JPS6325806A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は磁気ヘッドの製造方法に係り、特に磁気記録媒
体にメタルテープ等の高保持カテーブを用いた場合に適
した。飽和磁束密度が高く、結晶化温度の低い非晶質合
金を磁性材料とした磁気ヘッドの製造方法に関するもの
である。

〔従来技術とその問題点〕

磁気記録媒体は２画質の向上と高密度記録化への要求の
ために、γ−Ｆｅ２Ｏ３を主体とした磁気テープからＣ
ｒｙ□、　Ｆｅ−Ｃｒ、　ｒ−Ｆｅ２０．＋Ｃ瀞を主体
とした磁気テープへと進んできたが、最近になり、これ
ら従来の磁気テープとはまったく異なる純鉄等を主成分
としたいわゆるメタルテープが出現してきた。このメタ
ルテープは保持力が従来の磁気テープに比し２倍以上あ
るため（１）最大出力レベルが高い、（２）高入力録音
時の歪率が改善される。（３）高周波数帯域でのＳＮ比
が改善される２等の特長があり実用化されてきている。

しかし、このメタルテープを使用する場合、従来のパー
マロイ、フェライト等を素材とした磁気ヘッドでは飽和
磁束密度が低いため、メタルテープの飽和レベル以前に
ヘッドの方が先に飽和してしまい、メタルテープの特長
を生かすことができない。この対策として最近になり種
々の非晶質合金が磁性材料として脚光を溶びてきている
。ところが、上記非晶質合金は、提案されている材料の
違いにより若干の違いはあるものの、結晶化温度が６０
０〜６８０°Ｃ以下であり、従来の磁気ギャップの製造
方法では、非晶質合金が結晶化し、磁性を失い所期の目
的を達し得ない。従来の磁気ギャップは耐摩耗性や、熱
膨張係数を考慮して、高軟化点ガラス、たとえば板ガラ
スや５１０２を磁気ギャップ面にスパッタリングして、
　　ＳＯＯ℃以上で加温、接合する方法で製造されてい
る。非晶質合金が磁性材料として使用されるようになっ
てからは、結晶化温度より低い温度で加温、接合するた
め、磁気ギャップの製造方法として、（１）有機接着剤
を用いる。（２）低軟化点ガラスを用いる。ことが提案
されている。しかし、上記いずれの方法においても、（
１）磁気ギャップ長の制御が困難である。（２）メタル
テープに対し耐摩耗性が低い、（３）磁気ギャップの欠
損が起こりやすい。

等の欠点があり、非晶質合金を用いた磁気ヘッドの特長
を最大限引き出すことができないだけでなく製品化した
時、トラブルを生じやすいという欠点があった。

〔目的〕

本発明はこれらの欠点を除去し、従来のフェライトやパ
ーマロイ等を磁性材料として用いて製造した磁気ヘッド
と同様な良好なる磁気ギャップを持つ、非晶質合金を磁
性材料とした磁気ヘッドの製造方法の提供を目的とした
ものである。

上記目的を達成するため１本発明では高砂化点ガラスを
スパッタリングした磁気ギャップ面の上に。

さらに低軟化点ガラスをスパッタリングした一対の磁気
ブロックを加圧加温し、接合するようにしたことを特徴
とする。また、磁気ギャップ長は。

低軟化点ガラス薄膜厚を高軟化点ガラス薄膜に比し極度
に薄くすることにより、高軟化点ガラス薄膜によっての
み決定されるようにしたことを特徴とする。

〔実施例〕

本発明は、非晶質合金よりなる一対の磁気ブロックのギ
ャップ形成面を鏡面研摩したのち、それぞれのギャップ
形成面にＳ　ｉＯ，等の高軟化点ガラスをスパッタリン
グし、非磁性薄膜を形成する。かかるのちに前記高軟化
点ガラス薄膜の上にさらに低軟化点ガラス薄膜を高軟化
点ガラス薄膜厚の５％以下の厚みで形成し、該薄膜形成
面を突き合せ加圧しながら加熱することにより磁気ギャ
ップを形成するようにした磁気ヘッドの製造方法である
。

以下９本発明の実施例を図面に基づいて説明する。ここ
で第１図〜第３図は本発明の一実施例に係るＶＴＲ用磁
気ヘッドの製造方法を説明するための概略工程説明斜視
図である。図で１および２はそれぞれ非晶質合金よりな
る磁気ブロック、３はブロック２に形成された巻線窓溝
部、４は磁気ギャップ形成面、５はトランク幅制御溝、
６は高軟化点ガラス薄膜、７は低軟化点ガラス薄膜を示
す。ＶＴＲ用磁気ヘッドコアを製造するには、まず第２
図に示すようにそれぞれの磁気ギャップ形成面４を鏡面
研磨したのちに所望のトラック幅になるようトラック幅
制御溝加工を施す。次に第３図に示すように磁気ギャッ
プ形成面４に８１０２等の高軟化点ガラス６をスパッタ
リングし、所定の磁気ギャップ長に相当する高軟化点ガ
ラス薄膜を形成する。この高軟化点ガラ゛ス薄膜の上に
非晶質合金の結晶化温度よりも軟化点の低い低軟化点ガ
ラス７をスパッタリングする。この時低軟化点ガラス膜
厚はそれぞれの磁気ギャップ形成面４において、高軟化
点ガラス膜厚の５％以下にする。低軟化点ガラス膜厚を
前述の厚みにスパッタリングするのは磁気ギャップ形成
時において低軟化点ガラスはブロック１および２の接合
にのみ関与させ。

磁気ギャップ長の決定には関与させないためである。ガ
ラスは種類が違っても、融合する性質があり９例えばＳ
ｉＯ□の高軟化点ガラスとＰｂＯ２系の低軟化点ガラス
の接触面では、それぞれのガラスがまざりあい、高軟化
点ガラスと低軟化点ガラスの中間物質が生じる。低軟化
点ガラス膜厚が高軟化点ガラス膜厚に比し極度に薄けれ
ば低軟化点ガラスが高軟化点ガラスに溶けこんだ形にな
り、結果的に高軟化点ガラスによってのみ磁気ギャップ
が。

形成されたのとほとんど同様になる。

前述の磁気ギャップを形成するため第１図のようにトラ
ック幅制御溝５が合致するよう磁気ブロック１．２を突
き合せ、非晶質合金の結晶化温度より低く、低軟化点ガ
ラスの作業温度よりも高い温度を加圧しながら加えるこ
とにより磁気ブロックを形成する。第１図の低軟化点ガ
ラス薄膜７は加圧、加温されているため、低軟化点ガラ
ス薄膜７が高軟化点ガラス薄膜６に溶は込み、磁気ギャ
ップ長は軟化しない高軟化点ガラス薄膜によってのみ決
定される。

なお、トラック幅制御溝に埋め込むガラスは磁気ギャッ
プ形成に使用した低軟化点ガラスと同じか、さらに軟化
点の低い低軟化点ガラスを用いる。

かかるのちに既知の方法で磁気ブロックを切断。

磁気コアを作製し、ペース接着と巻線窓に巻線を施すこ
とにより所望の磁気ヘッドを得る。

〔効果〕

本発明による磁気ヘッドは、磁気ブロックが非晶質合金
であってもフェライトやパーマロイと同様に磁気ギャッ
プが高軟化点ガラスで形成されているため耐摩耗性が良
く、熱膨張係数も磁性材料に近く、メタルテープ等の高
保持力テープ用として有効である。また、一対の磁気ブ
ロックの接合には低軟化点ガラスで高軟化点ガラスをボ
ンディングする方法をとっており、磁気ヘッドとして機
械的に強（、シたがって製品として使用されても磁気ギ
ャップの欠損等を生じることがなく、磁気ヘッド製造歩
留りも同上する。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は本発明の一実施例に係るＶＴＲ用磁気
ヘッドの製造方法を説明するための概略工程説明用斜視
図である。 １．２：磁気ブロック、３：巻線窓溝、４：磁気ギャッ
プ形成面、５ニドラック幅制御溝、６：高軟化点ガラス
薄膜、７：低軟化点ガラス溝膵。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非晶質合金を磁性材料とする磁気ヘッドの製造方法
   において、前記磁性材料からなる一対の磁気ブロックの
   磁気ギャップ形成面に非晶質合金の結晶化温度よりも軟
   化点の高い高軟化点ガラスをスパッタリングした上に非
   晶質合金の結晶化温度よりも軟化点の低い低軟化点ガラ
   スをスパッタリングし、かかるのちに前記一対の磁気ブ
   ロックの磁気キャップ形成面を相互に突き合わせ、非晶
   質の結晶化温度よりも低く、低軟化点ガラスの軟化点よ
   りも高い温度を加え、低軟化点ガラスを溶解することに
   より磁気ギャップを形成するようにしたことを特徴とす
   る磁気ヘッドの製造方法。 ２、前記低軟化点ガラスの膜厚を前記高軟化点ガラスの
   膜厚の５％以下となるようにしたことを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法。