JPS59223924A - 狭トラツク巾磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
狭トラツク巾磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS59223924A JPS59223924A JP9966283A JP9966283A JPS59223924A JP S59223924 A JPS59223924 A JP S59223924A JP 9966283 A JP9966283 A JP 9966283A JP 9966283 A JP9966283 A JP 9966283A JP S59223924 A JPS59223924 A JP S59223924A
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- Japan
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- track width
- grooves
- track
- forming
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はＩＯ／Ｉｍ前後又はこれ以下の狭トラック中
ヘッドの製造を可能にするヘッドの製造方法に関するも
のである。
ヘッドの製造を可能にするヘッドの製造方法に関するも
のである。
従来の狭トラック中ヘッドの製造方法としては、第１図
〜第５図に工程順に示す方法があった。これらはＶＴＲ
ヘッドの装造工程を示す斜視図である。まず第１図に示
すように単結晶７エライトブロツク（１）にダイシング
マシン等の機械加工によって規定のトラック巾Ｗに対応
した突起（２１を形成する溝（３）を設ける。つづいて
第２図に示すようにこの溝（３１に突起（２）ｔ−補強
し、かつ、後の第４図で示すギャップ溶着に供するため
のモールドガラス部ｆｉｌを形成する。つづいて第８図
に示すように、ヘッドの巻線窓を形成するための巻線窓
用溝（５）全形成する。
〜第５図に工程順に示す方法があった。これらはＶＴＲ
ヘッドの装造工程を示す斜視図である。まず第１図に示
すように単結晶７エライトブロツク（１）にダイシング
マシン等の機械加工によって規定のトラック巾Ｗに対応
した突起（２１を形成する溝（３）を設ける。つづいて
第２図に示すようにこの溝（３１に突起（２）ｔ−補強
し、かつ、後の第４図で示すギャップ溶着に供するため
のモールドガラス部ｆｉｌを形成する。つづいて第８図
に示すように、ヘッドの巻線窓を形成するための巻線窓
用溝（５）全形成する。
つづいて磁気ギャップ突合せ面（６）に光学平面研磨を
施し、このギャップ突合せ面にヘッドギャップ長に相当
する厚さのキャップスペーサ（図示せず）を真空蒸着法
あるいはスパッタリング法等によυ形成する。
施し、このギャップ突合せ面にヘッドギャップ長に相当
する厚さのキャップスペーサ（図示せず）を真空蒸着法
あるいはスパッタリング法等によυ形成する。
上記の工程によって形成された２個のブロックを第４図
に示すごとくに互いの突起（２）が完全に重なるよりに
位置規制して重ね合わせ、全体をモールドガラス部（４
）のガラスの融点以上の温湿に保持して、モールドガラ
スを再融解して２つのブロック（１）（１″）を一体に
溶着、固定する。
に示すごとくに互いの突起（２）が完全に重なるよりに
位置規制して重ね合わせ、全体をモールドガラス部（４
）のガラスの融点以上の温湿に保持して、モールドガラ
スを再融解して２つのブロック（１）（１″）を一体に
溶着、固定する。
つづいて第５図に示すように、上記溶着体をスライス、
研磨加工を施してヘッドチップ（７）を得遣方法として
採用されておシ、トラック中２０μｍ前後の狭トラック
中ヘッドの製造が可能であるが、規定のトラック中に対
応した突起（２）を形成する溝（３）の加工が機械的加
工法によっているため、溝中および溝ピッチの加工精度
として８〜５μｍ程度の余浴を見込まねばならない。
研磨加工を施してヘッドチップ（７）を得遣方法として
採用されておシ、トラック中２０μｍ前後の狭トラック
中ヘッドの製造が可能であるが、規定のトラック中に対
応した突起（２）を形成する溝（３）の加工が機械的加
工法によっているため、溝中および溝ピッチの加工精度
として８〜５μｍ程度の余浴を見込まねばならない。
したがって、１０μｍ前後の狭トラック中ヘッドの突起
を形成する溝加工としては精度的に不充分である。また
突起（２）のトラック中ＷがｌＯμｍ前後の狭トラツク
中になると、加工途中のカッターのぶれ等のため、突起
（２）が欠けてしまう等の欠点があった。
を形成する溝加工としては精度的に不充分である。また
突起（２）のトラック中ＷがｌＯμｍ前後の狭トラツク
中になると、加工途中のカッターのぶれ等のため、突起
（２）が欠けてしまう等の欠点があった。
この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたもので、磁性ブロックから記録媒体のトラ
ック中に対応した巾のオｌ突起をイオンビーエツチング
で形成する工程、オｌ突起を有しオｌ突起の巾より大き
な巾の第２突起を機械加工により形成する工程とよりコ
ア片の一対を形成し、これらのオｌ突起ヲ（嫌気ギャッ
プを介して突き合わせ接合して形成するようにして狭ト
ラツクでしかも機械的加工の精度の影響に９けないｌＯ
μｍ前後又はこれ以下の狭トラック中ヘッドの加工全可
能にする製造方法を提供することを目的としている。
めになされたもので、磁性ブロックから記録媒体のトラ
ック中に対応した巾のオｌ突起をイオンビーエツチング
で形成する工程、オｌ突起を有しオｌ突起の巾より大き
な巾の第２突起を機械加工により形成する工程とよりコ
ア片の一対を形成し、これらのオｌ突起ヲ（嫌気ギャッ
プを介して突き合わせ接合して形成するようにして狭ト
ラツクでしかも機械的加工の精度の影響に９けないｌＯ
μｍ前後又はこれ以下の狭トラック中ヘッドの加工全可
能にする製造方法を提供することを目的としている。
以下この発明の犬施例をオ６凶〜オ８図の斜視図につい
て説明する。
て説明する。
第６図においてＩｌｌは磁性ブロック、この場合は申結
晶フェライトブロック、（８）はイオンビームエツチン
グ法によって形成され九オｌ溝を示し、（９）はオｌ溝
（８）によって形成された突起中Ｗが１０μｍ前後又は
それ以下のトランク中に対応するオｌ突起を示す。ま之
突起中Ｗおよび溝深さｄは大略トラック１１相当の大き
さとする。またこの工ａでイオンビームエツチングを採
用する理由は通常の化学エツチング法等において生ずる
ｉアンダーエツチング現象がきわめて少なく、
トランク中に対応する突起中の規制精度が良いことによ
る。つづいてオフ図に示すように、疑似トラックＩＩ］
Ｗ（ｗ＜ａｗ）に対応する第２突起１１０１を残して、
戦械的加工法により第２溝（ｌｌ）の加工をする。つづ
いて、従来例におけると同様にカラスモールド工程（第
２図）１巻線窓用溝加工工程（第８図）、磁気ギヤツブ
突ａせ面研磨。
晶フェライトブロック、（８）はイオンビームエツチン
グ法によって形成され九オｌ溝を示し、（９）はオｌ溝
（８）によって形成された突起中Ｗが１０μｍ前後又は
それ以下のトランク中に対応するオｌ突起を示す。ま之
突起中Ｗおよび溝深さｄは大略トラック１１相当の大き
さとする。またこの工ａでイオンビームエツチングを採
用する理由は通常の化学エツチング法等において生ずる
ｉアンダーエツチング現象がきわめて少なく、
トランク中に対応する突起中の規制精度が良いことによ
る。つづいてオフ図に示すように、疑似トラックＩＩ］
Ｗ（ｗ＜ａｗ）に対応する第２突起１１０１を残して、
戦械的加工法により第２溝（ｌｌ）の加工をする。つづ
いて、従来例におけると同様にカラスモールド工程（第
２図）１巻線窓用溝加工工程（第８図）、磁気ギヤツブ
突ａせ面研磨。
ギャップスペーサ形成、ガラスｇＭ工程（第４図）を経
てスライシング、研磨加工を施して第８図に示すこの発
明による狭トラツク中のヘッドチップ０２が得られる。
てスライシング、研磨加工を施して第８図に示すこの発
明による狭トラツク中のヘッドチップ０２が得られる。
以上はＶＴＲ用ヘッドの８ｍ工程について述べたが、こ
の狭トラック巾ヘッドの製造方法に、フロッピーディス
ク用狭トラック巾ヘッド、磁気テープ装置用狭トラツク
中のマルテトラックク中ヘッドの製造に適用しても同様
の効果を奏する。
の狭トラック巾ヘッドの製造方法に、フロッピーディス
ク用狭トラック巾ヘッド、磁気テープ装置用狭トラツク
中のマルテトラックク中ヘッドの製造に適用しても同様
の効果を奏する。
なお、狭トラツク中Ｗに対して疑似トラック中Ｗ ｆ
Ｗ （８ａｐ ｆ満足する厚みとしたので、疑似トラッ
ク中Ｗの部分に形成される疑似ギャップ（Ｇ）が、回転
２ヘツド形アジマス記録に於いて回分が誉いた隣接トラ
ックに彼似ギャップがかかることがないので、Ｓ／Ｎの
よい再生（Ｈ号が得られる利点がある。
Ｗ （８ａｐ ｆ満足する厚みとしたので、疑似トラッ
ク中Ｗの部分に形成される疑似ギャップ（Ｇ）が、回転
２ヘツド形アジマス記録に於いて回分が誉いた隣接トラ
ックに彼似ギャップがかかることがないので、Ｓ／Ｎの
よい再生（Ｈ号が得られる利点がある。
以上のように、この発明によれば磁性ブロック刀・ら記
録媒体のトラック中に対応した巾のオｌ 突起にイオン
ビームエツチングで形成する工程、オｌ突起を有しオｌ
突起の中よシ大きな巾の第２突起を機械加工により形成
する工程とよりコア片の一対を杉成し、これらのオｌ突
起を磁気ギャップを介して突き合わせ接合して狭トラッ
ク中磁気ヘッドｋｍ造するようにしたので、トラック中
に対応する狭い巾のオｌ突起全イオンビームエツチング
法によっているからオｌの突起中はこれに用いるマスク
の写真製版精度によっているため、きわめて精度よく、
シかもトラック中に対応した狭い巾のオｌ突起をそれよ
り広い中の第２突起で支えているので、加工がしやすく
慎俄的強度も強いものを製造することができるという効
果がある。
録媒体のトラック中に対応した巾のオｌ 突起にイオン
ビームエツチングで形成する工程、オｌ突起を有しオｌ
突起の中よシ大きな巾の第２突起を機械加工により形成
する工程とよりコア片の一対を杉成し、これらのオｌ突
起を磁気ギャップを介して突き合わせ接合して狭トラッ
ク中磁気ヘッドｋｍ造するようにしたので、トラック中
に対応する狭い巾のオｌ突起全イオンビームエツチング
法によっているからオｌの突起中はこれに用いるマスク
の写真製版精度によっているため、きわめて精度よく、
シかもトラック中に対応した狭い巾のオｌ突起をそれよ
り広い中の第２突起で支えているので、加工がしやすく
慎俄的強度も強いものを製造することができるという効
果がある。
オ１図〜ｊ′５図は従来の狭トラック中鋒気ヘッドの製
造工程を工程順に示す斜視図、オ６凶〜オ８因はこの発
（７）による狭トラックＩＪ磁気ヘッドの′４Ａ、造工
程を工程順に示す斜視図である。 図において、ｉｌ＋？′ｉ磁性ブロックでこの場合は４
１結晶フエライトブロツク、（２）は芙４．＋３１は溝
、（４）ハモールドガラス部、（５）は巻綴恋用溝部、
（６）は磁気ギャップ突合せ面、（７）は従来のヘッド
チップ、（８）はオ１面、 −１μ （９）はオｌ
突起、（１０）は第２突起、（１１）は第２溝、Ｕりは
この発明によるヘッドチップである。 なお、図中、同一符号は同−又ぼ１目当６１５分を示す
。 代理人 大台 増雄 第５図
造工程を工程順に示す斜視図、オ６凶〜オ８因はこの発
（７）による狭トラックＩＪ磁気ヘッドの′４Ａ、造工
程を工程順に示す斜視図である。 図において、ｉｌ＋？′ｉ磁性ブロックでこの場合は４
１結晶フエライトブロツク、（２）は芙４．＋３１は溝
、（４）ハモールドガラス部、（５）は巻綴恋用溝部、
（６）は磁気ギャップ突合せ面、（７）は従来のヘッド
チップ、（８）はオ１面、 −１μ （９）はオｌ
突起、（１０）は第２突起、（１１）は第２溝、Ｕりは
この発明によるヘッドチップである。 なお、図中、同一符号は同−又ぼ１目当６１５分を示す
。 代理人 大台 増雄 第５図
Claims (1)
- 磁性ブロックから記録媒体のトランク巾に対応した巾の
オｌ突起をイオンビームエツチングで形成する工程、オ
ｌ突起を有し、オｌ突起の巾よシ大きな巾の第２突起を
機械加工によシ形成する工程とよｐコツ片の一対を形成
し、これらの第１突起を磁気ギャップを介して突き合わ
せ接合して形成した狭トラック中磁気ヘッドの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9966283A JPS59223924A (ja) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | 狭トラツク巾磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9966283A JPS59223924A (ja) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | 狭トラツク巾磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59223924A true JPS59223924A (ja) | 1984-12-15 |
Family
ID=14253249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9966283A Pending JPS59223924A (ja) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | 狭トラツク巾磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59223924A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5298113A (en) * | 1992-02-20 | 1994-03-29 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of producing magnetic head core having magnetic gap and narrow track |
| EP0646907A2 (en) * | 1993-10-04 | 1995-04-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head and producing method of the same |
| EP0743635A1 (en) * | 1995-05-18 | 1996-11-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | A magnetic head, a production method thereof, and a magnetic recording/reproduction apparatus using the same |
| USD1028913S1 (en) | 2021-06-30 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor deposition reactor ring |
-
1983
- 1983-06-03 JP JP9966283A patent/JPS59223924A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5298113A (en) * | 1992-02-20 | 1994-03-29 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of producing magnetic head core having magnetic gap and narrow track |
| EP0646907A2 (en) * | 1993-10-04 | 1995-04-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head and producing method of the same |
| EP0646907A3 (en) * | 1993-10-04 | 1996-10-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head and manufacturing process. |
| US5761789A (en) * | 1993-10-04 | 1998-06-09 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd | Method of producing a magnetic head |
| US5905612A (en) * | 1993-10-04 | 1999-05-18 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | Magnetic head and producing method of the same |
| EP0743635A1 (en) * | 1995-05-18 | 1996-11-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | A magnetic head, a production method thereof, and a magnetic recording/reproduction apparatus using the same |
| US5924189A (en) * | 1995-05-18 | 1999-07-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing a magnetic head |
| US6061212A (en) * | 1995-05-18 | 2000-05-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head with circular notches and magnetic recording/reproducing apparatus using the same |
| US6360429B1 (en) | 1995-05-18 | 2002-03-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing a magnetic head |
| USD1028913S1 (en) | 2021-06-30 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor deposition reactor ring |
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