JPS5938922A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、ビデオテープレコーダなどに適し、特に、セ
ンダスト、アモルファス磁性体などの高飽和磁束密度の
磁性材料を用いた狭トラツク幅の磁気ヘッドに関する。

〔従来技術〕

従来から、ヘッドコアを構成する磁性材料としテ、フェ
ライトを用いた磁気記録再生ヘッドが実用化されている
。しかし、７エライト材は飽和磁束密度が高々５０００
がウス程度であるために、保磁力が５００〜６００エル
ステツド以」二の磁気記録テープを用いる場合、記録時
に磁気ヘッドが飽和して、良好な記録が困蹄となる。

また、センダスト等の磁性合金ヘッドは、飽和磁束密度
が大きいが、高周波特性と耐摩耗性がフェライトよりも
劣っている。

近年、非晶質磁性合金が磁気ヘッドのコア材に用いられ
るようになってきており、この非晶質磁性合金は、例え
は、コバル）　（Ｃｏ）−鉄（Ｆｅ）−シリコン（８１
）　−ボ覧ン（Ｂ）系、コバルト（Ｃｏ）−ジルコン（
Ｚｒ）系等において、その組成を選ぶことにより、高磁
束密度で耐摩耗性に優れ、さらに比抵抗が比較的大きく
て高周波特性の優れたものが得られる。しかし、非晶質
磁性合金は超急冷法のような製造原理上、板厚が数十μ
ｍ以下で幅が１〜２ｍｍのような制限を受けるだけでな
く、加工性が劣るため、所定のコア厚の磁気ヘッドを能
率的に歩留りよく製造することが困硫であった。

また、一般に磁気ヘッドのコア幅、すなわち、トラック
幅を切削研磨加工により量産的に±１μｍの精度で仕上
げるのは困難であった。

〔本発明の目的〕

本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き、高周波特
性および耐摩耗性に優れ、極めて高精度の狭トラツク幅
を有し、容易かつ量産的に歩留りよく製造することがで
きる磁気ヘッドを提供するにある。

〔本発明の概要〕

この目的を達成するために、本発明は、ヘッドギャップ
を含む磁路な形成する磁性体として磁性薄膜が形成され
た磁性薄板を用い、該磁性体を非磁性保持体にモールド
し、該磁性薄膜と該磁性薄板との合計の厚さが所定のト
ラック幅となるようにし、該磁性薄膜の厚さでもって該
トラック幅を精度よく得ることができるようにした点を
特徴とする。

〔本発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を図面について説明する。

第１図は本発明による磁気ヘッドの一実施例を示す斜視
因であって、１は磁性薄板、２は磁性薄膜、３は磁性体
、４は非磁性保持体、５は溝、６はへラドギャップ、７
は巻線窓、８は補強溝であるＯ 同図において、磁性薄板１と磁性薄膜２とは一体となっ
て磁性体３を形成し、磁性体３は非磁性保持体４のｉＮ
５の中に挿入されて、ガラスなどの非磁性体によりモー
ルドされている。磁性体と非磁性保持体との一表面（図
中上面）からなるテープ摺動面にはへラドギャップ６が
設けられている。

ヘッドギャップ６は、磁性体３が溝５中に挿入、固定さ
れた非磁性保持体４のブロックＡ、Ｂを突き合わせるこ
とにより、夫々の磁性体３が突き合わされて形成される
。さらに、巻線（図示せず）を施こす巻線窓７と補強溝
８とが設けられ、巻線窓７の内面にガラス接着材を付着
させ、また、補強溝８に同じくガラス接着材を充填して
ブロックＡ、Ｂの接着を補強している。なお、Ｈｃはヘ
ッドコアの）シさ、Ｈｌはヘッドコアの高さ、Ｈｙ７は
へラドコアの幅を表わしている。

磁性薄板１、磁性薄膜２は、非晶質両性合金あるいはセ
ンダスタなどの磁性合金であって、高飽和磁束密度を有
する磁性材料からなり、これらの合計の厚さＷｔがトラ
ック幅となる。（゛’Ｈ性１′・すｊｉｉ４２ｊまｍ　
性Ｐｌ’Ｊ　１７１１上にスパッタリングなどにより被
ｔｈ’ｉされたものであり、磁性薄膜２の膜厚を規制す
ることにより、所定の狭トラツク幅Ｗｉが得られる。

磁性薄板１は、急冷法などにより作成すると、板厚が１
〜２μｍの精度で７４１られ、しかるしく−１磁性薄膜
２の膜厚と相まってトラック幅Ｗｔが所定の値に高精度
で設定される。

上記のように、磁性薄板１は急冷法により板厚を精度よ
く製造され得るものであるから、Ｗ２磁ｆ！−薄板ｌの
板厚が所望のトラ、ツク幅Ｗｔとし得る場合には、ルに
磁性薄板１のみでもって非磁性保持体３の潜４内に挿入
、固定される磁性体３とすることもできる。

磁性体３け両側から非磁性保持体４により挟持されてお
り、このために、テープ摺動面は磁性体３０面とその両
側の非磁性保持体４０面とからなり、非磁性保持体４を
耐摩耗性の良好な材料でもつで形成することにより、磁
性体３の耐摩耗性が向上することＫなる。

この実施例では、磁性体３の部さを一様Ｋ　しているか
、本発明による磁気ヘッドの他の実施例としては、ヘッ
ドギャップ６の近傍のみ磁性体３の厚さをトラック幅Ｗ
ｊに等しくシ、ヘッドギャップ６の近傍以外の部分では
、さらに磁性薄膜＼２によりトラック幅Ｗｔ以上の厚さ
とすることができ、このことにより再生効率をさらに向
上させることができる。

また、磁性体３を金桐磁性材料でもって形成する場合に
は、高周波で渦電流損失か増大して透磁率が低下し７、
高−波での再生効率が劣化する。これを防止するためＫ
　Ｇ；ｉ　、磁性薄板１上に磁性薄膜とＳｉｎ、などの
電気絶縁層とを交互に積層する。

この果合の磁性薄膜の膜厚は、磁性薄膜がセンダストの
場合には数μｍ以下、非晶質磁性合金の場合には、ｌＯ
μｍ程度以下とするのが望ましい。

この結果、磁性体３の電気抵抗が増加して高同波での渦
電流損失が大幅に低下することになる。

第２図（α）ないしくｆ）は第１図の磁気ヘッドの製造
方法の一具体例を示す工程図であって、９は非磁性体ブ
ロック、１０は溝、１１はガラス接着材、１２は分割ブ
ロック、１３．１４は溝、１５はヘッドブロック、１６
はガラス接着材、１７はヘッドチップであり、第１図に
対応する部分には同一符号をつけている。

急冷法により作成された、あるいは、平行度及び平担度
良く切りだされた高飽和磁束密度材料からなる磁性薄板
１に、高飽和磁束密度材料をスパッタ等により被着して
磁性膜２を形成し１磁性体３を得る（同図（ａ））。

磁性薄板ｌと磁性膜２とからなる複合磁性体３の板厚Ｗ
ｔはトラック幅に等しくする。

一方、耐摩耗性に優れた非磁性体ブロック９に辺Ｃと平
行に幅”ｂｓ　　深さＤの溝１０を、ヘッドコアの厚さ
ＨＣ（第１図）より広い間隔Ｗで、複数本形成する（第
２図（ｂ））。溝幅Ｗｂは１溝１０内に挿入される磁性
体３の板厚Ｗｔよりわずかに幅広に形成し、深さＤは完
成時のヘッドチップの巻線窓７（第１図）の下方に達す
る位置まで切り込む。

次に、溝入された非磁性体ブロック９の６溝１０に磁性
体３を挿入し、第１のガラス接着材１１をモールドして
磁性体３を非磁性ブロック９と一体化する（第２図（Ｃ
））。この時磁性体３に非晶質磁性合金を使用する場合
、その結晶化温度の５０℃以下でガラスモールドするこ
とが望ましい。このガラスモールドされたプルツクを、
完成時のヘッドチップの高さＨｔ（＃Ｉ１図）より少し
大きめの高さｔで非磁性体プルツク９の底面りと平行な
鎖線Ｅで示す面で切断する。さらに完成時のヘッドチッ
プのコア輻ＨＷ（１１１１１図）の半分よりわずかに大
きな幅Ｗで非磁性体ブロック９０側面Ｆと平行な鎖線Ｇ
で示す面で、トラック幅を形成する部位を切断して分割
ブロック１２を形成する（第２図（ｄ））。隣り合わせ
の分割ブロック１２の相対向する側面Ｈ及びＪは、磁性
薄板３間のピッチＰが酷似する。従って、側面Ｈ，Ｊを
研摩し、完成時のヘッドチップブロックＡ、Ｂ　（第１
図）の幅１／２ＨＷとした後、巻線窓７、補強ｉ％ｉ８
を構成する溝１３．１４を加工しく第２図（ｅ））　、
ギャップ規制膜を８４０．等のスパッタリングにより形
成した後、再び合体して分割ブロック１５を得る（第２
図（ｆ））。

合体して得られた分割ブロック１５の補強溝８及び巻線
窓７に、磁性体３の固定に用いたガラス１１より低融点
のガラス１６を挿入し、一対の分割プルツクの合体を補
強する。

得られたヘッドブロック１５を、磁性体３に平行で磁性
体３を非磁性プルツク９の一部が挾むように、各磁性体
３毎に切断し、第１図に示す磁気ヘッドを得る。したが
って、１つのヘッドブロック１５からは、磁性体３の数
だけの複数の磁気ヘッドが得られる。

この製造方法において、磁性薄板１の厚さが所定のトラ
ック幅に等しく設定されるときには、第２図（α）の工
程で、当然損性薄板１上に磁性薄膜２を形成する必要が
ない。

先に述べたように、ヘッドギャップ近傍の磁性体の厚さ
をトラック幅に等しくシ、ヘッドギャップ近傍以外部の
部分をトラック幅より厚くするためには、第２図（α）
の工程において、第３図（（Ｌ’）　　、　　（ｂ）に
示すように、トラック幅に等しい厚さの磁性薄板１、ま
たは、磁性薄板１と磁性薄膜２とからなる磁性体３にレ
ジストパターン１８を形成しく同図（Ｇ））　、全体表
面にさらにセンダストなどの磁性薄膜を被着する。そし
て、レジストパターン１８を除去することにより、レジ
ストパターン１８が形成されていた部分１８′において
磁性薄膜２がへこんだ磁性体３が得られる（同図（ｂ）
）にの場合、再生効率を向上させるために、レジストパ
ターン１８は、完成時のへラドチップの巻線窓７　（第
１図）の下方に到らないようにすることが望ましい。

それ以降の工程は、第２図（ｂ）ないしくｆ）に示す工
程を経ることになるが、磁性体３のへこみ部分１８°（
第３図（ｂ））の部分でヘッドギャップが形成するよう
にすることは当然のことである。

第３図（１、（ｂ）の製造工程において、磁性薄板１０
両側に磁性薄膜を形成する場合ｒ（は１第４図（（Ｚ）
に示すように、磁性薄膜２．２°のヘッドギャップ６の
近傍に夫々同様の・＼こみ部分１ｇ、１８′を影我し、
ヘッドギャップ６の近傍でトラック幅を設定することが
できる。

また、磁性薄板１上に磁性薄膜２０と８ｉ０．などの電
気絶縁層１９とを交互に形成し、電気抵抗値を増加させ
た磁性体３を形成するようにすることもできる（＠４図
（ｂ））。このことにより、先に述べたように、渦電流
損失を小さくシ、高同波の再生効率が向上するＱとにな
る。

以上の製造方法の具体例から明らか７：ｃように、トラ
ック幅を設定するに際しては、精度を低下させる加工を
必要とせず、高精度のトラック幅の設定を可能とし、ま
た、厚みがトラック幅に精度よく設電された磁性体を、
非磁性ブロックの溝に挿入して一体化するものであるか
ら、工程の簡略化がはかれ、量産性１歩留り１作業ｆｉ
ｌ＜率が大幅に向上することになる。

〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明によれは、高同波特性、耐
摩耗性が優れ、トラック幅が高精度に設定され得、また
、量産性に適して歩留りが向上し、上記従来技術の欠点
を除いて優れた機能の磁気ヘッドを提供することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気ヘッドの一実施例を示す斜視
図、第２図（α）ないしくｆ）は第１図の磁気ヘッドの
製造方法の一興体例を示す工程図１第３図（α）、（ｂ
）は本発明による磁気ヘッドの他の実施例に対する製造
方法の一具体例を示す一部工程図、第４図（α）、（ｂ
）は本発明による磁気ヘッドのさらに他の実施例に対す
る製造方法の具体例を示す一部工程図である。 １・・・・・・磁性薄板、２・・・・・・磁性薄膜、３
・・・・・・磁性体−４・・・・・・非磁性保持体、５
・・・・・・溝、６・・・・・・ヘッドギャップ。 勝田市大字稲田１４１０番地株式会 社日立製作所東海工場内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 一対の磁性体を突き合わせてヘッドギヤラフ−を含む磁
   路を形成するようにした６ＰＬ勿１ヘツドにおいて、前
   記磁性体は磁性薄膜が形成された磁性薄板であって、前
   記磁性体を非磁性保持体に非磁性体によりモールドして
   なり、前記磁性薄膜と前記磁性薄板との合計の厚さが所
   定のトラック幅となるように構成したことを特徴とする
   磁気ヘッド。