JPS59142716A

JPS59142716A - 磁気ヘツドおよびその製造方法

Info

Publication number: JPS59142716A
Application number: JP58016067A
Authority: JP
Inventors: Takayuki Kumasaka; 登行熊坂; Hideo Fujiwara; 英夫藤原; Moichi Otomo; 茂一大友; Takeo Yamashita; 武夫山下; Shinji Takayama; 高山　新司; Noritoshi Saitou; 斉藤　法利; Nobuo Kobayashi; 信夫小林; Sanehiro Kudo; 實弘工藤
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1983-02-04
Filing date: 1983-02-04
Publication date: 1984-08-16
Also published as: EP0115842B1; CA1207900A; US4559572A; KR910007861B1; EP0115842A1; DE3466305D1; KR840008862A; JPH0542726B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の利用分野〕本発明は高保磁力磁気記録媒体と組み合せて使用するに
適した磁気ヘッドに係ｐ１特に、高飽和磁束密度の磁性
合金膜を使用して構成することに。

より、短い記録波長で、高保磁力の磁気記録媒体に記録
再生を行なうのに好適な磁気ヘッドに関する。

〔従来技術〕

従来、高飽和磁束密度を有する磁気へラドコア材はセン
ダスト（Ｆｅ−Ａｔ−８ｉ合金）のような合金のバルク
材を用いていた。しかし、金属磁性材をコア材に用いた
場合、渦電流損失が問題となシ、高周波領域における透
磁率が得られない欠点があった。そのため、薄膜形成技
術を用いて、金属磁性材と絶縁体を交互に積層して多層
膜としたものをコア材とする検討が盛んに行なわれるよ
うになった。この種の磁気ヘッドは第１図、第２図に示
すものが提案されている。

すなわち、その一つは第１図に示すように、非磁性基板
１０．１０’の上に磁性合金を周知の薄膜形成方法によ
り多数層に積層した磁性合金膜１１゜１１′を形成し、
これを分割して、コイル巻線窓１２を設け、次にギャッ
プ形成面を鏡面研摩した後、非磁性膜を介して接合して
磁気へラドコアとし、あるいは数個取りのコアブロック
とし、これから磁気へラドコアを切り出していた。この
ように平面的に形成する磁気ヘッドは１個１個を突き合
せる方、法によって作製せざるを得ないので、生産性が
低く、また、製品の特性ばらつきが太きいという欠点が
あった。

一方、第２図に示す磁気ヘッドは、従来のフェライトコ
ア２０．２０’の作動ギャップ近傍部が磁気的に飽和し
ないようにするために、作動ギャップ２１の近傍部のみ
を飽和磁束密度の大きい金属磁性膜２２．２２’をもっ
て構成した金属磁性合金膜−フェライトの複合ヘッドで
ある。このような構造の磁気ヘッドは、前者に比して生
産性は格段に良好でおるが、特性上、次のような欠点の
あることが判った。

すなわち、前述した複合型磁気ヘッドは、その大部分が
フェライトで構成されており、フェライトの摺動雑音が
大きいこと、％に高周波領域（８ＭＨ２以上）で大きな
ｗ音を生じることが判った。

また、コアの大部分がフェライトで構成されているため
、励磁用のコイル巻線を多くするとインタ。

クタンスが大きくなってしまって巻線を多くできないと
いう欠点があった。さらに、フェライトと金属磁性膜の
境界部２３．２３’が作動ギャップ２１と平行部を有す
ると境界部が疑似ギャップとして作動する欠点があった
。

〔発明、の目的、−〕

本発明は上記従来の欠点を解決し、広帯域において好適
な記録再生特性を有し、摺動雑音力１　／Ｊ％さく耐摩
耗性にも優れ、しかも、量産性に適した磁気ヘッドおよ
びその製造方法を提供するものである。

〔発明の概要〕

上記目的を達成するため、本発明の磁気ヘッドは、高飽
和磁束密度の金属磁性体膜で磁気回路が構成され、周囲
の保護材を非磁性材として摺動雑音の低減を図り、前記
非磁性材はフェライトと同等又はそれ以上の耐摩耗性材
料とすることによって長寿命化を図るようにしである。

さらに、本発明の磁気ヘッドは薄膜形成技術を用いて製
造することができ、量産性に適したヘッド構造を有する
ものである。すなわち、突き合せ面がトラック幅に対応
する平坦部を有し、略Ｖ字状の一対の金属磁性体膜がそ
の凸状部において非磁性ギャップ材を介して互いに突き
合せてなシ、少なくとも一方にコイル巻線窓を設けて磁
気回路が構成され、該金属磁性体膜が非磁性保護材上に
形成されてなる磁気ヘッドである。したがって、大きな
非磁性基板に多数の突起部を形成するための溝を形成し
、この面に金属磁性体膜を形成し、その突起部がギャッ
プ突き合せ部となり、従来のフェライト磁気ヘッドの製
造工程の大部分がそのまま使用可能とな９、同時に多数
の磁気へラドコアが得られる。

また、突起部の両側面に形成された金属磁性体膜の厚み
の和がトラック幅となるので、従来の平面形状に金属磁
性体膜を形成した第１図に示すタイプの磁気ヘッドより
、短時間に目的の厚みが得られる。

前記金属磁性体膜は飽和磁束密度が高く（好ましくは５
ｏｏｏガウス以上）、且っ磁歪が０付近の高透磁率材料
であれば何でもよいが、代表的なものとしては周知のＦ
ｅ−８ｉ合金、Ｆｅ−Ａｔ−８ｉ合金（いわゆるセンダ
スト系合金）、Ｎ１−ｐｅ金合金いわゆるパーマロイ系
合金）および各種の高透磁率非晶゛質合金等を挙げるこ
とができる。透磁率は高い程よいが、通常、少なくとも
５ＭＨ２で５００以上とする。また、例えば５ｉｏｔ。

Ａｔ、０．　　のような非磁性絶縁体からなる厚さ１０
０人〜１μｍの非磁性体層と前記金属磁性体膜とを交互
に積層した磁性体でもよい。金属磁性体膜の厚さは、は
ぼトラック幅の１／２程度とするが、その磁気ヘッドの
トラック幅および、必要とする該金属磁性体膜の記録媒
体摺動方向におけるＶ字型の凸状部の厚さく第６図のｔ
ｍに和尚）との関連で定めるものとする。上記金属磁性
体膜のＶ字型の凸状部の厚さは、通常０μｍ〜５０μｍ
とする。なお、このように、磁性体層と非磁性体層を交
互に積層することによシ磁気特性を向上せしめることは
周知である。一方、前記金属磁性体膜を被着する保護材
料は耐摩性を有する２、非磁性フエライ）、Ａｔ、Ｏ，
、高融点ガラスあるいは一般に知られているセラミック
ス等の非磁性基板が用いられる。前記非磁性基板の一組
のＶ字状溝の側面に設けられた金属磁性体膜の上にさら
に保護材として非磁性材を設けることによって、磁気ヘ
ッドの耐摩耗性を確保するのに効果があり、また、ヘッ
ド製造工程で行なわれるガラス接合等の工程において金
属磁性体膜とガラスとの反応を保護するＣｕＡｇ　　合
金等高導電材料を設けることによって作動ギャップ以外
の部分での漏洩磁束の損失を少なくすることができる。

上述した本発明の、磁気ヘッドは、１）少なくとも一対
のコアブロックが得られ、多数のヘッドコアが得られる
非磁性ブロックのギャップ形成側の面に、コイル巻線用
の窓となる溝を形成する工程、１１）工程ｉ）を終了し
た前記非磁性ブロックのギャップ形成側の面に、前記コ
イル巻線用溝とほぼ直交するように中央部に突起を挾持
するように隣接し、少なくともコイル巻線用溝より深い
２本の溝を１組とする溝を平行に複数本設ける工程、１
１１）工程＋ｔ　＞を終了した前記非磁性ブロックのギ
ャップ形成側の面の少なくとも前記溝面上に高透磁率金
属磁性体を被着せしめる工程、１ｖ）前記金属磁性体が
表面に被着されている前記溝に非磁性材を充゛填する゛
工程、Ｖ）前記非磁性材ならびに金属磁性体の不要部を
除去し、所定のトラック幅を有するギャップ形成面を露
呈せしめる工程、ｖｌ）工程■）を終了したブロックを
一対の磁気ヘッドコアブロックとなるように切断する工
程、Ｖｉｉ）工程■１）を終了した前記１対のコアブロ
ックの少なくとも一方のギャップ形成側の面に所要の厚
さの非磁性層を形成する工程、ｖｌｌｌ）工程■１１）
を終了した前記１対のコアブロックのギャップ形成面を
相対峙せしめ、互に接合して一体化する工程、および１
ｘ）接合された前記ブロックを所定の位置にて切断し、
複数個の磁気へラドコアを得る工程を有する製造方法に
より容易に製造することができる。

■程１１）において、前記Ｖ字状の溝は、前記ブロック
のギャップ形成側の面の一つの稜から他の稜にかけて縦
断するように設け、工程ｉ）のコイル巻線用溝より深く
形成される。

工程ｍ　＞において、金属磁性体を被着後上面に非磁性
保護膜を被着することによって、ヘッド製造工程におい
て金属磁性体を保護することができる。

工程１１１）において、金属磁性体の上面もしくは上下
面に高導電性の非磁性金属を被着することによって作動
ギャップ以外の部分での漏洩磁束を防ぐことができる。

また、さらにその上に非磁性絶縁膜を形成してもよい。

工程＋ｖ）において、非磁性充填材はガラスを溶融して
充填してもよく、スパッタリング等の方法で充填するこ
ともできる。

その他、本発明の磁気ヘッドならびにその製造方法にお
いて、本明細書に記載してないことは、すべて禅来技術
を踏襲するものである。

また、磁気ヘッドの製造工程の順序は特に規定するもの
ではない。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の磁気ヘッドの構造および製造方法につい
て実施例によって詳しく説明する。

第３図は本発明の代衣例を示す磁気ヘッドの斜視図であ
る。３０．３０’はコア保護材で非磁性材料が用いられ
る。耐摩耗性を有することが必要条件と−なるの、で、
非磁性フェライト、セラミック。

硬質ガラス等の中から、金属磁性体の種類によって熱膨
張係数の近いものが選ばれる。３１．３１’はへラドコ
アを形成する金属磁性体からなり、Ｆ　ｅ−８ｉ　、　
Ｆ　ｅ−Ａｔ−８ｉ　、　Ｎ　ｉ−Ｆ　ｅｔＤ結品質合
金もしくは非晶質合金（ｐｅ−Ｃｏ−８ｉ−Ｂ系、Ｃｏ
−Ｍｏ−Ｚｒ系、Ｃｏ−Ｎｂ−ｚｒ系、Ｃｏ−Ｗ−Ｚｒ
系、Ｃｏ−Ｃｒ−７，ｒ系。

ＣＯ−７，ｒ　−Ｂ系、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｚｒ系）等で構成
されており、それぞれ、はぼ磁歪零近傍の組成を有する
もので、スパッタリング、真空蒸着等の手段で形成され
る。３２．３２’はコアおよび磁性膜の保護材で、ガラ
スを溶融して充填する。

３３はギャップ突き合せ部でトラック幅に対応する平坦
部を有する略Ｖ字状の金属磁性体膜がその凸状部におい
てギャップ幅に対応する非磁性膜を介して突き合せた作
動ギャップ部である。このような構造にすることによっ
て、金属磁性体膜の作動ギャップ面と他端部に平行部を
持たないため、アジマス損失によってクロストークの減
少が図られている。なお、３４はコイル巻線用窓である
。

第４図は本発明の他の磁気ヘッドの構造を示す斜視図で
ある。基本的な構造は第３図と同様である。第３図の３
５．３５’に示すように金属磁性体を被着した後に、非
磁性材を高速スノくツタリングによって被着し、ヘッド
コアの一部３２．３２’で接合することによって金属磁
性体の保護および耐摩耗性向上に効果ある。このように
すれば、高融点のガラスを充填することができ、さらに
ガラス以外の非磁性材を用いることができる。場合によ
っては３２．３２’のガラス接合をギャップ面および、
コイル巻線窓の一部で行なうこともできる。なお、それ
ぞれ付記した符号は第３図と同一でおる。

なお、第３図、第４図において、巻線コイルの表示は省
略した。

以下本発明の前記磁気ヘッドの種々の製造方法を実施例
によって詳細に説明する。

本発明の基本的な製造方法の各工程の説明図を第５図（
イ）〜（ト）に示す。

ｌ）゛第５図何】は非磁性フェライトよりなるブロック
４０のギャップ突き合せ面となる面４１にコイル巻−用
の溝４２を設ける工程である。溝は先端が台形に成形さ
れたメタルボンド砥石もしくはレジンボンド砥石が用い
られ、高速ダイサ等によつて加工される。この時の溝深
さｈは０，３ＴｒｒＭとした。なお、非磁性体ブロック
の形状は一対のコアブロックとなる形状を示しである。

寸法は、ａ＝２ｒａｎ、　ｂ　＝　１５閣、　Ｃ＝　６
ｔｔａｎトシｆＣ０（以下、第５図（イ）、第５図（口
λ等に対応する工程を工程（イ几工程（ロ）等とする）
。

１１）工程（ロ）は前記ブロック４ｏに形成した、コイ
ル巻線溝４２に直交して、略Ｖ字状の突起部を残して隣
接する２本の溝４３．４３’を組とする複数組の溝を平
行に設ける工程である。溝４３゜４３′の深さは少なく
ともコイル巻線溝４２の深さｈよυ深くしておく。ここ
では、ｈ　＝　０．３　ｗｒｔｒに対して、Ｈ＝０．４
〜１閣とした。また、突起部の角度θは５〜２０　とし
た。この角度θは、切断した後の磁気へラドコア幅を狭
くするときは、狭くする必要がある。好適には７〜１５
　となる。

１１１）工程ヒ１は工程−で得られた溝部を含め突起部
全面に金属磁性体膜４４をスパッタリングによって堆積
させる工程である。金属磁性体はＦｅ−８ｉ合金、Ｆｅ
−Ａｔ−８ｉ合金（センダスト）、Ｎｉ−Ｆｅ合金（パ
ーマロイ）等で代表される結晶質合金であｐ１非晶質合
金はＣｏ−Ｆｅ−８ｉ−Ｂ系で代表される周知のメタル
−メタロイド系合金ヤＣｏ−Ｍｏ−Ｚ　ｒ　、　Ｃｏ−
Ｎ　ｂ、−Ｚｒ　。

Ｃｏ　−Ｗ−７，ｒ　、　Ｃｏ−’ｌ’　ｉ等の周知ツ
メタル−メタル系合金系が用いられる。なお、上述した
磁性メ合金膜の被着形成の方法ならびに条件は一例をあ
げると次のとおりである。

被着方法：マグネトロン型スパッタ装置被着磁性合金：
Ｃｏｓ？Ｎｂ、Ｚｒｓ非晶質合金ターゲット電圧：１ｋ
Ｖアルゴンガス圧：　５　Ｘ　１０−”　Ｔｏｒｒ被着時
被着時変板温度〜１００ｔ：’ 被着速度二６μｍ／ｈｌ被着膜厚：２５μｍ被着法は他に゛真空蒸着、イオングレーティング、化学
蒸着あるいはメッキ法等でも可能であるが、限られた金
属しかでき−ないことや組成変動が大きい等の難点があ
シ、スパッタリング法が適している。また、スパッタリ
ング法は付着強度が高く、溝部にも廻り込みがよいとい
う利点があり本発１法に対して適している。金属磁性体
膜の堆積は、必要ならば、前述のように非磁性物質と交
互に積層した多層膜としてもよい。

＋Ｖ）工程に）は工程ヒ）で得られた金属磁性体膜４４
の上に少なくとも残りの溝部が埋まる程度に非磁性材４
５を充填する工程である。非磁性材４５はガラス、セラ
ミック系の無機接着材おるいは硬質の樹脂が用いられる
。安定性の面からガラスが適している。ガラス材は金属
磁性体膜４４が結晶質合金であれば作業温度が８００Ｃ
以下の広い範囲で選ぶことが可能である。一方弁晶質合
金の場合は少なくとも結晶化温度以下のものが選ばれ、
一般に、作業温度が５００１：以下の低融点ガラスにす
る必要がある。

■）工程（ホ）は工程に）で得られたブロックの不要の
非磁性材および金属磁性体膜を除去し、所璧のトラック
幅ｔの金属磁性体膜からなる作動ギャップ形成面を露呈
させる工程である。除去法は研削および研摩によって行
なわれ、ギャップ突き合せ面を同時に得るため、最終仕
上げは鏡面研摩面とする。トラック幅は非磁性体の突起
部が現われない範囲で任意に設定することが可能である
。次に、ブロック４０を一点鎖線Ａで切断し、一対のコ
アブロック４７．４８を得る。

■１）工程（へ）は工程（ホ）で得られた一対のコアブ
ロック４７．４８のギャップ形成面（コアブロック突き
合せ面）にｓｉｏ、ガラス等の非磁性材を所要の厚さく
約０．２５μｍ）にスパッタリングしてギャップ形成膜
とし、該一対のコアブロックの金属磁性体膜の突起部が
規定のトラック幅となるように突き合せ、加圧しながら
、充填ガラス４５が溶融する温度に刃口熱し、接合ブロ
ック４９を得る。

このようにして得られた接合ブロックは金属磁性体膜が
突き合されて形成されトラック部を中心に一点鎖、線Ｃ
お、よびＣ′で順次切断することによってコア厚みＴの
磁気へラドコアを得る。場合によってはＢおよびＢ′で
切断して、所要のコア幅を得る。

■１１）このようにして得られた磁気へッドコア誠を第
５図（ト）に示す。ここで、４４．４４’は本発明の磁
気ヘッドの磁気回路を構成する金属磁性体、５２，５２
′は磁気コアの非磁性保護材、４５．４５’は金属磁性
体の側面を保護する充填ガラス、５１１′ｉ、作動ギャ
ップ、５３はコイル巻線用窓、Ｔは磁気コアの厚みを示
す。

第６図は第５図（ト）の磁気へラドコアから、主要部の
金属磁性体部を取シ出して示した斜視図である。突き合
せ面がトラック幅に対応する平坦部を有し、略Ｖ字状一
対の金属磁性体がギャップ材を介して互いに突き合せた
構造となっている。ここでｔＷはトラック幅で約２５μ
ｍとした。また、ｔｌｍは磁気記録媒体摺動方向におけ
る金属磁性体層の凸状部の厚さで１０μｍとした。

次に本発明の他の実施例になる磁気ヘッドを第７図に示
す。６１．６１’は磁気回路を構成する一対の金属磁性
体膜で、突起部を有する非磁性保護材６０，６０’の上
に形成され、６２．６２’は金属磁性体膜の上にさらに
保護材として耐摩耗性に優れ高融点の非磁性材をスパッ
タリング法によって形成する。６３．６３’はガラスの
ような接合材で２個のコアを接着するために用いる。

６４はコイル巻線用窓である。このようにすれば、強固
な保護材が容易に形成されコア接着工程においてガラス
と金属磁性体膜との反応を防ぐことができトラック幅と
なる端部が精度よ〈形成することができる。第７図にお
いて巻線コイルの表示は省略しである。第７図に示す磁
気ヘッドの簡単な製造法を第８図（イ）、（ロ）に示す
。第８図中（イ）は非磁性保護材６０のギャップ突き合
せ面となる面に多数の突起部を形成するように金形の溝
入れを行ない、その上に金属磁性体膜６１をスパッタリ
ング法によって形成し、その上に、さらに、Ａｔ、Ｏ。

保護膜６２を形成する工程である。この工程は前記実施
例の第５図工程ヒラに対応して行なわれる。

次に１．第８図戸】は残りの溝部にガラス６３を充填し
て後、研削、研摩工程によってトラック幅１゜得る工程
である。この工程は、第５図の工程に）を経た工程（ホ
）に対応する。以下、第５図の製造工程によって磁気へ
ラドコアを製造する。′また、場合によっては接着材６
３をすべて保護材６２で形成してもよい。その場合、接
着部は、ギャップ突き合せ而およびコイル巻線窓の一部
で行なうことができる。

さらに、本発明の他の実施例は第８図（イ）において、
非磁性保護材６０の突起部に高導電性を有するＣｕの層
を形成し、次に金属磁性体膜６１を形成して後さらにＣ
ｕＯ層を形成する構造からなる。

場冶によっては最後に非磁性絶縁膜を形成して保護材と
し、以下前記本発明法で説明工程を経て磁気へラドコア
を製造する。本発明法のヘッド構造によれば、作動ギャ
ップ以外の部分での漏洩磁束を減じる効果があり、効率
のよい磁気ヘッドが得られる。

次に、非磁性保護材の突起部の形状に関する他の実施例
を第９図げＪ、（ロ）に示す。すなわち、第９図（イ）
に示すように非磁性保護材６０に形成される突起部の先
端部を矩形状にすることもできる。この場合先端面６６
は後で形成される作動ギャップと平行部を持たないよう
に傾斜させるようにしておくことが好ましい。この傾斜
面は本発明の実施例を示す第５図（イ］の前の工程で形
成しておくとよい。次に、第９図（イ）の工程後第５図
に示した工程によって、金属磁性体膜６１の形成、ガラ
ス６３の充填、および上面研摩を順次行なうことによっ
て第９図（ロ）の形状として、トラック幅ｔｖを得るこ
とができる。このようにすれば、非磁性保護材の突起部
の幅ｔ、／　　をあらかじめ規定し、所要の金属磁性体
膜を形成することによって、容易にトラック幅１．を得
ることができる。

次に、従来の磁気ヘッドと本発明の磁気ヘッドの雑音レ
ベルについて比較した例を第１１図、第１１図によって
説明する。第１０図は従来例を示す図で、例えば第３図
において非磁性保護材３０３０′を磁性フェライトに置
換した構造の場合の周波数・と各維、音レベルとの関係
を示したものである。ここで、７０はアンプ雑音、７１
は摺動雑音、７２はＡＣ消去雑音、−７３は全雑音を示
す。用いた記録媒体は保磁力１４０００ｅのメタルチー
ブである。同様にして、第１１図は本発明法による第３
図、第４図に示す磁気ヘッドによる各雑音レベルを示し
たもので、磁気回路を金属磁性体で構成し、保護材３０
．３０’として非磁性材を付加した構造を有する磁気ヘ
ッドである。ここで注目すべきことは、保護材をフェラ
イトで構成した場合（第１０図の場合）、特に８〜９Ｍ
Ｈ２の高周波領域７４で急激に摺動雑音が増加すること
である。

一方、保護材を非磁性材とすることによって、第１１図
に示すように、摺動雑音はほとんど現われないことがわ
かった。これによって、本発明の磁気ヘッドは高周波領
域における再生出力が１ｄＢ以上向上することがわかっ
た。また、第１図の従来のストレート型の磁気ヘッドよ
りも、高保磁力メタルチーブと組み合せた場合の記録再
生特性の優れたものが得られることも確認した。

〔発明の効果〕

以上説明したごとく本発明の磁気ヘッドは、高保磁力を
有する記録媒体にも十分記録可能な高飽和磁束密度の金
属磁性体で磁気コアを形成し、高耐摩耗性を有する非磁
性保護材と組み合せ、薄膜形成技術用いた構造で量産性
が高く、かつ、低雑音で記録および再生特性の優れた狭
トラツク磁気ヘッドとなっている。また、この磁気ヘッ
ドは、本発明の製造方法により、極めて容易に製造する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は従来の磁気ヘッドの斜視図、第３図、
第４図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの斜視図
、第５図（イ）〜（ト）は本発明の磁気ヘッドの製造方
法の一実施例における各工程の説明図、第６図は本発明
の磁気ヘッドの主要磁性体部を示す斜視図、第７図は本
発明の他の実施例における磁気ヘッドの斜視図、第８図
（イ）、（口〕は本発明の他の実施例における加工され
たブロックの断面図、第９図（イ〕、幹）は本発明の他
の実施例における非磁性保護材突起部の断面形状を示す
図、第１θ図、第１１図は従来の磁気ヘッドと本発明の
磁気ヘッドの周波数領域による各雑音レベルの変化を比
較したグラフである。３０．３０’・・・非磁性保護材、３１．３１’・・・
金属磁性体膜、３３・・・作動ギャップ、３４・・・コ
イル巻線用窓、３２．３２’・・・保護および接着材、
３５・・・保護膜、４０・・・非磁性ブロック、４２・
・・コイル巻線用溝、４３．４３’・・・突起部形成溝
、４４．４４’　、６１．６１’・・・金属磁性体膜、
４５．６３・・・保護ガラス、４７．４８・・・コアブ
ロック、５０・・・磁気へラドコア、５１・・・作動ギ
ャップ、５２．５２’　、６０．６０’・・・非磁性保
護材、Ｚ　１　図　　　　　　１２　図下　３　凹　　　　　　第　４　図１５　　　タ　　　刃／７１（ごすＺ　　５　　図Ｃホ）（ト）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　％ｇ
　　　図￥３　７　凹Ｙ　８　図、（４）国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番地株式会社日立製作所中央研究所内０発　明　者　斉藤法利国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番地株式会社日立製作所中央研究所内０発　明　者　小林倍大国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番地株式会社日立製作所中央研究所内０発　明　者　工藤實弘国分寺市東恋ケ窪１丁目２８０番地株式会社日立製作所中央研究所内

Claims

【特許請求の範囲】１、はぼＶ字状の断面形状を有し、磁気回路を構成する
１対の金属磁性体膜が非磁性ギャップ材を介してその突
起部において互いに突き合わせてなり、該Ｖ字状の形状
の断面部分が磁気記録媒体対抗面に露出し、該１対の金
属磁性体膜の該突起部の先端は互に平行で且つ磁気記録
媒体走行方向にほぼ直角な平面であり、該平面と該磁気
記録媒体対抗面との交線で示される該平面の幅はトラッ
ク幅に対応し、少なくとも一方の該金属磁性体膜はコイ
ル巻線窓を有し、且つ該金属磁性体膜は該７字状に対応
する形状の突起部を有する非磁性保護材上に形成されて
なることを特徴とする磁気ヘッド。２、前記金属磁性体膜の上面に非磁性絶縁膜を形成して
なることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気
ヘッド。３、前記金属磁性体膜の上面もしくは上下面に非磁性高
導電体膜を形成することを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の磁気ヘッド。４、前記金属磁性体膜の上面に非磁性高導電体膜を形成
し、さらにその上面に非磁性絶縁膜を形成することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。５、前記金属磁性体膜が高透磁率多結晶合金もしくは高
透磁率非晶質合金からなることを特徴とする特許請求の
範囲第１項乃至第４項のいずれかの項に記載の磁気ヘッ
ド。６、前記金属磁性体膜がｐｅ−８ｉ合金、ｐｅ−Ａｔ−
８ｉ合金もしくはＮ　ｉ　−Ｆ　ｅ合金からなることを
特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれか
の項に記載の磁気ヘッド。７．１）非磁性ブロックのギャップ形成側の面に、コイ
・ル巻線用の窓となる溝を形成する工程、＋＋　）工程
ｉ）を終了した前記非磁性ブロックのギャップ形成側の
面に、前記コイル巻線用溝とほぼ直交するように中央部
に突起を挾持するように隣接し、少なくともコイル巻線
用溝より深い２本の溝を１組とする少なくとも１組の溝
を平行に設ける工程、１１１）工程Ｉｔ　）を終了した
前記非磁性ブロックのギャップ形成側の面の少なくとも
前記溝面上に高透磁率金属磁性体を被着せしめる工程、
１■）前記金属磁性体が表面に被着させている前記溝に
非磁性材を充填する工程、■）前記非磁性材ならびに金
属磁性体の不要部を除去し、所定のトラック幅を有する
ギャップ形成面を露呈せしめる工程、ｖｌ）工程（ψを
終了したブロックを一対の磁気ヘッドコアブロックとな
るように切断する工程、ｖ＋ｎ工程■１）を終了した前
記１対のコアブロックの少なくとも一方のギャップ形成
側の面に所要の厚さの非磁性層を形成する工程、ｖｉｉ
ｉ）工程Ｖ＋＋　＞を終了した前記１対のコアブロック
のギャップ形成面を相対峙せしめ、互いに接合して一体
化する工程、および＋Ｘ　）接合された前記ブロックを
所定の位置にて切断し、複数個の磁気へラドコアを得る
工程を有すること′ｆｆ：％徴とする磁気ヘッドの製造
方法。８、前記工程１１１）において、金属磁性体を被着後上
面に非磁性保護膜を被着することを特徴とする特許請求
の範囲第７項記載の磁気ヘッドの製造方法。