JPS6226917A - 薄膜磁気ヘツド及びその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の技術分野］ 本発明は薄膜磁気ヘッド及びその製法に関するものであ
る。

［発明の技術的背観とぞの問題点］ 従来の薄膜磁気ヘッドはイ１４図に示覆様に、例えば磁
・［４阜根１上にギＶツＪ部２、磁性層３及び保護層４
を積層し、図示左側を因動面として磁気記録及び再生を
行なうようになっていた。

しかしながらこのような構ｊｂの従来の薄膜磁気ヘッド
では磁・［！［層３が成る厚み士を有覆る単層構造とな
っている関係で、高周波領域におＣ−）る渦電流損失が
生じ、このため出力か大幅に低下してしまうという問題
か牛していた、。

［発明の目的］ 本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、高周波
領域における渦電流損失の発生を防１トして、効率良く
出力を１ｑることのできる薄膜磁気ヘッドとぞの製法を
提供することを目的どするものでおる。

［発明の釦［ 前記目的を達成するための第１の発明は、磁１４層を非
１ｉｆ４体からなる中間層を挾んで積層した構造の薄膜
磁気ヘッドを得ることであり、第２の発明はぞの製）前
方法である。。

［弁明の実施例］ 第１図（５１本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一例を示す
要部構造断面図て゛あり、第２図（ａ）乃至（ｅ）ｉＪ
、本発明の薄膜磁気ヘットの製法を説明−りるための製
）青丁程概略断面図である。

先ず第１層を用いて本発明）１９膜磁気ヘツドの構造を
説明する。これは、例えば所定の厚みを？］するフ丁ラ
イｉ〜からｆ戊る仔１［４基（及１−ト１こ１列えは゛
（）。

１１１〜１７１の幅を右覆るキャップ部２を介して例え
ばセンゲス１〜．パーンＦ１イ、］パル１〜系アモルノ
ｊ・スのいψれかから成る磁性層３か８堪フられ、該磁
・１ノ１層３トに（。１：Ａｊ！２０３などから成る保
再層４か形成され−（Ａ３す、上記磁・１ノ１層３は摺
動面（図示）１側）から距前１ご（Ｊ奥側に引込／しだ
位置△から深さｈ向（図示右方向）（こ向う部分におい
て枚数の非磁・ビ１絶縁体から４１６中間層５５を介し
て積層された椙造ど４１つている。

次に第２図（ａ）乃￥＜ｅ＞を参照して前記薄膜磁気ヘ
ッドの製造１ノ法の一例を説明でろ。

先ず、例えばフ１ライ１〜から成る所定の厚みをイ１り
るしｋ・１ノ１ζ（仮１を用意し、そのｌ−（こ４”Ｘ
・ツー１部を形成りへき層２を所定の即〃（例えば０．
１ｆ、ｚ〜１／］）Ｃ形成する（第２図（ａ）参照）。

その後、Ｐングス１〜．パーマ「１イ、」パル１〜系）
ノー［ルノｊ・スのいり−れかから成る第１の１１１　
′＋４層こ３ａを蒸着、スパッタ、イオンビームあるい
はメッキ等のｊｊ法を用いて所定の厚み（例えは５００
＾〜１０μの範囲〉て形成すろ（第２図は））参照）イ
して、非磁・ｌ’ｌ絶縁材オ′：！どじての△Ｒ２（ｈ
。

５ｉ０２．ＳｉＣ，Ｓｉ３Ｎ４のいずれかをｊ双択して
、スパッタ、（八／［）法、フイΔンピーム法、電了ビ
ーム然ン１等により所定の厚み（例えば３０Ｉ！ｌｌへ
−５０００への範囲）の第１の中間層５ａを形成りる（
第２図（Ｃ）参照）。

次に、前記Ｔ稈で形成された第１の中間層５ａの一端か
ら距離ｐだけ内方に引込んだ１１′ｌ置迄を、フＡ１・
−■−ツ“Ｔング又はケミカル十ツ′１ング等の技法を
用いＣ除去力る（第２図（（１）参照）。。

しかる後、再び前記同様にしてイ）２の磁′１４層３ｂ
を形成するが、この第２の磁性層３ｂｌＪ、、前記中間
層５ａの除去されている端部△迄の範囲（−゛は直接光
の（６・１ノ１層３ａに連結され、他の部分ては中間層
５ａによって分割された如ぎ構造となる。

（第２図（ｅ）参照）。

しかる後、再び「第２の中間層５ｂを形成し、ぞの一部
を除去し、そしてその次の磁性層を積層し」の如く前記
同様の工程を繰り返すことにＪ−２って第１図の」＝う
４１博映磁気ヘツドを得る。

尚、この実施例では磁・Ｃ４を層３の全体の１ψみｔは
１〜５０μｎ］の範囲としでいる。叉、中間層５の数は
多くＪ−る程それを設けることにＪ−る効果は大きいが
、実際の製造１−は１〜１０１閑が好ましい。

又、連結部分の長さではできるたり短くする方が良いか
、ヘットの摺動面の摩耗を考慮してギャップ部２の深さ
ｄとの関係か次式の条件を渦犀覆るＪ、うに設定ηるこ
とが好ましい。

Ａ／ｄ＝０．０１〜（）、８ ここ−Ｃ１第３図示の具体例を用いて本発明の有用・１
ノ１を説明する。図（Ｊ、本発明に係る３層構成の磁・
１）１層と中層（ト１成であるイに一来例の磁・ｌ’１
層との周波数−透過率相関グラフを承りか、図中曲線へ
で表わされる木ｒｔ明の３層磁′１４層（Ｊｌ、ぞれぞ
れＬ！さ１（ＪｔｌのＣｏ・７１’・Ｎｂ系アモルファ
スシリ］ンより成る３層の部分磁性層と１９ざ５）００
＾の５ｉ０２で形成された２つの中間層とから構成され
、曲線１３で表わされる従来例の単層磁・円層は、Ｎさ
３０μのＣｏ・／［゛・ＮＦ′）糸アモルファスシリ」
ンから構成されているもので゛ある。

この図からも判るように、本発明に係る３層構成の磁・
１ノ１層は、高周波領域での渦電流損失が従来例のそれ
にりも箸しく敗色されたものとなつ−でいる。そのため
磁気ヘッドどしての性能も、高周波領域での特・１ノ１
改色か則侍されることになる。

［発明の効果」 以上のごとき薄膜磁気ヘッドであれば、磁゛１）１層は
非磁性体からなる中間層を介して積層されているので、
＾周波領域において使用した場合の渦電流の発生を防Ｉ
Ｉでき、したがって効率Ｉ」り出力を取り出１２６ａ柵
つ）（磁気ヘッドどぞの製法を提供する−　〇　− ことかできる。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ｊ１１本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一例を承
り要部錆′３ｈ断面図、第２図（ａ＞凸金（ｅ）は本発
明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を１−稈順に示覆曹部断
曲図、第３図は本発明に係る磁′［）１層と従来例の磁
・１ノ１一層との・１４能比較図、第４図ｔａ従来の’
ＡＱ膜磁気ヘッドのＭＡ造造血面図ある。 １・・・磁・１４基板、２・・・キャップ部、３・・・
磁・１１層、４・・・保護層、；う・・・中間層。 ＝　７− Ｑ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上にギャップ部を介して磁性層が形成され、
   その上に保護層が形成された薄膜磁気ヘッドにおいて、
   前記磁性層は非磁性体から成る中間層を介して積層され
   ていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
2. （２）少なくとも、基板上にギャップ層を介して磁性層
   の一部を形成する工程、形成された一部の磁性層上に非
   磁性体からなる中間層を形成する工程、形成された該中
   間層の一部を除去する工程、該中間層上であつて前記除
   去された一部をも含めて次の一部の磁性層を形成する工
   程を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製法。