JPS6174103A

JPS6174103A - 磁気記録装置

Info

Publication number: JPS6174103A
Application number: JP59197208A
Authority: JP
Inventors: Shigeo Endo; 遠藤　重郎; Shiro Murakami; 志郎村上; Yoshiharu Koike; 小池　義治; Koji Takada; 幸治高田
Original assignee: Hitachi Metals Ltd
Current assignee: Proterial Ltd
Priority date: 1984-09-20
Filing date: 1984-09-20
Publication date: 1986-04-16
Also published as: US4709284A; US4835640A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］未発り１は磁気記録装置に係り、特に磁気ヘッドの材質
と、磁気ディスクの磁気記録層の材質とを選定すること
により、ｍ動特性、耐摩耗性を著しく高めるようにした
磁気記録装置に関する。

［従来の技術］磁気ディスクからの情報の読み出しに用いられる磁気ヘ
ッドとしては、例えばＵＳＰ−３８２３４１８、特公昭
５７−５６９号に示されているようなフローティングへ
ラドがよく使用されている。このようなフローティング
ヘッドにおいては、スライダの後端部に高透磁率をもつ
磁性材料で作られた磁気コアが固定されている。磁気コ
アはスライダコア下面側に磁気変換用ギャップを有し、
またこの磁気コアには電磁変換用＠線が施されて磁気ト
ランスデユーサが構成されている。

このような構成のフローティング磁気ヘッドは、ｒＩｉ
気ディスクが静止している時には、スプリングの力で軽
く磁気ディスクに接触している。

また磁気ディスクが回転している時には、Ｉａ気ディス
ク表面付近の空気が同様に動いて、スライダ下面を持ち
上げる力が作用する。そのため磁気ヘッドは、磁気ディ
スクの回転中は浮上し＆１′Ａディスクから離れている
。

一方、磁気ディスクの回転を開始する時及び回転を止め
る時には、磁気ヘッドは磁気ディスク上を摺動する。磁
気ディスクの回転を止める時の接触の状況を説明すると
、磁気ディスクの回転を落して来た時に、その表面の空
気の流れも次第に遅くなる。そして、磁気ヘッドの浮力
が失われた時磁気ヘッドは磁気ディスク面上に衝突する
と共に、その反動で、とび上り、またディスク面に落る
。このような運動を何度か繰り返した上で１ｍ磁気ヘッ
ド磁気ディスク上を引きづられる様にして、停止上する
。このような起動、停Ｅ時の＃ｉ撃に磁気へ一／　トは
耐える必要があり、その性能をＣ５Ｓ性（Ｃｏｎｔａｃ
ｔ−５ｔａｒｔ−５ｔｏｐ）と呼ぶことがある。

Ｃ５Ｓ性能を向とさせるには、Ｆａ気ヘッドのスライダ
のＷＩ動性を高めることが重要である。

更に、スライダの表面が平坦で気孔が存在しないこと、
耐摩耗性の良いとと等が必要である。

また、磁気ヘッドは上に述べた如く、磁気ディスクと接
触摺動するときに、摩擦帯電する。この帯電量が過度に
大きくなると、ＦＢ磁気トランスデユーサ信号巻線にノ
イズが発生したり、磁気ヘッドの浮上量が変わったりす
る恐れがある。そこで、摩擦帯電のできるだけ生じない
材料で磁気ヘッドのスライダを構成することが望ましい
。

更に、磁気ヘッドのスライダは、例えばＵＳＰ１２５１
８４１、特開昭５５−１６３６６５号に示されている様
に、一般に極めて複雑な構造をしているのであるが、こ
のような複雑な構造の磁気ヘッドを生産性良く作るには
、スライダ構成材が、機械加工性に優れることが必要で
ある。即ち、加工時の切削抵抗の少ないことや、切断ブ
レード等への目づまりのないことが要求されるのである
。また、加工時は、加工部分から結晶粒が脱落するので
あるが、この脱落部分ができるだけ小さいことが望まし
い、そのためには、スライダを構成している材料の結晶
粒が小さいことが望ましい。

を述の帛項をまとめると、磁気ヘッドのスライダの構成
材には、一般に、 ■　摺動性に優れること、 ■　耐摩耗性に優れること、 ■　摩擦帯電し難いこと。

■　機械加工性が良好であること。

Ｉ［株］　結＆粒が小さいこと。

が要請される。

このような要請特性を満たすべく提案されたものとして
、＃開開５５−１６３６６５号公報に開示のものがある
。同号公報のスライダは、ＡｌｔｏｓとＴｉＣとの混合
物で作られたものであり、Ａ文２０３とＴｉＣのｆｆｉ
景比は６０　：　４０から８０　：　２０の範囲にある
。同号公報にはＡ見２０３−ＴｉＣセラミックスは、加
工性が良好で複雑な形状のものを加工した際、クチツク
やチッピングを生じることがなく、また耐摩耗性にも擾
れる。と記載されている。

しかしながら、上記Ａ　ｉ２０３とＴ　ｉ　Ｃとからな
るスライダは、スライダの重要な性能であるＣ５Ｓ性、
＃に摺動特性に劣っている。またＡ　ｌ　２０　ｓは電
気絶縁性が高いので、電気抵抗を小さくして帯電性を下
げるためには、同号公報中でも述べられているように、
導電性のＴｉＣを多く含有させる必要がある。

ところが、ＴｉＣは高硬度であるところから、Ｔ　ｉ　
Ｃ含有量を多くすると摺動特性が悪くなる。

一方、このような磁気ヘッドの摺動性、耐摩耗性等の特
性は、摺接する相手方部材たる磁気ディスクの性質にも
大いに影響される筈である。

而して近年、磁化容易軸方向が磁気記録層と垂直である
垂直磁化膜としてＣｏ系磁気記録層が注目されているが
、垂直磁化方式の場合には、磁化方向が面内にある面内
磁化膜方式におけるよりも１ｍ気へ７ドノγ−に呈を小
さくし、磁気ヘッドとディスクとの間隔を小さくする必
要があり、特に優れた摺動特性、耐摩耗性等が要求され
ている。

このようなことから、磁気ヘッド等の材質の改良と同時
に、磁気ヘッドのスライダと磁気ディスクとの相性（マ
ツチング）についても技術的な検討を加える必要性があ
る。

従来、磁気ディスクとしてはアルミニウム基合金基板や
セラミック基板の上に下地層を介して磁性ｍｅを形成し
、更に必要に応じてその上に保護膜層を設けたものが用
いられている。そして記録密度の増大等のために種々の
研究が行なわれている。

しかるに１．Ｉ：述の磁気ヘッドとディスクとの相性に
ついては何ら検討がされていないのが実情であった。

［発明が解決しよとする問題点］叙上の如く、磁気ヘッドのスライダに要求される諸特性
を満すべく提案された特開昭５５−１６３ｓｓｓｑ公報
に開示されたものは、Ｃ５Ｓ性。

摺動特性に劣り、またｍ電性を低下させることが困難で
ある。

また従来の磁気へラド及び磁気ディスクにおいては１両
者の相性についての検討がなされていない。

このようなことから、従来の磁気記録装置においては、
摺動特性、耐摩耗性等の、基本的な要求特性を十二分に
は満していない。

［問題点を解決するための手段］上記問題点を解決するために１本発明は、基板の板面上
に磁気記録層を有する磁気ディスクと、スライダ及び該
スライダに取り付けられた磁気コアを有し、前記磁気デ
ィスクの表面に接離可能な磁気ヘッドと、を備えた磁気
記録装置において、前記磁気ディスクの磁気記録層はＣ
ｏ基合金からなり、前記磁気ヘッドのスライダは安定化
ジルコニアを主相とすることを特徴とするものである。

以下本発明の構成について詳説する。

本発明の磁気記録Ａ置のスライダは、ジルコニア（酸化
ジルコニウム）を主相とする。

ジルコニア相としては安定化ジルコニア相が用いられる
。安定化ジルコニア相は摺動特性に優れるので磁気ヘッ
ドのスライダ材料に適している。

ジルコニア相を安定化するには、Ｙ２Ｏ１、ＭｇＯ５Ｃ
ａＯ等の安定化剤を添加する。これらの安定化剤を□添
加しないジルコニアは高温（２４００℃以上）では立方
晶（Ｃ−相）であるが、温度を下げて２４００℃〜約１
２００℃の範囲では正方晶（を−相）となり、常温（約
１２００℃以下）では単斜晶（ｍ−相）となる。

また、安定化剤の量が極めて少ない場合、ジルコニアは
常温ではｍ−相になるが、安定化剤の量を増加するとｔ
−相が常温で存在するようになり、更に安定化剤の量を
増やすと常温でもＣ−相で存在することになる。

そこで１本発明の磁気記録装置のスライダにおいては、
ジルコニア相には常温においても立方晶ジルコニアとし
て存在するだけの安定化剤を含有させる。Ｙ２０ｙの場
合、ジルコニア相のなかに５〜２０ｍｏｉ％含有され、
残部実質的にＺ　ｒ　Ｏ２であることが望ましい、しか
し、ＭｇＯやＣａＯも同時に含有されても問題はない。

このような安定化剤が過剰に含まれた場合、立方晶ジル
コニアのなかにＹ４ＺｒｉＯｏのようなＺｒ０２−Ｙ２
Ｏ２の化合物が析出して、摺動性の劣化１強度の低下を
招く、そこで２０ｍｏλ％以上のＹ　２０　Ｊを含有す
ることは望ましくない。

安定化剤が少なくなると上に述べたように、Ｌ−相やｍ
−相も生じてくるが常温でｍ−相が生じると、その際体
積膨張を伴なう、スライダへの膜付け、パターン付けの
際の数百℃までの加熱や冷却に起因してｍ−相が生じ、
スライダ反りやパターンずれが生じるおそれがある。そ
こで、安定化ジルコニアにするための安定化剤の下限値
は約５ｍｏ１％以上の値ででさるだけ少ないことがよく
、より適当な量は約５〜約１０ｍｏ１％である。

本発明の磁気記録装置のスライダにおいては。

安定化ジルコニアの主相の結品粒径は１２ｐｍ以下であ
ることが望ましい、より望ましくは、ｌＯｐｍ以下であ
る。立方晶ジルコニアの結品粒径は通常的１５ｐｍであ
るが、１２ｇｍ以下にすることによって機械加工性が向
上し、チッピングの太ささも小さくすることができる。

ジルコニア主相中に、周期律表ｒＶａ、Ｖａ。

ｖＩａの元素の炭化物及びアルミナ（酸化アルミニウム
）よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物（炭
化物又は酸化物）の微粒子を分散させることにより、ジ
ルコニア相の結晶粒の成長を抑ル１し、ジルコニア相の
結晶粒を微細化することかでさる。

周期律表ｒＶａ、Ｖａ、■ａの元素の炭化物としては、
Ｔｉｃ、ＺｒＣ，ＨｆＣ，ＶＣ，ＮｂＣ１ＴａＣ，ＷＣ
などが挙げられ、このうちでもＴ　ｉ　Ｃが好ましい。

上記炭化物は１種類だけ用いても良く、２種類具りを併
用しても良い、また炭化物のかわりにアルミナだけを用
いても良く、アルミナと上記炭化物のうちのｌＪ４又は
２種以上とを併用するようにしても良い。

不純物として通常許容される程度のＳｉＯ２゜Ｆ　ｅ　
２０３は含有することができるが、Ｆｅ２Ｏ３の州はＯ
，１ｖｒｔ％以下にすることが望ましい。

Ｓ　皇０２の雀は５ｗｔ％までは問題にならない。

通常はジルコニア相に固溶されていると考えられている
Ｙ２０３　、Ｃａｏ、ＭｇＯなどが部分的に析出してき
て、分散粒子となり、あるいは、添加したＴｉＣやＡ１
２０ｔなどと結合あるいは反応した微粒子としてジルコ
ニア相中に分散されることもあるが、これはほとんど問
題とはならない。

アルミナと上記炭化物は、上述のように、ジルコニア相
中に分散して、結晶粒の粗大化するのを防ぐが、同時に
高硬度であるのでジルコニアセラミックスを切削する際
に、これらの粒子がドレッシングの役割をして、ダイヤ
モンド等のカッティングブレードの目づまりを防止し、
切削性を向上させる。また、高硬度であるので、スライ
ダの耐ｆｆ耗性を高める。

上記炭化物微粒子とアルミナ微粒子との添加量について
は、炭化物微粒子０．５〜３０ｖｏ文％、アルミナ微粒
子０．５〜３０ｖｏ見％であり、とりわけ炭化物微粒子
ｌ〜１Ｏｖｏ又％。

アルミナ微粒子１−１０ｖｏｕ％が好ましい。

これらの添加量が０．５ｖｏｕ％未満であると、結晶粒
を微細化させる効果、あるいは、切削性を向上させる効
果が小さい、また、３０ｖｏ見％を超えると、スライダ表面の平坦性を悪化
させ、摺動性が低下する。

更に、本発明の磁気記録装置に使用されるスライダの相
対密度（理論密度と比して）は９９％以上であることが
望ましい、このように高い密度とし、ボアを少なくする
ことにより、摺動性の優れたものとなる。

未発明の磁気記録装置のスライダに使用されるジルコニ
アセラミックスを製造するには、Ｚ　ｒ　Ｏ２微粒子、
Ｙ２０：１等の安定化剤の粉末、ｌＶａ、Ｖａ、ＶＴａ
族の元素の炭化物（例えば、ＴｉＣ，ＺｒＣ，ＨｆＣ，
ＶＣ，ＮｂＣ。

ＴａＣ，ＷＣ）微粉末、Ａｕ２０１微粉末を所定の割合
で配合し、十分混合し、これを乾燥させ、少ＶＩ′ｆ、
のバインダーを加えて造粒する。この造粒粉を、得るべ
き形状のキャビティを持ったプレス機で成形体に予備成
型する。この成形体を真空中で１４００〜１６００℃の
温度でホットプレスして焼結体とし、ジルコニアセラミ
ックスを得る。

このホットプレスを行なう時の温度は得られるジルコニ
アセラミックスの性能を左右する。

１４００℃以上の温度は相対密度を９９％にするために
必要である。しかし、１６００℃以上にすると安定化ジ
ルコニアの結晶粒の粒成長が著しくなるので１６００″
Ｃ以下でホットプレスすることが望ましい。

ホットプレスで得たジルコニアセラミックスは磁気へラ
ドスライダの形状にダイヤモンドブレードで切断し、グ
ラインダ等で仕上加工をする。

スライダの形状になったものに磁気コア、信号コイル、
絶縁膜を付けて磁気ヘッドとする。この絶縁膜としては
数１０μｍ　ｒｉさにスパック−で付けたＡ見２０３等
が使用される。

本発明の実施にあたり、磁気トランスデユーサとしてｊ
ｌｉ　％！　ｌｉａ性材料で作られた磁気コアを用いる
ことができ、絶縁性ＳＳを磁気コアと非磁性基板の両方
の上に共通して付着し、あるいは、非磁性基板と磁気コ
ア間に付着させることもできる。

薄膜コア材としては、次のようなものが好適である。

■　Ｃｏ　８？ａｔｌ　−Ｚ　ｒ　　５ａｔ、＄　−Ｎ
　ｂ　　８ａｔ＄■　Ｃｏ　８４ａｔｌ　−Ｗ　　８ａ
ｔ、＄　＝　Ｚ　ｒ　１Ｑａｔ、＄（う）　　Ｃｏ　８
０ａｔ、Ｚ−Ｎ　ｉ　１Ｏａｔ、Ｘ　−Ｚ　ｒ　ＩＱａ
ｔ、罵■　Ｃｏ　１１７ａｔ、＄　−Ｚ　ｒ　１Ｑａｔ
ｌ　−Ｂ　　３ａｔ、ＺＬＩ　　Ｃｏ８３ａｔ、＄−Ｚ
　ｒ　　８ａｔ、＄−Ｍｏ　　９ａｔ、＄＠５１８ｗｔ
、！−Ｆｅ９２ｗｔｉ−Ｒｕ２ｗｔ、！■　パーマロイ・■　センダストなお■〜■はアモルファスであり、■〜（Φは結晶質で
ある。

本発明に係る磁気ディスクは、基板上に下地層、磁性膜
層及び必要に応じ保、４１第１層が形成されてなる。

基板の材質としてはアルミニウム基合金、アルミナ・ジ
ルコニア系セラミック等が用いられる。

アルミニウム基合金基板としては、アルミニウムを主成
分とし、これにその他の金属元素を加えて強度、剛性、
耐食性等の特性のうちｌ又は２以上の特性を改良するよ
うにしたものが好適に用いられ、例えばマグネシウムを
数重量％以下、例えＩｆ　３〜４重量％含むものが用い
られる。なおシリコンは、二醜化珪素として析出し易い
ので、不純物のシリコン含有量の小さいものが好ましい
。

アルミナ・ジルコニア系セラミ−２り基板としては１例
えばジルコニア含有率が３０モル％以下。

１ｊ、部アルミナ及びジルコニアの安定化剤（例えばイ
ツトリア、マグネシア、カルシア等）なる組成のものが
用いられる。

下地層としては、アルミニウム基合金基板の場合、アル
マイト膜やニッケルーリン無電解メッキ膜が用いられる
。（その厚さは１例えば数ｐＬｍｆｊ！度とされる。）アルミナ・ジルコニア系セラミック基板の場合は、Ｔｉ
、Ｃｒ等の下地層が、スパッタリング。

イオンブレーティング等の気相Ｔ＃着法により形成され
る。（その厚さは、例えば、１１００オングストローム
から数ＩＬｍ程度とされる。）下地層の上に形成される
磁性膜層は、Ｃｏ系のものである０例えば、磁化容易軸
が磁性膜層と垂直方向にある、従来公知の、Ｃｏ−Ｃｒ
系、Ｃ。

−Ｖ系のもの、あるいは面内磁気記録用Ｃｏ−Ｎｉ系の
もの、あるいは特開昭５７−７２３０７号にて開示され
たコバルト地中又はコバルト−ニッケル地中にコバルト
の窒化物又はコバルト及びニッケルの窒化物を析出させ
たもの等が採用できる。また本出願人より出願された、
特願昭５９−７８２３に係る窒素ｌ原子％以下、ニッケ
ル３５原子％以下、残部コバルトの組成を有し、磁化容
易軸が磁性膜層面内にあるものも好適である。

このような磁性膜層はスパッタリング、イオンブレーテ
ィング等の気１ａ蒸着法により容易に形成される。

本発明の磁気記録装置においては、この磁性膜層上に更
に、炭素、ポリイミド、シリカ（Ｓ’１０ｚ）、過フッ
化ポリアルキルポリエーテル、ステアリン酸リチウム、
ステアリン酸亜鉛等の保；１ｊ１第１を形成しても良い
。

〔作用ｊ磁気へラドのスライダを構成する安定化ジルコニア相は
、それ自体摺動性が高い。

そして、磁気ディスクのＣｏ基の磁気記録層と安定化ジ
ルコニア相を主相とするスライダとの相性が良く、摺動
特性、耐ａ！耗性が著しく高いものとなる。

［実施例］以下実施例について説明する。

実施例１（Ｃ５Ｓ試験）まず下記の基板、下地層、磁気記録層及び保護膜からな
る基板を用意した。

■基板材質二次の２種類ａ、フルミナ・ジルコニア系セラミック基板（組成：ア
ルミナ８０モル％、ジルコニア１８．２モル％、イツト
リア１．８モル％）ｂ、アルミニウム合金基板（組成：マグネシウム４重量％、残部アルミニウム）基板の大きさ一外径Ｌ３Ｑｍｍ、内径４０ｔｓ＋厚さ２
Ｉ■下地層及び磁気記録層二次の４種類水アルミナ拳ジルコニア系セラミック基板の場合ａ、基
板側から順次に、Ｔｉ層（厚さ５００オンストローム）
、Ｆｅ−８ＯＮｉ層（厚さ５０００オングストローム）
、Ｇｏ−Ｃｒ層（厚さ３０００オングストローム）ｂ５基板側から順次に、Ｃｒ層（厚さ２ｐｍ）。

ＧＯ−Ｎｉ層（厚さ８００オングストローム）本アルミ
ニウム合金基盤の場合ａ、基板側から順次に、Ｎ１−Ｐ暦（厚さ２０鉢ｍ）　
、　　Ｆ　ｅ　−８ＯＮ　ｉＰ！１（厚さ５０００オン
グストローム）、（ｏ−Ｃｒ層（厚さ３０００オングス
トローム）ｂ、基板側から順次に、Ｎ１−Ｐ層（厚さ２ルｍ）、Ｃ
ｒ層（厚さ２ｐｍ）、Ｃｏ−Ｎｉ層（厚さ８００オング
ストローム）なおｃｏ−Ｃｒ層はＣｒを２０原子％含み。

残部Ｃｏである。Ｃｏ−Ｎｉ層はＮＩを２５原子％含み
残部Ｃｏである。

Ｎ１−Ｐは、ニッケルーリン無電解メッキ層であり、ｐ
Ｈ０原子％含み、残部Ｎｉである。

（■保護膜］次の３１７４類ａ、炭素：厚さ２００オングストロームｂ、過フッ化ポ
リアルキルポリエーテル：厚さ５０オングストロームＣ，ステアリン酸リチウム：厚さ２００オングストロームまた次の材質のスライダにｇｊ膜へラドコアを取り付け
た磁気ヘー、ドを製作した。

ＩΦスライダ材ｊｊ＝次の３種類ａ、ジルコニア系（組成：ジルコニ７９４モル、％、イ
ツトリア６モル％）ｂ、ジルコニア・アルミナ系（！ｌｌ成：ジルコニ７８
７モル％、イツトリア８モル％、アルミナ５モル９６）Ｃ，ジルコニア１１アルミナ・炭化チタン系（組成：ジ
ルコニ７８３モル％、イツトリア７モル％、アルミナ５
モル％、炭化チタン５モル％）なお第１ｒ１４（ａ）にスライダの形状１寸法（単位ｍ
ｍ）及びヘッドコア取り付は部位を示す、また第１図（
ｂ）はヘッドコアの拡大斜視図である。

図示の如くスライダｌは長方形状の板状体であって、摺
動面（図において上面）の両側辺部に沿って凸条２，３
が設けられている。またスライダ１の後端面はスライダ
幅方向に延びる凹部６が設けられている。

そして凸条３の進行方向後端側にコイル５が巻き付けら
れたＰＩ膜へラドコア４が該凹部６を横断するように取
り付けられている。

ヘンドコア４は、第１図（ｂ）の０部の拡大図である第
１図（Ｃ）にも示すように、１対のＭｎ−Ｚｎフェライ
ト製の本体７、該本体７の対向面に形成された磁性膜８
、磁性膜８同士の間に介挿されたガラス９から成り、磁
性ｌ１ｇ８．８の間にギャップ１０が形成されている。

この磁気ヘットと前記の各種の磁気ディスクとのＣ５Ｓ
耐久性を試験した。ディスクの停止→起動→停止→・・
・・・・のタイムスケンユールをｗＳｚ図に示す、なお
、ディスクの回転数が３６０Ｏｒｐｍのとき、ヘッドの
流出端浮上量は０．３５ｐｍであった。

媒体からの出力が１０％低下したときをもって寿命とし
た。

結果を第１表に示す。

実施例２（球面摺動試験）実施例１でスライダに用いたものと同じ材質のジルコニ
ア系セラミ７りで曲率半径３０ｍｍの半球体を製作した
。この半球体を荷重２０ｇで上記磁気ディスク表面に接
触させ、３６０ｒｐｍで磁気ディスクを回転した０球体
接触部における回転速度は約２ｍ／ｓｅｃとした。媒体
からの出力が１０％低下したときをもって寿命とした。

なお、ヘッド劣化分の補正は標準ディスクと比較して行
なった。

その結果を第り表に示す。

比較例スライダ材質及び球体の材質を公知のアルミナ・炭化チ
タン系セラミック（組成：炭化チタン３０重量％、残部
アルミナ）としたこと以外は実施ｇ４１．２と同様にし
てＣ５Ｓ試験及び球面摺動試験を行なった。結果を第１
表に示す。

第１表より、実施例に係るものは比較例のものよりも、
Ｃ５５ｇ性及び球面摺動特性において格段に優れること
が認められる。特にディスク基板としてはアルミナ・ジ
ルコニア系セラミック基板が優れる。

なお第１表中略記号は次の内容を示す。

Ｚ……ジルコニア系ＺＡ・・・・・・ジルコニア・アルミナ系ＺＡＴ・・・
ジルコニア・アルミナ・炭化チタン系Ｋ・・・・・・過
フフ化ポリアルキルポリエーテルＣ・・・・・・炭素ステ・・・・・・ステアリン酸リチウムＡ文・・・・・
・アルミニウム合金基板ＡＺ・・・アルミナ・ジルコニ
ア系セラミック基板Ｃ５Ｓ試験における評価は次の通り
である。

３０万回以上　　　　Ａ３０−１０万＠　　　Ｂ１０〜５万回　　　　Ｃ５〜３万回　　　　　Ｄ３〜２万回　　　　　Ｅ２万回以下　　　　　Ｆ球面摺動試験における評価は次の通りである。

３００万回以上　　　Ａ３００〜１００万回　Ｂ１００〜３０万回　　Ｃ３０万回以下　　　　Ｄ！ｌ１表（１）第１表（２）〔効果］以上詳述した通り、安定化ジルコニア系セラミックを主
相とするスライダを有する磁気ヘッドと、Ｃｏ合金系磁
気記録暦を有する磁気ディスクとは、極めて相性が良く
、摺動特性、−摩耗性に優れる。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例における試験に供したスライダを示す図
、第２図はＣ５Ｓ試験のタイムスケジュールである。１１・スライダ、４・・・磁気へラドコア。第１図（ｂ）手続補正書昭和５９年１２月２７日１　ｓ件の表示昭和５９年　特許願　第１９７２０８号２　発明の名称磁気記録装置３　補正をする者事件との関係　　特許出願人名　称　　　（５０８）日立金属株式会社４　代理人住　　所　　東京都港区赤坂４丁目８番１９号〒１０７
　　赤坂表町ビル５０２号６　補正の対象明細書の発明の詳細な説明の欄及び図面。７　補正の内容（１）　　明細書第４頁最下行に「引きづられる」とあ
るのを「引きずられる」と訂正する。（２）　明細書第２０頁第１９行に「基盤」とあるのを
ｒ基板Ｊと訂正する。（３）　図面の第１図（Ｃ）を別紙のものに改める。以　　上（Ｃ）手続補正書昭和６０年８月１２日昭和５９年特許願第１９７２０８号２　発明の名称磁気記録装置３　補正をする者事件との関係　　特許出願人。名　称　　（５０８）日立金属株式会社４　代理人住　　所　　東京都港区赤坂４丁目８番１９号〒１０７
　　赤坂表町ビル５０２号自　　　発６　補正の対象７　補正の内容（１）　　明細書第１７頁第１行と第２行との間に次の
文章を挿入する。「　また、アモルファス薄膜コア材としては、Ｃｏ−Ｔ
ａ−Ｚｒ材（例えばＴ　ａ　：　１０ａｔ、＄、Ｚ　ｒ
　：　５ａｔ、Ｌ残部Ｃｏ）やＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ−Ｈｆ
材（例えばＮ　ｂ　：　１２ａｔ１．　Ｚ　ｒ　：　３
〜４ａｔ１．　Ｈｆ　：　０　、５〜２ａｔｌ、残部Ｃ
ｏ）、またこれらに少量のＢ（０，１〜２　ａｔ、＄）
を添加したものが使用でき、結晶質薄膜コア材としては
スーパーセンダスト（Ａ　ｌ　：　４ｗｔ、Ｌ　Ｎ　ｉ
　：　３　ｗｔ、％、Ｓ　ｉ　：　６ｗｔ、＄、残部Ｆ
ｅ）等も同様に好適である。」（２）　　同第１９頁第１〜２行の「好適である。」ノ
次に「また、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐｔ系（Ｎｉ：Ｏ〜３５ａｔ
、駕、Ｐ　ｔ　：　５〜２０　ａｔ、＄、残部Ｃｏ）、
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系（Ｃｒ：５〜１５ａｔ、Ｌ　Ｐ　ｔ
　：　Ｏ〜１５　ａｔ、＄、残部Ｃｏ）など磁化容易軸
が磁性膜層面内にあるものも好適である。」を挿入する
。以　　上

Claims

【特許請求の範囲】

（１）基板の板面上に磁気記録層を有する磁気ディスク
と、スライダ及び該スライダに取り付けられた磁気コア
を有し、前記磁気ディスクの表面に接離可能な磁気ヘッ
ドと、を備えた磁気記録装置において、前記磁気ディスクの磁気記録層はＣｏ基合金からなり、
前記磁気ヘッドのスライダは安定化ジルコニアを主相と
することを特徴とする磁気記録装置。
（２）前記磁気記録層は、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｖ合
金又はＣｏ−Ｎｉ合金からなることを特徴とする特許請
求の範囲第１項に記載の磁気記録装置。
（３）Ｃｏ−Ｃｒ合金は、Ｃｒを１８〜２２原子％含み
残部Ｃｏであり、Ｃｏ−Ｎｉ合金はＮｉを１０〜３５原
子％含み残部Ｃｏであることを特徴とする特許請求の範
囲第２項に記載の磁気記録装置。
（４）前記磁気ディスクの基板は、アルミニウム合金基
板又はアルミナとジルコニアとを主相とするセラミック
基板であることを特徴とする特許請求の範囲第１項ない
し第３項のいずれか１項に記載の磁気記録装置。
（５）前記基板と磁気記録層との間に、基板と磁気記録
層との接合性を高める下地層を形成したことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれか１項に
記載の磁気記録装置。
（６）前記磁気記録層の表面に磁気記録層の保護膜を形
成したことを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第
５項のいずれか１項に記載の磁気記録装置。
（７）スライダの安定化ジルコニア相中に、周期律表I
Vａ、Ｖａ、VIａ族の元素の炭化物及びアルミナよりな
る群から選ばれた少なくとも１種の化合物の微粒子を分
散させたことを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし
第６項のいずれか１項に記載の磁気記録装置。
（８）安定化ジルコニア相は主として立方晶であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第７項のいず
れか１項に記載の磁気記録装置。