない複数の第2の磁性薄膜と
を絶縁膜を介して交互に積層して前記多層磁性薄膜を形
成し、前記複数の第1の磁性薄膜を積層しな膜厚か所望
のトラック幅を形成してなる薄膜磁気ヘッドと、さらに
、前記多層磁性薄膜の膜厚が、巻線部周辺より磁気テー
プとの摺動面の端部に向がって、順次薄くなる多層磁性
薄膜からなる薄膜磁気ヘッドは、高Hc記録媒体に適し
た狭トラツク幅の、記録再生効率が優れた薄膜磁気ヘッ
ドの提供を可能とするものであり、がっ、その製造工程
が単純で生産性に優れたものとなるなどの特徴がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の薄膜磁気ヘッドの斜視図、第2図は本
発明の薄膜磁気ヘッドのコア半休の斜視図、第3図は本
発明の薄膜磁気ヘッド1oのコア半体20aの要部拡大
図、第4図(A)は本発明の薄膜ヘッドを得るために用
いられる、コア半休の多数個取り用マスク部材の平面図
、第4図(Bは第4図(A)の切断11A−Aに沿って
切断したマスク部材の断面拡大図、第5図はマスク部材
を載!した基板上に、スパッタ法により飛来する磁性体
粒子が堆積する様子を説明する拡大断面図、第6図はT
形マスク部材を載置した基板を上方がら見た一部拡大平
面図、第7図は基板を切断し切り出されたコア半休の斜
視図、第8図は巻線部の加工を施したコア半休の斜視図
、第9図は第1のマスク部材と第2のマスク部材を重ね
合わせ上方より見た平面図、第10図は第9図の製造方
法により作られコア半体の斜視図、第11図は従来の薄
膜磁気ヘッドの斜視図、第12図(A>、(B)、(C
)は夫々従来の多層薄膜コアを形成したコア半休の斜視
図である。 20a・・・コア半体、30・・・マスク部材、31・
・・切断線、51・・・基板、52・・・多層薄膜コア
、52a・・・第1の磁性薄膜、52b・・・第2の磁
性薄膜、53・・・磁気ギャップ、54・・・コイル、
55・・・非磁性保護層。 特許出願人     日本ビクター株式会社第 図 第 図 第 図 (A) (B) 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)基板上の磁気回路を構成するコアが、絶縁膜を介し
    て順次積層した多層磁性薄膜からなる薄膜磁気ヘッドに
    おいて、 膜厚が均一なる複数の第1の磁性薄膜と、膜厚がギャッ
    プ形成部方向に向かい順次薄くなりギャップ形成部周辺
    に臨まない複数の第2の磁性薄膜とを、絶縁膜を介して
    交互に積層して前記多層磁性薄膜を形成し、前記複数の
    第1の磁性薄膜を積層した膜厚が所望のトラック幅を形
    成してなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 2)前記多層磁性薄膜の膜厚が、巻線部周辺より磁気テ
    ープとの摺動面の端部に向かって、順次薄くなる多層磁
    性薄膜からなることを特徴とする請求項1記載の薄膜磁
    気ヘッド。
JP24025190A 1990-09-11 1990-09-11 薄膜磁気ヘッド Pending JPH04119510A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24025190A JPH04119510A (ja) 1990-09-11 1990-09-11 薄膜磁気ヘッド

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24025190A JPH04119510A (ja) 1990-09-11 1990-09-11 薄膜磁気ヘッド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04119510A true JPH04119510A (ja) 1992-04-21

Family

ID=17056712

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24025190A Pending JPH04119510A (ja) 1990-09-11 1990-09-11 薄膜磁気ヘッド

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04119510A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH04119510A (ja) 薄膜磁気ヘッド
JP2700604B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP2618860B2 (ja) 磁気ヘッド及びその製造方法
JP3011846B2 (ja) 磁気ヘッド
JPH02137104A (ja) 磁気ヘッドとその製造方法
KR100189880B1 (ko) 자기헤드 및 그 제조방법
JPH0438606A (ja) 積層型磁気ヘッド及びその製造方法
JPH01159816A (ja) 磁気ヘツド
JPH03130913A (ja) 複合型浮動磁気ヘッド
JPH09245312A (ja) 磁気ヘッド及びその製造方法
JPH01307008A (ja) 薄膜磁気ヘツド
JPH05290327A (ja) 磁気ヘッド製造方法
JPH0643809U (ja) 磁気ヘッド
JPH02302908A (ja) 磁気ヘッド
JPS63102008A (ja) 磁気ヘツド及びその製造方法
JPH05250619A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JPH06223324A (ja) 磁気ヘッドとその製造法
JPS61194618A (ja) 磁気ヘツド及びその製造方法
JPH04195805A (ja) 磁気ヘッド
JPH08203024A (ja) 磁気ヘッド
JPH0474302A (ja) 磁気ヘッド
JPH0231316A (ja) 薄膜磁気ヘッド
JPS61294623A (ja) 磁気ヘツド
JPH0877508A (ja) 積層型磁気ヘッド
JPH11203619A (ja) 磁気ヘッド、磁気ヘッドの製造方法、および磁気記録装置