JPS61294623A

JPS61294623A - 磁気ヘツド

Info

Publication number: JPS61294623A
Application number: JP13430185A
Authority: JP
Inventors: Kanji Nakanishi; 中西　寛次
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1985-06-21
Filing date: 1985-06-21
Publication date: 1986-12-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、ビデオ信号等の記録再生に用いる磁気ヘッド
に関するものであり、特に、電子スチルカメラなどに用
いられる磁気記録ディスク（ビデオフロッピー）へフレ
ーム信号を、２トラツクに１フイ一ルド信号ずつに分割
して記録再生するための磁気ヘット９に関するものであ
る。

（従来技術）前述のビデオフロッピーは、たとえば直径４７關程度の
塗布盤メタルシートにトラックピッチが１００μｍ程度
で最大５０トラツク、すなわち最大５０枚のフィールド
静止画または２５枚のフレーム静止画を記録することが
可能である。

このフィールド記録方式によれば、ヘット９は従来技術
を用いた１チヤンネルのビデオヘッドが使用可能である
が、再生画像の垂直解像度は劣る。

一方、フレーム記録方式では垂直解像度は向上するが１
フイ一ルド信号を隣接した２トラック間に振り分けるた
めに、ヘッドを機械的に移動させるか、隣接した２チヤ
ンネルのヘッドを用いてこれらを電気的に切り替える必
要性がある。

近年、高画質化の要求からフレーム方式の記録が望まれ
ており、また、ヘッドは小屋化および移動による振動の
問題などの点から機械的な方法よりも２チャンネルヘッ
ド化する方向で検討されてきている。そして、この２チ
ャンネルヘッドには次のような性質が要求される。

■　トラックピッチ１００声 μｍの２チャンネルヘッドでギャップが同一直線上にあ
ること。

■　２チヤンネル間のり四ストークが小さいこと。

■　高保持カメタルシートに記録できるコア材および効
率をもっていること。

■　約ＩＱＭＨｚ　　までの信号を記録再生できる能力
を持っていること。

（発明が解決しようとする問題点）薄膜磁気ヘッドは、特に上記■，■の点で有利である。

また、この薄膜磁気ヘッドは高周波信号の記録再生効率
に大きな影響を与える渦電流損失も磁気コアが薄膜で形
成されるために少なくすることができ、高周波での損失
を少な（することが可能である。このため本用途に薄膜
磁気ヘッドは適していると言われている。しかし、その
形状的制約から、磁気コアの磁気抵抗が高く巻線スペー
スが限られているために、ターン数が限定されコイルの
電気抵抗も高（ならざるを得ないので再生信号そのもの
は、低くなってしまう。また十分な記録をするために大
きな記録電流が必要となる。

さらに、薄膜磁気ヘッドは、構造上その工程が複雑で時
間がかかるという製造上の大きな欠点を有する。

本発明は上記欠点を除去し、高周波損失が少な（かつ薄
膜磁気ヘッドのように巻線の直流抵抗が高くない、高効
率、高特性の２チヤンネル磁気ヘツドを提供するもので
ある。

（問題点を解決するだめの手段）すなわち、上述の問題点は磁気記録媒体対向面を含む磁
気コアの少なくとも一部を、一層板上の金属磁性膜と絶
縁体膜を交互に積層した積層磁性膜で構成し、かつ、コ
イル用巻線の直流抵抗を２Ω以下としたことを特徴とす
る磁気ヘッドにより解決することができる。

（実施例）以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第１
図（ａ）〜（ｃ）は、本発明の磁気ヘッドの一実施例な
示す図であり、それぞれ（ａ）斜視図、（ｂ）平面図、
（、）正面図を表わしている。

第１図において，１１は第１の基板、１１１は第１の磁
極、１２は第２の基板、１２１は第２の磁極を夫々示し
ており、前記第１および第２の基板１１．１２は夫々熱
間静水圧プレスにより作製され、磁極を形成する積層膜
付着面が研摩されている。また、第１の基板１１には強
磁性ンフトフエライト基板が、第２の基板１２には非磁
性フェライト基板が夫々用いられている。更に、第１の
基板１１には巻線１３を施こすための溝１５および穴１
４が形成されている。

前記第１および第２の磁極１１１，１２１には、ＣｏＮ
ｂＺｒ非晶質合金を用いた磁性膜と３１０□薄膜からな
る絶縁体膜をスパッタリング法に交互に積層した膜が用
いられている。第２の基板（非磁性フェライト基板）側
に付着された第２の磁極（積層膜）１２１は、左右のヘ
ッドを磁気的に分離するためにエツチングによりノター
ンニングされている。

前部ギャップ部として、Ｓ１０□スパツタリング膜から
なるギャップ層１６が第１の磁極１１１および第２の磁
極１２１に沿って両磁極間に形成されている。

巻線１３は第２の基板１２および第２の磁極１２１に対
して左右側々に、かつ同巻数で第１の基板１１の溝１５
および穴１４に係合して巻装されており、左右の巻線中
心が互いに直角になるように設けられ【いる。また、巻
装時の全直流抵抗が２Ω以下に設定されている。

１７は記録媒体摺動面であり、左右両ヘッドが媒体（図
示せず）に良好に接触できるよう適切な球面形状に加工
しである。

なお、記録媒体は第２の磁極１２１がトレーリングエツ
ジとなるように第１図（ａ）に図示した矢印の方向に走
行する。

次に第１図に示した磁気ヘッドの製造方法について説明
する。まず、あらかじめ両差°板１１．１２が互いに対
向する面を鏡面研摩された第１の基板である強磁性ソフ
トフェライト基板に巻線用の溝１５および穴１４の加工
をする。次にこれを基板とし、溝加工した側にＣｏＮｂ
Ｚｒ非晶質合金をスパッタリング法により付着させ、続
いてＳ１０□スパツタリング膜を極べ薄（付着させ、こ
れを数回繰り返して、強磁性ソフト膜が絶縁膜を介して
積層された第１の磁極１１１（積“層膜）を作製する。

上記強磁性ソフト膜は、他の物質例えば、他のＣｏ系非
晶質合金、センダスト、パーマロイ、Ｆｅ−ＡＪなどで
もよく、また、製法も、スパッタリング法の他に、蒸着
法、メッキ法、イオンビームスパッタリングなども可能
で何らスパッタリング法によるＣｏＮｂＺｒ非晶質合金
に限定されるものではない。また、上記絶縁膜も、何ら
Ｓ１０．スパッタリング膜に限定されるものではなく、
他の絶縁材料例えば、Ｎｉ−Ｚｎフェライトなどの強磁
性絶縁物などで形成すれば磁気的な抵抗は少なく、電気
的な絶縁性は保たれるため、積層膜は渦電流損失が少な
くかつ、磁気抵抗も少ない広い周波数域で良導磁性の材
料となり良好である。一方、同様に、あらかじめ鏡面研
摩された第２の基板である非磁性７エライト基板には鏡
面加工された面側に第１の基板と同様の方法で積層磁性
膜な形成する。

次いで、第１図（ｂ）に図示したような、前部ギャップ
側でヘッドが互いに近接し、後部ギャップ側に向って次
第に離れる磁極形状に前記積層磁性膜をパターンニング
して第２磁極１２１を形成する。

続いで、ギャップ層１６として第１または第２磁極上或
いは両磁極上にＳ１０□ス・セツタリング膜として付着
させ、後部ギャップ部（図示せず）のＳｉＯ□をエツチ
ングにより取り除く。この場合ギャップ材は、Ａ１２０
３など他のＰ３ＩＲ材料でもよく、また、後部ギャップ
部の面積を大きくしギャップ材を付着したままにしてお
いてもよい。その後部１の基板１１の巻線用穴１４およ
び溝部１５に巻Ｉ！１３を施してから第１の基板１１と
第２の磁極１・２１が対向するように接着あるいはガラ
スボンディングする。この時あらかじめ第１の基板１１
と第２の基板１２を夫々の磁極１１１，１２１が互いに
対向するように接着あるいはガラスボンディングしてお
き、次に巻線を施してもよい。

第２図（、）〜（０）は、本発明の磁気ヘラＰの他の実
施例を示す図であり、それぞれ（ａ）斜視図、（ｂ）平
面図、（Ｃ）正面図を表わしている。第２図において２
１．２１１はそれぞれ第１の基板、第１の磁極を、２２
，２２１はそれぞれ第２の基板、第２の磁極を示してお
り、先の第１の実施例と同じく第１％第２の基板２１，
２２として熱間静水圧プレスにより作製され、積層膜付
着面が研摩された強磁性ソフトフェライト基板および非
磁性フェライト基板をそれぞれ用いた。巻線２３を施こ
すために第１の基板２１１には、溝２５が、第２の基板
２２１には前記溝２５に対応する位置に穴２４があげら
れている。第１および第２の磁極２１．２２には、Ｃｏ
ＮｂＺｒ非晶質合金とＳｉＯ□薄膜をスパッタリング法
により交互に積層した膜が用いられている。非磁性フェ
ライト基板側に付着された積層膜２２１は左右のヘッド
を磁気的に分離するためにエツチングによりパターンニ
ングされている。

前部ギャップ部にはＳ１０□スパツタリング膜からなる
ギャップ層２６が形成されている。巻＃！２３は第１の
基板２１および第１の磁極２１１に対して左右側々に、
かつ同巻数で第１の基板の溝２５および第２の基板の穴
２４に係合するようにして第２の基板２１１に巻かれて
おり、左右の巻線中心が互いに直角になるように設けら
れている。また、巻装時の全直流抵抗が２Ω以下になる
ように設定されている。２７は記録媒体摺動面であり、
左右両ヘット９が媒体に良好に接触させられるよう適切
な球面形状に加工しである。媒体は磁極２２１がトレー
リングエツジとなるように図の矢印の方向に走行する。

次に第２図に示した磁気ヘラｒの製造方法について説明
する。まず、あらかじめ内基板２１．２２が互いに対向
する面を鏡面研摩された第１の基板である強磁性ソフト
フェライト基板に巻線用の溝２５の加工をする。次にこ
れを基板とし、溝加工した側にＣｏＮｂＺｒ非晶質合金
をスパッタリング法により付着させ、続いて５１０２ス
パツタリング膜を極（薄く付着させ、これを数回繰り返
して、強磁性ソフト膜が絶縁膜２８を介して積層された
第１の磁極２１１（積層膜）を作製する。上記強磁性ソ
フト膜は、他の物質例えば、他のＣｏ系非晶質合金、セ
ンダスート、−パーマロイ、Ｆ’ｅ−ＡＩなどでもよく
、また、製法も、ス／ぞツタリング法の他に、蒸着法、
メッキ法、イオンビームスパッタリングなども可能で何
らスパッタリング法によるＣｏＮｂＺｒ非晶質合金に限
定されるものではない。

また、上記絶縁膜も、何らＳ１０□スパツタリング膜に
限定されるものではなく、他の絶縁材料例えば、Ｎｉ−
Ｚｎフェライトなどの強磁性絶縁物などで形成すれば、
磁気的な抵抗は少なく、電気的な絶縁性は保たれるため
、積層膜は渦電流損失が少なくかつ、磁気抵抗も少ない
広い周波数域で良導磁性の材料となり良好である。一方
、同様にあらかじめ鏡面研摩された第２つ基板である非
磁性フェライト基板には、巻線用の穴２４の加工をし、
次にこれを基板とし鏡面加工された面側に第１の基板と
同様の方法で積層磁性膜を形成する。続いて、第２図（
１））に図示したよ５な、前部ギャップ側でヘット９が
互いに近接し、後部ギャップ側に向って次第に離れる磁
極形状に前記積層磁性膜をパターンニングして第２磁極
２２１を形成する。前記巻線用穴２４は、この後あけて
もよい０次にギャップ層２６としてＳ１０□ス・署ツタ
リング膜を第１または第２の磁極上、あるいは両磁極上
に沿って均一に付着させ、後部ギャップ部の８１０□を
エツチングにより取り除く。この場合ギャップ材は、Ａ
１２ｏ３など他の絶縁材料でもよく、また、後部ギャッ
プ部の面積を大きくしギャップ材を付着したままＫして
おいてもよい。その後部２の基板の巻線用穴２４に巻線
２３を施してから第１の基板２１と第２の磁極２２１が
対向するように接着あるいはガラスボンディングする。

この時、あらかじめ第１の基板と第２の基板を夫々の磁
極２１１゜２２１が互いに対向するように接着あるいは
ガラスボンディングしておき、次に巻線を施してもよ〜
）。

（発明の効果）上述した本発明によれば、磁気コアが、金属軟磁性体を
絶縁層を介して積層した積層膜として形成されるために
高周波で問題となる渦電流の発生が少なく、高周波損失
の少ない良好な特性を示す。

また、薄膜磁気ヘッドのように巻線の直流抵抗が高くな
いために、低周波においても素子のインピーダンスを下
げることができ、回路側の負担をかけずに十分な記録を
行なうことができる。同時に再生効率も向上する。さら
に、２チヤンネル化した場合にもギャップのインライン
性が確実に得られ、２チャンネル間のコアの対向面積を
小さくできるので、クロストークも少なくできる。製造
工程は薄膜磁気ヘッドよりはるかに簡便である。

以上の様に、本発明によれば製造方法、巻線などはノく
ルクヘット９の長所を活かし、磁気コアの特性、クロス
トーク、ギャップ精度は、薄膜磁気ヘラＰの長所を活か
せるため、インラインに隣接した２チャンネルヘッドと
して良好な特性を示すことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、（ｂ）および（Ｃ）は、本発明の一実施
例による斜視図、平面図、正面図を夫々示している。第２図（ａ）、（ｂ）および（Ｃ）は本発明の他の実施
例による斜視図、平面図、正面図を夫々示している。１１．２１・・・第１の基板、１２．２２・・・第２の
基板、１１１，２１１・・・第１の磁極、１２１，２２
１・・・第２の磁極、１３．２３・・・巻線、１４．２
４・・・巻線用穴、１５．２５・・・巻線用溝、１６．
２６・・・ギャップ層、１７．２７・・・摺動面。（ほか２名ン第　１　図（ｂ）

Claims

【特許請求の範囲】

（１）磁気記録媒体対向面を含む磁気コアの少なくとも
一部を、一層以上の金属磁性膜と絶縁体膜を交互に積層
した積層磁性膜で形成し、かつ、前記磁気コアを巻装す
るコイル用巻線の直流抵抗を２Ω以下としたことを特徴
とする磁気ヘッド。
（２）上記積層磁性膜の膜面が、ギャップ層面と平行で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気
ヘッド。
（３）同一平面上にギャップ層を介して第１の磁極およ
び第２の磁極とを有し、前記第２の磁極は前記ギャップ
層に沿つて互いに隣接した２チャンネルヘッドを形成し
ていることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の磁
気ヘッド。
（４）溝部を有した第１の基板上に付着した前記第１の
磁極と、第２の基板上に付着した第２の磁極とを含み、
前記溝部を通して少なくとも前記一方の磁極に巻線を施
したことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の磁気
ヘッド。
（５）前記第２の磁極は互いに隣接するヘッドが前部ギ
ャップ側では近接し、後部ギャップ側に向かうにつれ次
第に離間する形状になつていることを特徴とする特許請
求の範囲第４項記載の磁気ヘッド。
（６）前記巻線の巻線中心線が隣接する２チャンネル間
で互いに直角になつていることを特徴とする特許請求の
範囲第５項記載の磁気ヘッド。
（７）前記積層磁性膜にＣｏ系アモルファス合金を用い
たことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘ
ッド。