JPS61126610A - 磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents

磁気ヘツド及びその製造方法

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JPS61126610A
JPS61126610A JP24807584A JP24807584A JPS61126610A JP S61126610 A JPS61126610 A JP S61126610A JP 24807584 A JP24807584 A JP 24807584A JP 24807584 A JP24807584 A JP 24807584A JP S61126610 A JPS61126610 A JP S61126610A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
fixing
magnetic
magnetic head
core
Prior art date
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Pending
Application number
JP24807584A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Goto
敦 後藤
Ryuichiro Yoshizaki
吉崎 龍一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Electronics Inc
Original Assignee
Canon Electronics Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Electronics Inc filed Critical Canon Electronics Inc
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Publication of JPS61126610A publication Critical patent/JPS61126610A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/187Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
    • G11B5/193Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features the pole pieces being ferrite or other magnetic particles

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明は磁気ヘッド及びその製造方法、特に一対の磁気
コア半体をガラス材により固定してなる磁気ヘッド及び
その製造方法に関するものである。
[従来技術] 近年、一般家庭へのビデオテープレコーダ(以下VTR
と言う)のめざましい普及に伴い、VTRの高性能化が
進み、画像および音声の記録再生に用いられる磁気ヘッ
ドに要求させる性能もより厳しくなっている。一般にこ
の種のVTR装置では磁気ヘッドの使用周波数帯域は1
MHz以上となっており、このような磁気ヘッドの磁気
コアとしては各種のフェライト材が用いられている。そ
の理由はフェライトがこのような高周波数帯域で高透磁
率を有しているためである。フェライトは酸化物である
ため同じ酸化物であるガラスに対してよくなじみ、また
ガラスで固定された磁気ヘッドは耐環境性もよく長期に
わたって高い品質を維持することができるのでフェライ
トヘッドの固定にはガラス溶着が多く用いられている。
一方、VTRの高性能化に伴い1本のテープに対する記
録時間の延長が行なわれており、このような長時間録画
はビデオ信号のトラック巾を狭くすることによって実現
されている。初期の家庭用VTRで最高2時間程度であ
った録画時間は現在では8時間程度まで拡張されている
。これに伴い、記録トラック巾は当初の約80 pm程
度であったものが20ないし30pmにまで狭くなって
いる。ところが磁気コアを固定するガラス溶着の工程で
このような狭トラツク用の磁気コアのギャップに欠損が
生じる可能性があり、従来の製造方法では良好な記録再
生特性を得られない場合があった。
第1図から第5図に従来の磁気コアの製造工程の概略を
示す。
第1図は磁気コアの製造工程を示したフローチャート図
である。通常では磁気ヘッドは細長いブロック状のコア
ピースから作られる。第1図のステップ31ではフェラ
イト材から直方体のコアピース半体が左右それぞれ成形
される。
続いてステップ52.S3では第2図に示すように後に
巻線窓となる巻線溝Cおよびギャップ長を規定し左右の
コア半体を固定するための窓すを多数コアピースaに形
成する。第2図には左側のコアピースのみが示されてお
り、右側のコアピースには巻線溝は形成されず固定用の
窓のみが形成される。
続いてステップS4でギャップ部分に5i02(シリカ
)による磁気ギャップ層をスパッタリング等により形成
する。この部分が第2図の巻線溝Cの上の窓すが形成さ
れていない突出部分に対応する。
続いてステップS5で第3図に示すように左右のコアピ
ースa、a′を突き合わせ、ステップS6で窓すの部分
にガラスを充填し左右のコアピースを固定する。
続いてステップS7では第3図の固定されたコアピース
の上面を磁気テープの摺動に都合が良1.%ように円筒
研削し、しかる後にステップS8で所定の厚みになるよ
うに窓す部分を切断し第4図に示すような単体の磁気へ
ラドコアを得る。
第4図の磁気へラドコアの磁気ギャップ近傍を摺動面側
から見た図を第5図に示す。第4図。
第5図において符号dは左右のコア半体、eは5i02
膜による磁気ギャップ、fは窓すに充填された固定用ガ
ラスであう。
ステップS6の溶着工程において良好な固定特性を得る
ためにはガラスの粘度が102〜104ポアズ程度にな
るまで加熱することが望ましい。
しかしこの粘度(温度)領域ではフェライトに対するガ
ラス材の浸食が著しい。特にVTR用などの狭トラツク
ヘッドではギャップ部分が非常に小さいので第6図に示
すようにガラスの浸食によってギャップeの端部に欠損
e′が生じてしまう。
これによってヘッドの緒特性が劣化する場合があった・ [目 的] 本発明は以上の問題点に鑑みて成されたもので、ギャッ
プの欠損がなく良好な記録再生特性を有する磁気ヘッド
及びその製造方法を提供することを目的する。
[実施例] 以下、図面に示す実施例に基づき本発明の詳細な説明す
る。
[第1実施例] 第7図は本発明による磁気ヘッドの磁気ギャップ部分の
拡大図を示す。この図は従来例の第5図に対応するもの
である0本発明においては第1図に示したのとほぼ同様
の製造方法によって磁気ヘッドを形成するが、固定ガラ
ス溶着(ステップS6)の前段階で固定用ガラスの浸食
を防ぐために固定用の窓す部分にガラス薄層gを形成す
る。
すなわち、左右のコアピース半体を突き合わせた後、第
7図に示すように窓す部分にスバ・フタリングによりガ
ラス薄層gを形成する。ここでスパッタリングを行なっ
たガラス材は転移点Tg=445℃、屈伏点Tc=49
3℃また25℃〜400℃における平均線膨張率= 1
05 X 10−フdeg’であり、該ガラス材にて厚
さ2Bmの薄層gを形成する。ここで用いたガラス材の
作業温度は後に用いる固定用ガラス材よりも作業温度が
少なくとも50℃高くなるようにしである。また、前記
平均線膨張率は+5×10〜−30XI F’ (d 
e g’)の範囲でコアのフェライト材のそれと整合さ
せである。
しかるに固定用ガラスfによりコアの固定を行なう。こ
こで用いたガラスは転移点Tg=405℃、屈伏点Tc
=440℃また25℃〜400 ”Cにおける平均線膨
張率=106XlO−7d e g’のものである。ま
たコアピースのフェライトの25℃〜400℃における
平均線膨張率は118Xlo  deg’である。ガラ
スfは作業温度720℃において溶着を行なった。
以上のようにして固定用ガラスの溶着を行なう前にガラ
ス薄層gを形成することにより、固定用ガラスfがギャ
ップ部分に浸食することがなくギャップ欠損も生じない
ので、固定されたコアピースをスライスして得た磁気コ
アにより良好な記録再生特性を得ることができる。第9
図の表図に示すように本実施例による自己記録再生特性
はl M Hzにおいて一71dBと従来例の一74d
Bに比して大きく向上している。同様に4MHzでは従
来の一71dBから一69dBに向上している。
[第2実施例] 続いて第8図に本発明の第2の実施例を示す。
ここでは第1図のステップS4.S5のギャップ形成お
よび突き合わせの前段階でガラス薄層gを形成する。
すなわち、突き合わせ前のコアピース半体の窓部分すお
よびギャップ形成面に前記の第1実施例と同じガラス材
を用いて薄層をスパッタにより形成する。しかる後にギ
ャップ領域に従来と同様にして5i0211jIを形成
した後コアピース半体どうしを突き合わせ前記と同様に
してガラスfを窓すに充填し、コアピース半体どうしを
固定する。
上記の工程において、磁気ギャップ部のガラス薄層の厚
みは0.1gm、5i02膜の厚みは0.151Lmと
した。このような実施例によっても固定用ガラスの浸食
によるギャップ欠損を防止することができる0本実施例
によれば、第9図の表図に見るようにIMHz、4MH
zにおいて一70dBおよび一68dBと従来例に比し
て自己記録再生特性を向上させることができた。
尚、実施例1.2ではともにI M Hzにおいて従来
よりも3〜4dB特性が向上しているが、実施例2の方
がわずかに良い結果が得られた。これは実施例2におい
ては磁気ギャップ部分も固定用ガラスの浸食を防止する
ガラス層で覆われるためであると考えられる。
従来例ではスパッタなどにより磁気ギャップを形成する
のでコアのフェライトとギャップ材の5i02は緊密に
接合していると考えられていたが、実際には5i02の
線膨張率が5XIO−7deg’とフェライトに対して
きわめて小さいのでフェライト−5i02間に微細な剥
離部分が生じていたと思われる。上述の実施例によれば
この剥離部分に対する固定用ガラスの浸食を完全に防止
することができる。
以上、2つの実施例を示したが、いずれの実施例におい
ても固定用ガラスの浸食を防止するためのガラス材は固
定用ガラスよりも転移点、屈服点が高く、作業温度の高
いものを用いているので、固定用ガラス溶着工程におけ
るギャップ欠損を確実に防止することができ、狭トラツ
ク用の磁気ヘッドにおいても高い記録再生特性を得るこ
とができる。
[効 果] 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、ガラ
ス材により一対の磁気コア半体どうしを固定してなる磁
気ヘッドの製造方法において、前記固定工程前にガラス
材と磁気コア半体の少なくとも一部にガラス薄層を形成
することにより、固定用ガラスが磁気コア半体に浸食す
ることがなく、優れた記録再生特性を有する磁気ヘッド
を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の磁気ヘッドの製造工程を示すフローチャ
ート図、第2図はコアピース半体を示す斜視図、第3図
は突き合わせた左右のコア半体を示した斜視図、第4図
は完成した磁気ヘッドを示す斜視図、第5図、第6図は
第4図のギャップ部分を拡大して示す上面図、第7図以
下は本発明の詳細な説明するもので、第7図は第1の実
施例により完成した磁気ヘッドのギャップ部分の拡大図
、第8図は同様に第2の実施例による磁気ヘッドのギャ
ップ部分の拡大図、第9図は第1および第2の実施例に
よる自己記録再生特性を示した表図である。 a・・・コアピース   b・・・窓 C・・・巻線溝     d・・・コア半体e・・・ギ
ャップ    f・・・ガラスg・・・ガラス薄層 第11.iti、、 2図 第3図 第6図       第7面 第8図

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1のガラス材により一対の磁気コア半体を互い
    に固定してなる磁気ヘッドであって、前記第1のガラス
    材と前記磁気コア半体間の少なくとも一部に前記ガラス
    材より転移点の高い第2のガラス材を配したことを特徴
    とする磁気ヘッド。
  2. (2)ガラス材により一対の磁気コア半体を互いに固定
    する工程を含む磁気ヘッドの製造方法において、前記固
    定工程前に磁気コア半体と前記ガラス材間の少なくとも
    一部にガラス薄層を配する工程を有することを特徴とす
    る磁気ヘッドの製造方法。
  3. (3)前記磁気コア半体の磁気ギャップ形成部に前記ガ
    ラス薄層を配することを特徴とする特許請求の範囲第2
    項記載の磁気ヘッドの製造方法。
  4. (4)前記ガラス薄層は前記ガラス材よりも転移点の高
    いガラス材から成ることを特徴とする特許請求の範囲第
    2項または第3項記載の磁気ヘッドの製造方法。
  5. (5)前記ガラス薄層のガラス材の線膨張率が前記磁気
    コア材の線膨張率にほぼ等しいことを特徴とする特許請
    求の範囲第2項から第4項までのいずれか1項に記載の
    磁気ヘッドの製造方法。
JP24807584A 1984-11-26 1984-11-26 磁気ヘツド及びその製造方法 Pending JPS61126610A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6356804A (ja) * 1986-08-27 1988-03-11 Mitsubishi Electric Corp 磁気ヘツド

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6356804A (ja) * 1986-08-27 1988-03-11 Mitsubishi Electric Corp 磁気ヘツド

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