JPH0758527B2 - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPH0758527B2 JPH0758527B2 JP61002008A JP200886A JPH0758527B2 JP H0758527 B2 JPH0758527 B2 JP H0758527B2 JP 61002008 A JP61002008 A JP 61002008A JP 200886 A JP200886 A JP 200886A JP H0758527 B2 JPH0758527 B2 JP H0758527B2
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- film
- glass
- metal
- magnetic head
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/21—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features the pole pieces being of ferrous sheet metal or other magnetic layers
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録再生および消去用磁気ヘッドに係
り、特に、磁気ヘッドコア材に金属磁性材料が用いら
れ、かつ磁気ヘッドのトラック幅規制用溝部にガラスが
充填されてなる高密度記録再生および消去用の好適な磁
気ヘッドに関する。
り、特に、磁気ヘッドコア材に金属磁性材料が用いら
れ、かつ磁気ヘッドのトラック幅規制用溝部にガラスが
充填されてなる高密度記録再生および消去用の好適な磁
気ヘッドに関する。
従来、高密度記録用の磁気ヘッドは、磁気コア材料とし
て高飽和磁束密度を有する金属磁性材料を用い、線記録
密度を高めるために磁気ギャップを狭くし、さらに、ト
ラック密度を高めるためにコア幅を狭くした構造となっ
ている。このトラック幅に着目してみると、通常の狭ト
ラック磁気ヘッドは、コアの磁気抵抗、耐摺動寿命、機
械的強度等の観点から、磁気コア幅を広くしておき、磁
気ギャップ近傍の必要部分のみに絞り溝を設け所要のト
ラック幅とする方法がとられている。そして、この絞り
溝には非磁性材として信頼性の高いガラスが充填され
る。
て高飽和磁束密度を有する金属磁性材料を用い、線記録
密度を高めるために磁気ギャップを狭くし、さらに、ト
ラック密度を高めるためにコア幅を狭くした構造となっ
ている。このトラック幅に着目してみると、通常の狭ト
ラック磁気ヘッドは、コアの磁気抵抗、耐摺動寿命、機
械的強度等の観点から、磁気コア幅を広くしておき、磁
気ギャップ近傍の必要部分のみに絞り溝を設け所要のト
ラック幅とする方法がとられている。そして、この絞り
溝には非磁性材として信頼性の高いガラスが充填され
る。
このような磁気ヘッドにおいて、狭トラック絞り溝に直
接ガラスを充填すると、金属磁性材とガラスとの反応に
より磁性材の特性劣化が問題となる。特に、磁性材が薄
膜形成技術で形成された膜では、ガラスとの反応がバル
ク材よりきびしいものとなる。
接ガラスを充填すると、金属磁性材とガラスとの反応に
より磁性材の特性劣化が問題となる。特に、磁性材が薄
膜形成技術で形成された膜では、ガラスとの反応がバル
ク材よりきびしいものとなる。
そのため、例えば、特開昭56−124111号公報に記載のよ
うに、金属磁性材と充填ガラスの間に数千Å〜数μｍの
SiO,SiO2あるいは高融点ガラス等の高融点物質の膜を保
護膜として被着しておく方法が提案されている。
うに、金属磁性材と充填ガラスの間に数千Å〜数μｍの
SiO,SiO2あるいは高融点ガラス等の高融点物質の膜を保
護膜として被着しておく方法が提案されている。
また、特開昭60−125909号公報においては、金属磁性材
とガラスのぬれ性が十分得られないことから、金属磁性
材を用いた磁気ヘッドのトラック幅規制溝部に金属膜お
よび酸化物膜を設け、前記酸化物膜上にガラスを充填す
る方法が提案されている。他に、同種の構成要件として
特開昭59−142716号公報がある。
とガラスのぬれ性が十分得られないことから、金属磁性
材を用いた磁気ヘッドのトラック幅規制溝部に金属膜お
よび酸化物膜を設け、前記酸化物膜上にガラスを充填す
る方法が提案されている。他に、同種の構成要件として
特開昭59−142716号公報がある。
第５図は従来の金属磁膜を用いた磁気ヘッドの記録媒体
対向平面図を示す。磁気ヘッドは、２個の磁気コア半体
15,15´からなっている。それぞれコア半体は、フェラ
イト10と金属磁性膜11の複合材からなり、トラック幅絞
り溝部にガラス12が充填され補強した構造となってい
る。このコア半体15,15´は非磁性ギャップ膜14を介し
て接合されている。上記磁気ヘッドは製造工程におい
て、フェライト基板10の傾斜面に金属磁性膜11を形成し
た後、ガラス12を溶融して充填される。この際、ガラス
12と金属磁性膜11の一部が反応して、金属磁性膜の磁気
特性が劣化してしまう。このため金属磁性膜の被着後に
数千Å〜数μｍのSiO,SiO2あるいは高融点ガラス等の高
融点物質の膜13を保護膜として被着しておき、これを金
属磁性膜とガラスの反応防止膜としている。
対向平面図を示す。磁気ヘッドは、２個の磁気コア半体
15,15´からなっている。それぞれコア半体は、フェラ
イト10と金属磁性膜11の複合材からなり、トラック幅絞
り溝部にガラス12が充填され補強した構造となってい
る。このコア半体15,15´は非磁性ギャップ膜14を介し
て接合されている。上記磁気ヘッドは製造工程におい
て、フェライト基板10の傾斜面に金属磁性膜11を形成し
た後、ガラス12を溶融して充填される。この際、ガラス
12と金属磁性膜11の一部が反応して、金属磁性膜の磁気
特性が劣化してしまう。このため金属磁性膜の被着後に
数千Å〜数μｍのSiO,SiO2あるいは高融点ガラス等の高
融点物質の膜13を保護膜として被着しておき、これを金
属磁性膜とガラスの反応防止膜としている。
しかし、この方法においては下記のような欠点があっ
た。
た。
（１） ガラスと保護膜の反応によって気泡が発生す
る。この気泡はガラス中にとじ込められ、穴となって記
録媒体対向面に現われるため媒体に損傷を与える原因と
なる。
る。この気泡はガラス中にとじ込められ、穴となって記
録媒体対向面に現われるため媒体に損傷を与える原因と
なる。
（２） 酸化物保護膜を数μｍ以下にすると金属磁性
膜、コア材との熱膨張係数の差があり問題とならないた
め、酸化物保護材の選択範囲が広くなる反面、反応防止
膜として膜厚が十分でない。そのため、ガラスとの反応
層は金属磁性膜まで到達し金属磁性膜の特性が劣化す
る。
膜、コア材との熱膨張係数の差があり問題とならないた
め、酸化物保護材の選択範囲が広くなる反面、反応防止
膜として膜厚が十分でない。そのため、ガラスとの反応
層は金属磁性膜まで到達し金属磁性膜の特性が劣化す
る。
（３） また、酸化物保護膜を数μｍ以上形成して反応
層が金属磁性膜まで到達しないようにすると、保護膜の
熱膨張係数の差が無視できなくなり、ガラスにスラツク
が入ってしまう。また、気泡の量も増加する。
層が金属磁性膜まで到達しないようにすると、保護膜の
熱膨張係数の差が無視できなくなり、ガラスにスラツク
が入ってしまう。また、気泡の量も増加する。
第６図は別の従来例を示すための磁気ヘッドの記録媒体
対向平面図である。この磁気ヘッドは金属磁性材（例え
ば、センダスト）11からなる２個のコア半体15,15´か
らなっている。このコア半体は磁気ギャップ近傍部に狭
トラック用の切り欠き溝が設けられており、磁気ギャッ
プ14を介して接合一体化される。この接合はガラス12を
充填して行なわれる。本実施例においては、金属磁性材
11とガラスの密着、接合強度を向上する目的で、ガラス
充填溝に、非磁性金属膜16を被着し、その上に酸化物膜
を被着した後、ガラスを充填した構造となっている。
対向平面図である。この磁気ヘッドは金属磁性材（例え
ば、センダスト）11からなる２個のコア半体15,15´か
らなっている。このコア半体は磁気ギャップ近傍部に狭
トラック用の切り欠き溝が設けられており、磁気ギャッ
プ14を介して接合一体化される。この接合はガラス12を
充填して行なわれる。本実施例においては、金属磁性材
11とガラスの密着、接合強度を向上する目的で、ガラス
充填溝に、非磁性金属膜16を被着し、その上に酸化物膜
を被着した後、ガラスを充填した構造となっている。
これによって、センダスト合金等の金属磁性材11と非磁
性金属膜16の付着力、非磁性金属膜16と金属酸化物膜13
の付着力、金属酸化物膜13とガラス12の付着力といった
親和性の大きいもの同士の付着の連鎖が得られる結果、
充填ガラスの機械的強度およびコア半体の接合が非常に
強固なものとなることが提案されている。
性金属膜16の付着力、非磁性金属膜16と金属酸化物膜13
の付着力、金属酸化物膜13とガラス12の付着力といった
親和性の大きいもの同士の付着の連鎖が得られる結果、
充填ガラスの機械的強度およびコア半体の接合が非常に
強固なものとなることが提案されている。
しかし、上記のような構造においても以下のような欠点
があることがわかった。
があることがわかった。
（１） 前記従来例と同様にガラス12を充填する面に金
属酸化物膜13があるために、反応によって気泡が発生す
る。逆に、ガラスと反応しない金属酸化物膜とすると、
接着強度が劣り、ガラスが欠落してしまう。
属酸化物膜13があるために、反応によって気泡が発生す
る。逆に、ガラスと反応しない金属酸化物膜とすると、
接着強度が劣り、ガラスが欠落してしまう。
本発明の目的は上記従来の欠点を解消し、金属磁性膜と
ガラスの組み合せで構成される磁気ヘッドの特性劣化を
改善し、製造歩留りを大幅に向上することにある。
ガラスの組み合せで構成される磁気ヘッドの特性劣化を
改善し、製造歩留りを大幅に向上することにある。
上記目的は、磁気ギャップを介して対向する一対の磁気
コアと、該磁気コアの磁気ギャップ近傍に設けられてト
ラック幅を規制する絞り溝と、該絞り溝に充填されるガ
ラスを有し、上記磁気コアの磁気ギャップ近傍の少なく
とも一部に金属磁性材を用い、かつ該金属磁性材の少な
くとも一部が上記絞り溝の溝面を構成する磁気ヘッドに
おいて、上記金属磁性材とガラスの間に設けられる中間
膜として、上記金属磁性材側に配置される酸化物膜もし
くは炭化物膜と、上記ガラス側に配置される非磁性金属
膜の少なくとも２層の膜からなる中間膜を用いることに
より達成される。
コアと、該磁気コアの磁気ギャップ近傍に設けられてト
ラック幅を規制する絞り溝と、該絞り溝に充填されるガ
ラスを有し、上記磁気コアの磁気ギャップ近傍の少なく
とも一部に金属磁性材を用い、かつ該金属磁性材の少な
くとも一部が上記絞り溝の溝面を構成する磁気ヘッドに
おいて、上記金属磁性材とガラスの間に設けられる中間
膜として、上記金属磁性材側に配置される酸化物膜もし
くは炭化物膜と、上記ガラス側に配置される非磁性金属
膜の少なくとも２層の膜からなる中間膜を用いることに
より達成される。
金属磁性材としては蒸着あるいはスパッタリング等の薄
膜形成技術で形成される、非晶質磁性合金、Fe−Al−Si
系合金、Ni−Fe合金、窒化鉄等の高飽和磁束密度のもの
からなる。
膜形成技術で形成される、非晶質磁性合金、Fe−Al−Si
系合金、Ni−Fe合金、窒化鉄等の高飽和磁束密度のもの
からなる。
保護膜は、非磁性酸化物もしくは炭化物として、SiO2,A
l2O3,ZrO2の群からなるもの、TiC,SiC,B4Cの群からなる
ものが選ばれる。
l2O3,ZrO2の群からなるもの、TiC,SiC,B4Cの群からなる
ものが選ばれる。
非磁性金属膜としてはCr,Ti,Mo,Al,Cu,Si,Geの群からな
る１種もしくは２種以上からなる。
る１種もしくは２種以上からなる。
本発明は金属磁性膜の上に非磁性酸化物膜もしくは炭化
物膜、さらにその上に非磁性金属膜を形成し、そしてガ
ラスを充填する構成からなる。
物膜、さらにその上に非磁性金属膜を形成し、そしてガ
ラスを充填する構成からなる。
金属磁性膜の上に高硬度の非磁性酸化物膜もしくは炭化
物膜を形成することで、金属磁性膜で形成されるトラッ
ク幅の端部が明確になり寸法精度の高いトラック幅が得
られる。また、磁気ギャップ端部のだれがなくなる。非
磁性酸化物膜もしくは炭化物膜の上にさらに非磁性金属
膜を形成することによって、充填ガラスと非磁性酸化物
膜もしくは炭化物膜が直接接触しないため充填ガラス内
の気泡がほとんど生じない。そして、本発明の非磁性金
属膜はPbOを主成分とするガラスとぬれ易く、付着力が
強い。また、非磁性酸化物膜もしくは炭化物膜とガラス
の反応深さより浅いため膜厚が薄くできる。薄くできる
ことはそれぞれの構成材料との熱膨張係数の差がほとん
ど問題とならなくなる。
物膜を形成することで、金属磁性膜で形成されるトラッ
ク幅の端部が明確になり寸法精度の高いトラック幅が得
られる。また、磁気ギャップ端部のだれがなくなる。非
磁性酸化物膜もしくは炭化物膜の上にさらに非磁性金属
膜を形成することによって、充填ガラスと非磁性酸化物
膜もしくは炭化物膜が直接接触しないため充填ガラス内
の気泡がほとんど生じない。そして、本発明の非磁性金
属膜はPbOを主成分とするガラスとぬれ易く、付着力が
強い。また、非磁性酸化物膜もしくは炭化物膜とガラス
の反応深さより浅いため膜厚が薄くできる。薄くできる
ことはそれぞれの構成材料との熱膨張係数の差がほとん
ど問題とならなくなる。
以下、本発明の一実施例を第１図ないし第４図により説
明する。
明する。
第１図は、本発明に係る磁気ヘッドの記録媒体対向平面
図である。第２図はその斜視図である。第３図は製造方
法の一例を説明するための一部片の側面図である。第４
図は実施例を示す図である。
図である。第２図はその斜視図である。第３図は製造方
法の一例を説明するための一部片の側面図である。第４
図は実施例を示す図である。
第１図および第２図において30,30´は磁気ヘッドコア
を構成するコア半体である。一方のコア半体30にはコイ
ル巻線用の溝37が形成されている。それぞれのコア半体
30,30´は保護コア材31と金属磁性膜32からなり、ガラ
ス35と金属磁性膜32の間に保護膜33および34が形成され
ている。保護膜は非磁性酸化物もしくは炭化物33、非磁
性金属膜34の順に形成される。そして、非磁性磁気ギャ
ップ膜を介して、２個のコア半体30,30´はガラス35に
よって接合一体化される。
を構成するコア半体である。一方のコア半体30にはコイ
ル巻線用の溝37が形成されている。それぞれのコア半体
30,30´は保護コア材31と金属磁性膜32からなり、ガラ
ス35と金属磁性膜32の間に保護膜33および34が形成され
ている。保護膜は非磁性酸化物もしくは炭化物33、非磁
性金属膜34の順に形成される。そして、非磁性磁気ギャ
ップ膜を介して、２個のコア半体30,30´はガラス35に
よって接合一体化される。
なお、金属磁性膜32はコア幅Ｔよりも狭いトラック幅tW
を得るために山形に加工された傾斜面に形成する構造と
なっている。また、金属磁性膜32、保護膜33、34は、記
録媒体対向面のみならず、コイル巻線窓周囲にも形成さ
れる。
を得るために山形に加工された傾斜面に形成する構造と
なっている。また、金属磁性膜32、保護膜33、34は、記
録媒体対向面のみならず、コイル巻線窓周囲にも形成さ
れる。
具体的な実施例を以下に従来例と比較しながら説明す
る。
る。
第３図はコア部片の側面図である。Mn−Znフェライト基
板30の上面に山形の突出部を残すようにＶ字状の溝を多
数形成した。山形の角度θは60゜とした。次に、この山
形および溝の全面にCo−Nb−Zrなる非晶質合金膜32を１
層の厚さが６μｍの４層膜をスパッター法により形成し
た（図示せず。）。この際、非晶質合金膜層間に厚さ約
0.05μｍのSiO2膜をやはりスパッター法により形成し、
高周波特性を改善するために多層膜とした。
板30の上面に山形の突出部を残すようにＶ字状の溝を多
数形成した。山形の角度θは60゜とした。次に、この山
形および溝の全面にCo−Nb−Zrなる非晶質合金膜32を１
層の厚さが６μｍの４層膜をスパッター法により形成し
た（図示せず。）。この際、非晶質合金膜層間に厚さ約
0.05μｍのSiO2膜をやはりスパッター法により形成し、
高周波特性を改善するために多層膜とした。
次に、前記金属磁性膜32の上に保護膜として非磁性酸化
物もしくは炭化物33、非磁性金属膜34の順にスパッター
法により形成した。その後PbOが85％で、他にB2O3,Si
O2,Al2O3を含む鉛ガラス35を460℃に加熱し充填した。
このように構成した磁気コア部片をＡ−Ａ面まで研削、
研磨し金属磁性膜32をトラック幅だけ露出させ、２個の
コア部片を対称に重ねて合せて、再 び460℃で加熱し、ガラス35を軟化、溶融することによ
って接合した。これをコア形成に切断して第２図に示す
ような磁気ヘッドコアを得た。
物もしくは炭化物33、非磁性金属膜34の順にスパッター
法により形成した。その後PbOが85％で、他にB2O3,Si
O2,Al2O3を含む鉛ガラス35を460℃に加熱し充填した。
このように構成した磁気コア部片をＡ−Ａ面まで研削、
研磨し金属磁性膜32をトラック幅だけ露出させ、２個の
コア部片を対称に重ねて合せて、再 び460℃で加熱し、ガラス35を軟化、溶融することによ
って接合した。これをコア形成に切断して第２図に示す
ような磁気ヘッドコアを得た。
このような工程によって作製される磁気ヘッドに対し
て、保護膜の材料、構成を種々検討した結果を第１表、
第２表に示す。
て、保護膜の材料、構成を種々検討した結果を第１表、
第２表に示す。
第１表は従来方法によって作製した磁気ヘッドについて
調べたガラス中の気泡歩留り、金属磁性膜との保護膜の
反応、金属磁性膜とガラスの反応、およびガラスのクラ
ック状態を示したものである。
調べたガラス中の気泡歩留り、金属磁性膜との保護膜の
反応、金属磁性膜とガラスの反応、およびガラスのクラ
ック状態を示したものである。
第２表は本発明による保護膜材料、構成について調べた
結果である。
結果である。
第４図（イ）〜（ホ）は第１表、第２表の結果を模式図
で示した磁気ヘッドコアの記録媒体対向平面の主要部で
ある。
で示した磁気ヘッドコアの記録媒体対向平面の主要部で
ある。
従来例第１表のNo.1は第４図（イ）に対応する。金属磁
性膜32に直接ガラス35を充填したものであり、金属磁性
膜32とガラス35が反応し、保磁力が100Oe以上ある永久
磁石膜41が形成されていることがわかった。この永久磁
石膜41は記録した信号を消去してしまうため重要な問題
となる。また、磁気ギャップ端部44も反応して、ギャッ
プが広がっていることがわかった。さらに、ガラス中に
気泡38が多く見られた。
性膜32に直接ガラス35を充填したものであり、金属磁性
膜32とガラス35が反応し、保磁力が100Oe以上ある永久
磁石膜41が形成されていることがわかった。この永久磁
石膜41は記録した信号を消去してしまうため重要な問題
となる。また、磁気ギャップ端部44も反応して、ギャッ
プが広がっていることがわかった。さらに、ガラス中に
気泡38が多く見られた。
No.2は第４図（ロ）に対応する。保護膜としてSiO2膜を
２μｍ形成したものであるが、２μｍのSiO2膜40はガラ
ス35との反応によって完全に消失し、金属磁性膜32とも
反応が起り、永久磁石膜41が形成されていることがわか
った。
２μｍ形成したものであるが、２μｍのSiO2膜40はガラ
ス35との反応によって完全に消失し、金属磁性膜32とも
反応が起り、永久磁石膜41が形成されていることがわか
った。
No.3はSiO2膜を５μｍと厚くし、反応防止を行なった結
果である。第４図（ハ）のようにSiO2膜のうち40の部分
が反応するが、SiO2膜39として残り、金属磁性膜32まで
は到達していない。しかし、ガラス35にクラック42が生
じてしまった。また、気泡38も多く発生し、好ましい結
果が得られなかった。
果である。第４図（ハ）のようにSiO2膜のうち40の部分
が反応するが、SiO2膜39として残り、金属磁性膜32まで
は到達していない。しかし、ガラス35にクラック42が生
じてしまった。また、気泡38も多く発生し、好ましい結
果が得られなかった。
No.4,No.5は金属磁性膜32の上にCr膜もしくはTi膜34を
形成しガラス35を充填した結果である。この構成では気
泡の発生は認められなかったが、金属磁性膜32とCr膜43
の境界に薄い反応層が認められ、約10Oeの磁性層が形成
されていた。この反応層は記録再生に対して信号を劣化
させる原因となる。
形成しガラス35を充填した結果である。この構成では気
泡の発生は認められなかったが、金属磁性膜32とCr膜43
の境界に薄い反応層が認められ、約10Oeの磁性層が形成
されていた。この反応層は記録再生に対して信号を劣化
させる原因となる。
No.6,No.7は金属磁性膜32の上に保護膜として、Cr膜、S
iO2の順に形成した例、Cr膜、Al2O3膜の順に形成した例
である。この場合もガラスと接触する部分は酸化物膜で
あり、第４図（ハ）と同様にガラス35と酸化物膜40との
反応によって気泡の発生が多く見られた。酸化物膜の厚
みが１μｍと薄いためクラックは生じなかった。
iO2の順に形成した例、Cr膜、Al2O3膜の順に形成した例
である。この場合もガラスと接触する部分は酸化物膜で
あり、第４図（ハ）と同様にガラス35と酸化物膜40との
反応によって気泡の発生が多く見られた。酸化物膜の厚
みが１μｍと薄いためクラックは生じなかった。
一方、第２表は本発明による実験結果を示す。この結果
は第４図（ホ）の構成によるもので金属磁性膜32の上に
非磁性酸化物膜もしくは炭化物膜33、非磁性金属膜34の
順に形成した後、ガラス35を充填したものである。
は第４図（ホ）の構成によるもので金属磁性膜32の上に
非磁性酸化物膜もしくは炭化物膜33、非磁性金属膜34の
順に形成した後、ガラス35を充填したものである。
第２表は非磁性酸化物膜もしくは炭化物膜33としてSi
O2,Al2O3,ZrO2,TiC,SiC,B4Cで、非磁性金属膜はCr,Ti,M
o,Al,Ge,Siで同様にスパッター法で形成した。
O2,Al2O3,ZrO2,TiC,SiC,B4Cで、非磁性金属膜はCr,Ti,M
o,Al,Ge,Siで同様にスパッター法で形成した。
その結果は、No.8〜No.20に示すように、従来法に比
べ、ガラス中の気泡の発生が少なく高い歩留りを示すこ
とがわかった。また、0.1〜１μｍと薄い膜でも反応防
止効果が優れていることがわかった。
べ、ガラス中の気泡の発生が少なく高い歩留りを示すこ
とがわかった。また、0.1〜１μｍと薄い膜でも反応防
止効果が優れていることがわかった。
なお、本発明の保護膜は記録媒体対向面のみならず、金
属磁性膜とガラスが接触するすべての部分に設けること
が好ましい。
属磁性膜とガラスが接触するすべての部分に設けること
が好ましい。
例えば、磁気ギャップ近傍部のコイル巻線用溝の内側は
ギャップ深さを精度よく規定するために効果がある。
ギャップ深さを精度よく規定するために効果がある。
本発明の保護のスパッタ条件はArガス５×10-3Torrで行
ない、十分に洗滌した後、鉛ガラスを溶融充填した。充
填ガラスとしては非晶質磁性合金の場合結晶化温度が50
0℃〜560℃であるため、結晶化を起さない条件として45
0℃〜530℃が適当である。従って、低融点ガラスとして
PbOが重量％で75〜85％含有する実開昭57−195621号に
開示されたものを用いた。
ない、十分に洗滌した後、鉛ガラスを溶融充填した。充
填ガラスとしては非晶質磁性合金の場合結晶化温度が50
0℃〜560℃であるため、結晶化を起さない条件として45
0℃〜530℃が適当である。従って、低融点ガラスとして
PbOが重量％で75〜85％含有する実開昭57−195621号に
開示されたものを用いた。
ガラス充填はArあるいはN2雰囲気中でも行なったが、Pb
O含有率の高いガラスにおいては鉛が金属化する場合が
あり、酸素を少量含有する雰囲気で充填すると鉛が遊離
することもなく接着強度が増すことがわかった。
O含有率の高いガラスにおいては鉛が金属化する場合が
あり、酸素を少量含有する雰囲気で充填すると鉛が遊離
することもなく接着強度が増すことがわかった。
本発明い用いられる非晶質磁性合金膜はCo系のメタル−
メタル系、メタル−メタロイド系が用いられるが、耐食
性、耐摩耗性、スパッタリングによる組成ずれ等の考慮
するとメタル−メタル系が適している。
メタル系、メタル−メタロイド系が用いられるが、耐食
性、耐摩耗性、スパッタリングによる組成ずれ等の考慮
するとメタル−メタル系が適している。
一方、Fe−Al−Si系（センダスト）合金においても同様
の結果が得られることを確認した。センダストの場合に
はスパッタしたままの膜では保磁力の大きな膜となって
いるため、スパッタ後に約600℃でアニールする必要が
ある。したがって、耐熱性に優れていることから非晶質
合金よりも高温でガラス充填することができる。しか
し、高温にすると保護膜との反応の面できびしくなり、
500℃〜600℃が好適であった。
の結果が得られることを確認した。センダストの場合に
はスパッタしたままの膜では保磁力の大きな膜となって
いるため、スパッタ後に約600℃でアニールする必要が
ある。したがって、耐熱性に優れていることから非晶質
合金よりも高温でガラス充填することができる。しか
し、高温にすると保護膜との反応の面できびしくなり、
500℃〜600℃が好適であった。
次に第２の実施例について以下に説明する。
本実施例においては前記実施例の構成保護膜の上にさら
にスパッタ法によってガラス膜を形成し、ガラス充填を
行なうことによって、気泡発生歩留りを向上させた。
にスパッタ法によってガラス膜を形成し、ガラス充填を
行なうことによって、気泡発生歩留りを向上させた。
第３表はその実験結果を示す。上記実験結果より、保護
膜として非磁性酸化物膜もしくは炭化物膜、次に非磁性
金属膜、さらに鉛ガラス膜を形成した後、ガラスを充填
することによって、ガラス中の気泡歩留りを90％以上に
向上した。これによって、密着力も向上した。ガラス膜
ＡはスパッタターゲットにPbO85％、B2O313％、SiO21
％、Al2O31％（重量％）のものを用いた。ガラス膜Ｂは
SiO268％、PbO15％、NaO10％、K2O6％、CaO1％（重量
％）である。ガラス膜のスパッタ条件として、Arに５％
のO2を含有した雰囲気で行なうことによって、酸素欠乏
状態を補うことができる利点がある。
膜として非磁性酸化物膜もしくは炭化物膜、次に非磁性
金属膜、さらに鉛ガラス膜を形成した後、ガラスを充填
することによって、ガラス中の気泡歩留りを90％以上に
向上した。これによって、密着力も向上した。ガラス膜
ＡはスパッタターゲットにPbO85％、B2O313％、SiO21
％、Al2O31％（重量％）のものを用いた。ガラス膜Ｂは
SiO268％、PbO15％、NaO10％、K2O6％、CaO1％（重量
％）である。ガラス膜のスパッタ条件として、Arに５％
のO2を含有した雰囲気で行なうことによって、酸素欠乏
状態を補うことができる利点がある。
また、スパッタ中に膜中にとじ込められたガスを放出さ
せるためにガラス充填前に300℃〜400℃で加熱脱ガスす
る方法も好適である。
せるためにガラス充填前に300℃〜400℃で加熱脱ガスす
る方法も好適である。
以上説明した本発明の中で保護コアはMn−Znフェライト
の他にNi−Znフェライトを上げることができる。また、
結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性材でもよい。
の他にNi−Znフェライトを上げることができる。また、
結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性材でもよい。
保護コアが高透磁率の磁性体とした場合には、金属磁性
膜と共に磁路が形成されるため、磁路後部において金属
磁性膜に要求される磁気特性のきびしさがゆるくなり、
磁気ヘッドの製造が容易である。
膜と共に磁路が形成されるため、磁路後部において金属
磁性膜に要求される磁気特性のきびしさがゆるくなり、
磁気ヘッドの製造が容易である。
一方、非磁性保護コアとした場合には、金属磁性膜のみ
で磁路が構成される。従って、フェライトを保護コアと
した場合と比較して、摺動雑音小く、S/Nが向上す
る。インダクタンスが小さいため、コイル巻数を増加
することができ、再生出力が向上する等の利点がある。
で磁路が構成される。従って、フェライトを保護コアと
した場合と比較して、摺動雑音小く、S/Nが向上す
る。インダクタンスが小さいため、コイル巻数を増加
することができ、再生出力が向上する等の利点がある。
本発明によれば、 （１） 金属磁性膜とガラスの反応の問題がなくなり、
記録再生特性が向上する。いいかえれば、金属磁性膜と
ガラスの反応層により記録信号を劣化させる問題が解消
される。
記録再生特性が向上する。いいかえれば、金属磁性膜と
ガラスの反応層により記録信号を劣化させる問題が解消
される。
（２） ガラス中に発生する気泡が大幅に減少するた
め、気泡部によって記録媒体面の損傷がなくなり、磁気
ヘッドの寿命が長くなる。また、ヘッド製造歩留りも大
幅に向上する。
め、気泡部によって記録媒体面の損傷がなくなり、磁気
ヘッドの寿命が長くなる。また、ヘッド製造歩留りも大
幅に向上する。
等の効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す磁気ヘッドの記録媒体
対向平面図、第２図は第１図磁気ヘッドの斜視図、第３
図は本発明の磁気ヘッドの製造方法を説明するためのコ
ア部片を示す断面図、第４図（イ）〜（ホ）は本発明の
実験結果を従来例比較説明するための磁気ヘッドコアに
おける記録媒体対向平面の主要部図、第５図および第６
図はそれぞれ従来例を示す図である。 30,30´……磁気ヘッドを構成するコア半体、31……保
護コア、32……金属磁性膜、33……非磁性酸化物膜もし
くは炭化物膜、34……非磁性金属膜、35……ガラス、36
……磁気ギャップ、37……コイル巻線用溝
対向平面図、第２図は第１図磁気ヘッドの斜視図、第３
図は本発明の磁気ヘッドの製造方法を説明するためのコ
ア部片を示す断面図、第４図（イ）〜（ホ）は本発明の
実験結果を従来例比較説明するための磁気ヘッドコアに
おける記録媒体対向平面の主要部図、第５図および第６
図はそれぞれ従来例を示す図である。 30,30´……磁気ヘッドを構成するコア半体、31……保
護コア、32……金属磁性膜、33……非磁性酸化物膜もし
くは炭化物膜、34……非磁性金属膜、35……ガラス、36
……磁気ギャップ、37……コイル巻線用溝
フロントページの続き (72)発明者 座間 秀夫 茨城県勝田市大字稲田1410番地 株式会社 日立製作所東海工場内 (72)発明者 森川 寿一 茨城県勝田市大字稲田1410番地 株式会社 日立製作所東海工場内 (56)参考文献 特開 昭60−125909（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−205808（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−195709（ＪＰ，Ａ)
Claims (8)
- 【請求項１】磁気ギャップを介して対向する一対の磁気
コアと、該磁気コアの磁気ギャップ近傍に設けられてト
ラック幅を規制する絞り溝と、該絞り溝に充填されるガ
ラスを有し、上記磁気コアの磁気ギャップ近傍の少なく
とも一部に金属磁性材を用い、かつ該金属磁性材の少な
くとも一部が上記絞り溝の溝面を構成する磁気ヘッドに
おいて、上記金属磁性材とガラスの間に設けられる中間
膜として、上記金属磁性材側に配置される酸化物膜もし
くは炭化物膜と、上記ガラス側に配置される非磁性金属
膜の少なくとも２層の膜からなる中間膜を用いることを
特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】前記非磁性金属膜の上にさらにガラス膜を
設けた後、ガラスを充填したことを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】前記磁気コアは、前記金属磁性材とフェラ
イトの複合材からなることを特徴とする特許請求の範囲
第１項乃至第２項のうちいずれかに記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】前記ガラスは、鉛ガラスであることを特徴
とする特許請求の範囲第１項乃至第３項のうちいずれか
に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項５】前記金属磁性材は、Fe−Al−Si系合金,Ni
−Fe合金，及び窒化鉄から選択される少なくとも１種で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項
のうちいずれかに記載の磁気ヘッド。 - 【請求項６】前記酸化物膜は、SiO2,Al2O3,及びZrO2か
ら選択される少なくとも１種であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項乃至第５項のうちいずれかに記載の
磁気ヘッド。 - 【請求項７】前記炭化物は、TiC,SiC,及びB4Cから選択
される少なくとも１種であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項乃至第５項のうちいずれかに記載の磁気ヘ
ッド。 - 【請求項８】前記非磁性金属膜は、Cr,Ti,Mo,Al,Cu,Si,
及びGeから選択される少なくとも１種を含むことを特徴
とする特許請求の範囲第１項乃至第７項のうちいずれか
に記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61002008A JPH0758527B2 (ja) | 1986-01-10 | 1986-01-10 | 磁気ヘツド |
| KR1019860011172A KR900004310B1 (ko) | 1986-01-10 | 1986-12-24 | 자기 헤드 |
| DE8686118175T DE3679657D1 (de) | 1986-01-10 | 1986-12-31 | Magnetkopf. |
| EP86118175A EP0235395B1 (en) | 1986-01-10 | 1986-12-31 | Magnetic head |
| US07/000,777 US4803338A (en) | 1986-01-10 | 1987-01-06 | Magnetic head having improved track width narrowing grooves |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61002008A JPH0758527B2 (ja) | 1986-01-10 | 1986-01-10 | 磁気ヘツド |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5002342A Division JP2762885B2 (ja) | 1993-01-11 | 1993-01-11 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62162206A JPS62162206A (ja) | 1987-07-18 |
| JPH0758527B2 true JPH0758527B2 (ja) | 1995-06-21 |
Family
ID=11517357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61002008A Expired - Lifetime JPH0758527B2 (ja) | 1986-01-10 | 1986-01-10 | 磁気ヘツド |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4803338A (ja) |
| EP (1) | EP0235395B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0758527B2 (ja) |
| KR (1) | KR900004310B1 (ja) |
| DE (1) | DE3679657D1 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62114108A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-25 | Mitsubishi Electric Corp | 電磁変換素子 |
| JPH01128213A (ja) * | 1987-11-13 | 1989-05-19 | Hitachi Ltd | 金属薄膜磁気ヘッド |
| JPH01260615A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-17 | Nec Kansai Ltd | 磁気ヘッド |
| DE3820502A1 (de) * | 1988-06-16 | 1989-12-21 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur herstellung von magnetkoepfen |
| JPH0258714A (ja) * | 1988-08-23 | 1990-02-27 | Nippon Mining Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH0762890B2 (ja) * | 1988-10-04 | 1995-07-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
| DE3934284C2 (de) * | 1988-10-13 | 1994-06-16 | Canon Denshi Kk | Magnetkopf |
| JPH04245005A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US5687045A (en) * | 1991-09-20 | 1997-11-11 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head and production method thereof and magnetic disk drive equipped with this thin film magnetic head |
| KR0130192B1 (ko) * | 1992-01-16 | 1998-04-17 | 가다오까 마사다까 | 자기헤드 및 그 제조방법 |
| JPH0644516A (ja) * | 1992-07-24 | 1994-02-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JP2762885B2 (ja) * | 1993-01-11 | 1998-06-04 | 株式会社日立製作所 | 磁気ヘッド |
| US6061212A (en) * | 1995-05-18 | 2000-05-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head with circular notches and magnetic recording/reproducing apparatus using the same |
| KR100245035B1 (ko) * | 1997-05-30 | 2000-02-15 | 전주범 | 미그형 자기 유도 헤드 제조방법 |
| US6877213B2 (en) * | 2002-01-07 | 2005-04-12 | International Business Machines Corporation | Feature size reduction in thin film magnetic head using low temperature deposition coating of photolithographically-defined trenches |
| US6770209B2 (en) | 2002-01-09 | 2004-08-03 | International Business Machines Corporation | Isotropic deposition for trench narrowing of features to be created by reactive ion etch processing |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3354540A (en) * | 1961-04-07 | 1967-11-28 | Philips Corp | Method of manufacturing reliable magnetic heads having accurately predetermined dimensions |
| JPS55117723A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-10 | Sony Corp | Magnetic head |
| JPS5625220A (en) * | 1979-08-07 | 1981-03-11 | Fujitsu Ltd | Manufacture of thih-film magnetic head |
| JPS56124112A (en) * | 1980-03-06 | 1981-09-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
| NL8202059A (nl) * | 1982-05-19 | 1983-12-16 | Philips Nv | Glas gekitte magneetkop en werkwijze voor zijn vervaardiging. |
| JPS59142716A (ja) * | 1983-02-04 | 1984-08-16 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
| JPS60125909A (ja) * | 1983-12-12 | 1985-07-05 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS60182507A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-18 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS60195709A (ja) * | 1984-03-16 | 1985-10-04 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| US4819113A (en) * | 1984-03-29 | 1989-04-04 | Sony Corporation | Magnetic transducer head with inclined magnetic gap |
| JPS60205808A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-17 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS60261006A (ja) * | 1984-06-07 | 1985-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS61126614A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-06-14 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPS61145712A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-03 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS61260407A (ja) * | 1985-05-14 | 1986-11-18 | Nec Kansai Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
-
1986
- 1986-01-10 JP JP61002008A patent/JPH0758527B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1986-12-24 KR KR1019860011172A patent/KR900004310B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1986-12-31 EP EP86118175A patent/EP0235395B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-12-31 DE DE8686118175T patent/DE3679657D1/de not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-01-06 US US07/000,777 patent/US4803338A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR870007478A (ko) | 1987-08-19 |
| KR900004310B1 (ko) | 1990-06-20 |
| JPS62162206A (ja) | 1987-07-18 |
| DE3679657D1 (de) | 1991-07-11 |
| US4803338A (en) | 1989-02-07 |
| EP0235395B1 (en) | 1991-06-05 |
| EP0235395A1 (en) | 1987-09-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |