JPH08102013A - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

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JPH08102013A
JPH08102013A JP23380294A JP23380294A JPH08102013A JP H08102013 A JPH08102013 A JP H08102013A JP 23380294 A JP23380294 A JP 23380294A JP 23380294 A JP23380294 A JP 23380294A JP H08102013 A JPH08102013 A JP H08102013A
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JP
Japan
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core
magnetic
film
magnetic head
thin film
Prior art date
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Application number
JP23380294A
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English (en)
Inventor
Hideji Orihara
秀治 折原
Original Assignee
Victor Co Of Japan Ltd
日本ビクター株式会社
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3109Details
    • G11B5/313Disposition of layers
    • G11B5/3143Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding
    • G11B5/3146Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers
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    • GPHYSICS
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    • G11B5/3109Details
    • G11B5/313Disposition of layers

Abstract

(57)【要約】 【目的】 渦電流損失が少なく、擬似ギャップのない周
波数特性の良好な薄膜磁気ヘッドを提供する。 【構成】 下コア2、前部中間コア4、後部中間コア5
及び上コア6で磁気回路を構成すると共に、前部中間コ
ア4と下コア2との間に磁気ギャップ8を形成し、更に
下コア2及び上コア6は、前部中間コア4と重なる部分
以外の部分を磁性層間に非磁性の絶縁層9を挟んだ複層
構造に形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録再生装置等に用
いられる薄膜磁気ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の薄膜磁気ヘッドとしては、図13
乃至図15に示すように、基板(図示せず)上に軟磁性
材料からなる下コア101を形成し、この下コア101
上に絶縁層102を形成すると共に、この絶縁層102
の前後に前部中間コア103及び後部中間コア104を
形成し、これらの絶縁層102、前部中間コア103及
び後部中間コア104上に上コア105を積層形成し、
さらに絶縁層102にコイル導体106を巻回して埋設
して、各コア101、103〜105で磁気回路を構成
すると共に、前部中間コア103と下コア101との間
に磁気ギャップ107を形成したものがある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の薄
膜磁気ヘッドにおいては、感度や記録能力を向上するた
めにコアの厚みを厚くし、 また磁気記録再生装置の高
密度化、高速化のために使用する周波数も数MHzから
数10MHzと高くしている。ところが、下コア、上コ
アに用いられるセンダスト、パーマロイ、アモルファス
磁性体等の軟磁性体の比抵抗は100Ω・cm程度と小さ
いために、コアの厚みを10μm以上にした場合に、数
MHz以上の信号になると、渦電流損失が大きくなって
磁気特性が低下し、高周波数での記録再生効率が極端に
低下するという不都合がある。
【0004】そこで、図16に示すように下コア101
を磁性層101a上に非磁性の絶縁層108を介して磁
性層101bを積層した複層構造とし、同様に上コア1
05を磁性層105a上に非磁性の絶縁層108を介し
て磁性層105bを積層した複層構造とすることによっ
て、渦電流損失を減少させる方法が考えられる。
【0005】しかし、上下コアをこのような構造にした
場合、磁気ヘッドの媒体に接触する面の各コアの絶縁層
が擬似ギャップとなり、この擬似ギャップは図17に示
すように再生周波数特性にピークやディップとして現
れ、高密度記録の妨げとなるという問題が生じる。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め請求項1の発明は、上下コアと、これら上下コアの間
に設けた前部中間コア及び後部中間コアとで磁気回路を
構成すると共に、前記前部中間コアと上コア又は下コア
との間に磁気ギャップを形成した薄膜磁気ヘッドにおい
て、前記上コア又は/及び下コアは前記前部中間コアと
重なる部分以外の部分を磁性層間に非磁性の絶縁層を挟
んでなる複層構造に形成した。
【0007】請求項2の発明は、請求項1の薄膜磁気ヘ
ッドを製造する方法において、上コア又は/及び下コア
は、磁性膜上に非磁性の絶縁膜を成膜した後、この絶縁
膜の内の前記前部中間コアと重なる部分を除去し、更に
前記絶縁膜が除去された前記磁性膜の部分及び前記絶縁
膜上に磁性膜を成膜した後、コア形状に加工して形成す
る。
【0008】請求項3の発明は、請求項1の薄膜磁気ヘ
ッドを製造する方法において、上コア又は/及び下コア
は、コア形状をなす磁性膜上の前記前部中間コアと重な
る部分を除いた部分に絶縁膜を成膜し、この前記絶縁膜
が成膜されていない前記磁性膜の部分及び前記絶縁膜上
に磁性膜を成膜して形成する。
【0009】
【作用】請求項1の薄膜磁気ヘッドは、上コア又は/及
び下コアは前部中間コアと重なる部分以外の部分が磁性
層に非磁性の絶縁層を挟んでなる複層構造に形成されて
いるので、コアの絶縁層によって渦電流損失が減少して
高周波域での磁気特性の低下を抑えることができるとと
もに、コアの絶縁層は前部中間コアと重なる部分に形成
されていないので、媒体と接触する面に絶縁層が露出し
て擬似ギャップが形成されることがない。
【0010】そして、請求項2、3の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、上記請求項1の薄膜磁気ヘッドを簡
単に製造することができる。
【0011】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。図1は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの要部斜
視図、図2は図1の平面図、図3は図2のA−A線に沿
う断面図、図4は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法に
係るコア形成工程を説明する工程図、図5は本発明の薄
膜磁気ヘッドの製造方法に係る別のコア形成方法を説明
する工程図、図6乃至図11はそれぞれ薄膜磁気ヘッド
の形成工程を説明する断面図及びコア部平面図、図12
は薄膜磁気ヘッドの全体斜視図である。
【0012】薄膜磁気ヘッド1は、軟磁性材料からなる
下コア2上に、絶縁層3を形成すると共に、この絶縁層
3の前後に前部中間コア4及び後部中間コア5を形成
し、これらの絶縁層3、前部中間コア4及び後部中間コ
ア5上に上コア6を積層形成し、さらに絶縁層3にコイ
ル導体7を巻回して埋設し、これらの下コア2、前部中
間コア4、後部中間コア5及び上コア6で磁気回路を構
成すると共に、前部中間コア4と下コア2との間に磁気
ギャップ8を形成している。ここで、下コア2及び上コ
ア6は、前部中間コア4と重なる部分以外の部分を磁性
層間に非磁性の絶縁層9を挟んでなる複層構造に形成し
ている。
【0013】このように、下コア2及び上コア6を、前
部中間コア4と重なる部分以外の部分を磁性層間に非磁
性の絶縁層9を挟んだ複層構造に形成することにより、
渦電流損失が減少して高周波での磁気特性の低下を防止
できると共に、絶縁層9を前部中間コア4と重なる部分
に形成していないので、媒体と接触する面に絶縁層9が
露出して擬似ギャップとなることがなく、再生周波数特
性に悪影響を与えることがなくなって高密度記録にも適
する。
【0014】次に、この薄膜磁気ヘッド1の一部複層構
造をなす下コア2及び上コア4の形成方法について図4
を参照して説明する。この形成方法は、請求項2の薄膜
磁気ヘッドの製造方法を適用したものであり、同図
(a)に示すように基板11上に第1層の磁性膜12を
厚さ1〜5μmでスパッタ、蒸着、CVD等の薄膜形成
方法を用いて成膜し(第1工程)、同図(b)に示すよ
うに磁性膜12上に非磁性の絶縁膜13を厚さ数100
nm程度で同様な薄膜形成方法を用いて成膜し(第2工
程)た後、同図(c)に示すように絶縁膜13の内の前
部中間コアと重なる部分14をフォトリソグラフィ法及
びエッチング(RIE、イオンリミング)によって除去
する(第3工程)。
【0015】次いで、同図(d)に示すように磁性膜1
2及び絶縁膜13上に前同様にして第2層の磁性膜15
を成膜して(第4工程)、同図(e)に示すようにフォ
トリソグラフィ法及びエッチング(イオンリミング)に
よってコア形状に加工してコア16となし(第5工
程)、同図(f)に示すようにコア16の周囲に前同様
にして絶縁膜17をコア16の厚み以上に成膜して表面
を平坦化する(第6工程)。
【0016】また、薄膜磁気ヘッド1の一部複層構造を
なす下コア2及び上コア16の別の形成方法について図
5を参照して説明する。この形成方法は、請求項3の薄
膜磁気ヘッドの製造方法を適用したものであり、同図
(a)に示すように基板11上に第1層の磁性膜22を
厚さ1〜5μmで成膜してフォトリソグラフィ法及びエ
ッチング(イオンリミング)によってコア形状に加工し
(第1工程)、同図(b)に示すようにコア形状をなす
磁性膜22の周囲に絶縁膜23を磁性膜22の厚み以上
に成膜して表面を平坦化する(第2工程)。
【0017】次いで、同図(c)に示すように磁性膜2
2上に非磁性の絶縁膜24を厚さ数100nm程度で成膜
して、絶縁膜24の内の前部中間コアと重なる部分及び
コアを形成する部分以外の部分をフォトリソグラフィ法
及びエッチング(RIE、イオンリミング)によって除
去した(第3工程)後、同図(d)に示すように第2層
の磁性膜25を厚さ1〜5μmで成膜してフォトリソグ
ラフィ法及びエッチング(イオンリミング)によってコ
ア形状に加工し、コア形状をなす磁性膜25の周囲に絶
縁膜23を磁性膜25の厚み以上に成膜して表面を平坦
化する(第4工程)。
【0018】このようにして前部中間コアと重なる部分
以外の部分が非磁性の絶縁層を挟んで磁性層を積層した
一部が複層構造をなすコアを形成することができる。こ
の場合、下コア、上コアは、磁性性が二層構造をなす場
合に限らず、三層以上の複層構造に形成することもでき
る。
【0019】次に、薄膜磁気ヘッド1の形成工程につい
て図6乃至図12を参照して説明する。先ず図6に示す
ように、基板31上に前記図4に示すコア形成方法、あ
るいは図5に示すコア形成方法等によって絶縁膜32に
埋め込まれた下コア2を形成する(第1工程)。そし
て、図7に示すように、前部中間コア4が形成される部
分に磁気ギャップ8を形成するSiO2やTiO2などの非
磁性層33を形成し、下コア2と同様な方法を用いて、
絶縁膜34に埋め込まれた前部中間コア4及び後部中間
コア5を形成する(第2工程)。
【0020】その後、図8に示すように、前部中間コア
4と後部中間コア5との間の絶縁膜3にコイルのための
溝35を下コア2に達しないようにフォトリソグラフィ
法とエッチングによって形成し(第3工程)、図9に示
すように蒸着等によってCuなどの導体膜をコイル溝3
5の深さより厚く成膜した後表面を研磨して平坦化する
ことによって、コイル導体7を形成する(第4工程)。
【0021】次いで、図10に示すように前部中間コア
4及び後部中間コア5を除く部分に絶縁膜36を成膜し
た(第5工程)後、図11に示すように下コア2と同様
な方法を用いて絶縁膜37に埋め込まれた上コア6を成
膜する(第6工程)。そして、従前と同様にリード線形
成、ウエハー切断、機械加工等を行って図12に示すよ
うな薄膜磁気ヘッド1を形成する。
【0022】なお、上記実施例では、下コア及び上コア
の一部を複層構造にした例について説明したが、下コア
及び上コアのいずれか一方の一部を複層構造にしても、
相当の効果が得られる。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように本発明の薄膜磁気ヘ
ッドによれば、上コア又は/及び下コアは前部中間コア
と重なる部分以外の部分を磁性層に非磁性の絶縁層を挟
んだ複層構造に形成したので、コアの絶縁層によって渦
電流損失が減少して高周波域での磁気特性の低下を抑え
ることができるとともに、コアの絶縁層は前部中間コア
と重なる部分に形成されていないので、媒体と接触する
面に絶縁層が露出して擬似ギャップが形成されることが
なくなり、平坦な周波数特性で記録能力及び記録再生効
率の向上を図ることができる。そして、本発明の各薄膜
磁気ヘッドの製造方法によれば、上記の薄膜磁気ヘッド
を簡単に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの要部斜視図
【図2】図1の平面図
【図3】図2のA−A線に沿う断面図
【図4】請求項2の薄膜磁気ヘッドの製造方法を適用し
たコア形成工程を説明する工程図
【図5】請求項3の薄膜磁気ヘッドの製造方法を適用し
た別のコア形成方法を説明する工程図
【図6】薄膜磁気ヘッドの形成工程の第1工程を説明す
る断面図及びコア部平面図
【図7】薄膜磁気ヘッドの形成工程の第2工程を説明す
る断面図及びコア部平面図
【図8】薄膜磁気ヘッドの形成工程の第3工程を説明す
る断面図及びコア部平面図
【図9】薄膜磁気ヘッドの形成工程の第4工程を説明す
る断面図及びコア部平面図
【図10】薄膜磁気ヘッドの形成工程の第5工程を説明
する断面図及びコア部平面図
【図11】薄膜磁気ヘッドの形成工程の第6工程を説明
する断面図及びコア部平面図
【図12】薄膜磁気ヘッドの全体斜視図
【図13】従来の薄膜磁気ヘッドの要部斜視図
【図14】図13の平面図
【図15】図14のB−B線に沿う断面図
【図16】従来の別の薄膜磁気ヘッドの部分拡大図
【図17】図16の薄膜磁気ヘッドの再生出力特性を示
す線図
【符号の説明】
1…薄膜磁気ヘッド、2…下コア、3…絶縁層、4…前
部中間コア、5…後部中間コア、6…上コア、7…コイ
ル導体、8…磁気ギャップ、9…コアの絶縁層。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上下コアと、これら上下コアの間に設け
    た前部中間コア及び後部中間コアとで磁気回路を構成す
    ると共に、前記前部中間コアと上コア又は下コアとの間
    に磁気ギャップを形成した薄膜磁気ヘッドにおいて、前
    記上コア又は/及び下コアは前記前部中間コアと重なる
    部分以外の部分を磁性層間に非磁性の絶縁層を挟んでな
    る複層構造に形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッ
    ド。
  2. 【請求項2】 請求項1の薄膜磁気ヘッドを製造する方
    法において、上コア又は/及び下コアは、磁性膜上に非
    磁性の絶縁膜を成膜した後、この絶縁膜の内の前記前部
    中間コアと重なる部分を除去し、更に前記絶縁膜が除去
    された前記磁性膜の部分及び前記絶縁膜上に磁性膜を成
    膜した後、コア形状に加工して形成することを特徴とす
    る薄膜磁気ヘッドの製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1の薄膜磁気ヘッドを製造する方
    法において、上コア又は/及び下コアは、コア形状をな
    す磁性膜上の前記前部中間コアと重なる部分を除いた部
    分に絶縁膜を成膜し、この前記絶縁膜が成膜されていな
    い前記磁性膜の部分及び前記絶縁膜上に磁性膜を成膜し
    て形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方
    法。
JP23380294A 1994-09-28 1994-09-28 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 Pending JPH08102013A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6469868B2 (en) * 1998-09-10 2002-10-22 Tdk Corporation Thin film magnetic head having a nonmagnetic conductive layer and method of manufacturing same
US7961428B2 (en) 2006-07-04 2011-06-14 Tdk Corporation Thin-film magnetic head having magnetic layer with non-magnetic layer therewithin

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6469868B2 (en) * 1998-09-10 2002-10-22 Tdk Corporation Thin film magnetic head having a nonmagnetic conductive layer and method of manufacturing same
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