JPS6142716A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6142716A JPS6142716A JP59164586A JP16458684A JPS6142716A JP S6142716 A JPS6142716 A JP S6142716A JP 59164586 A JP59164586 A JP 59164586A JP 16458684 A JP16458684 A JP 16458684A JP S6142716 A JPS6142716 A JP S6142716A
- Authority
- JP
- Japan
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- coil conductor
- magnetic
- layer
- magnetic head
- insulating layer
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/17—Construction or disposition of windings
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の分野〉
本発明は、基板上にＩＩＩＩにより順次積層され、エツ
チングにより成形された磁性体、コイル導体、ギャップ
層、絶縁体層等を備えてなり、ギャップ層の一端面を磁
気記録媒体に当接させて記録再生を行なう薄膜磁気ヘッ
ドに関し、特に詳細には前記薄膜磁気ヘッドのコイル導
体の構造の改良に関するものである。
チングにより成形された磁性体、コイル導体、ギャップ
層、絶縁体層等を備えてなり、ギャップ層の一端面を磁
気記録媒体に当接させて記録再生を行なう薄膜磁気ヘッ
ドに関し、特に詳細には前記薄膜磁気ヘッドのコイル導
体の構造の改良に関するものである。
（発明の技術的背景および先行技術）
従来より、磁気記録媒体を用いて各種の信号を記録再生
する磁気記録再生装置が種々開発されており、近年、磁
気記録媒体の形状が多様化、小型化するにつれて、これ
らの媒体に情報を記録し、この記録された情報を再生す
る手段である磁気ヘッドについても、多様な媒体に適し
た種々の磁気ヘッドの開発が進められている。特に小型
の円板状磁気記録媒体（例えば最内周記録半径が１５１
Ｍ＋、最外周記録半径が２０ｓ程度のもの）を用いて記
録再生を行なうための磁気ヘッドとしては、磁気ヘッド
自体も小型である必要があることから、従来のバルク型
の磁性材料を用いたバルクヘッドに代って薄膜型の磁気
ヘッドが多く用いられるようになっており、この薄膜磁
気ヘッドはマルチチャンネル化が図れる等の利点もある
ことから主として小型の磁気記録媒体用のヘッドとして
主流となりつつある。
する磁気記録再生装置が種々開発されており、近年、磁
気記録媒体の形状が多様化、小型化するにつれて、これ
らの媒体に情報を記録し、この記録された情報を再生す
る手段である磁気ヘッドについても、多様な媒体に適し
た種々の磁気ヘッドの開発が進められている。特に小型
の円板状磁気記録媒体（例えば最内周記録半径が１５１
Ｍ＋、最外周記録半径が２０ｓ程度のもの）を用いて記
録再生を行なうための磁気ヘッドとしては、磁気ヘッド
自体も小型である必要があることから、従来のバルク型
の磁性材料を用いたバルクヘッドに代って薄膜型の磁気
ヘッドが多く用いられるようになっており、この薄膜磁
気ヘッドはマルチチャンネル化が図れる等の利点もある
ことから主として小型の磁気記録媒体用のヘッドとして
主流となりつつある。
この薄膜磁気ヘッドの構造をその製造工程にしたがって
説明すると、まず基板上に下部磁性層がｍ１ｌｌにより
形成され、次に第１絶縁層が同じく薄膜により形成され
、次いでコイル導体が前記第１絶縁層上に薄膜により形
成され、その後このコイル導体はエツチングされ、コイ
ルを形成する。さらにこれら積層体上に第２絶縁層が薄
膜により形成された後、第１及び第２絶縁層をテーバ形
状にエツチングする。このテーバエツチング終了後、ギ
ャップ層および上部磁性層が薄膜によりさらに形成され
る。ところでｔｉｌｌ！磁気ヘッドにおいて、記録再生
効率を向上させるために、上部磁性層と下部磁性層の間
隔を十分大きくすることおよび媒体との摺動面からコイ
ル導体の最外周部分までの距離（いわゆるスロートハイ
ド）をできる限り小さくすることが望ましい。しかし、
前記上部磁性層と下部磁性層との間隔をある程度大きく
した場合、 上部および上部絶縁層を一定のテーバ角で
エツチングしようとすると上部絶縁層の上に設けたレジ
スト膜もエツチングを受けるため、いわゆるレジストの
後退現象が生じ、このためにコイル導体のうち、摺動面
に最も近い最外周部分がエツチングされて細ってしまう
という危険があった。
説明すると、まず基板上に下部磁性層がｍ１ｌｌにより
形成され、次に第１絶縁層が同じく薄膜により形成され
、次いでコイル導体が前記第１絶縁層上に薄膜により形
成され、その後このコイル導体はエツチングされ、コイ
ルを形成する。さらにこれら積層体上に第２絶縁層が薄
膜により形成された後、第１及び第２絶縁層をテーバ形
状にエツチングする。このテーバエツチング終了後、ギ
ャップ層および上部磁性層が薄膜によりさらに形成され
る。ところでｔｉｌｌ！磁気ヘッドにおいて、記録再生
効率を向上させるために、上部磁性層と下部磁性層の間
隔を十分大きくすることおよび媒体との摺動面からコイ
ル導体の最外周部分までの距離（いわゆるスロートハイ
ド）をできる限り小さくすることが望ましい。しかし、
前記上部磁性層と下部磁性層との間隔をある程度大きく
した場合、 上部および上部絶縁層を一定のテーバ角で
エツチングしようとすると上部絶縁層の上に設けたレジ
スト膜もエツチングを受けるため、いわゆるレジストの
後退現象が生じ、このためにコイル導体のうち、摺動面
に最も近い最外周部分がエツチングされて細ってしまう
という危険があった。
このコイル導体がエツチングされて細ってしまい、その
ために記録電流を流したときに断線するという危険を回
避するためには、エツチングの際にコイル導体にまでエ
ツチングが及ばないように第２絶縁層をコイル導体の摺
動面側に残すようにしなければならない。しかし、この
ようにした場合スロートハイド（Ｔ、Ｈ）が長くなり、
良好な記録再生効率が得られないという問題があった。
ために記録電流を流したときに断線するという危険を回
避するためには、エツチングの際にコイル導体にまでエ
ツチングが及ばないように第２絶縁層をコイル導体の摺
動面側に残すようにしなければならない。しかし、この
ようにした場合スロートハイド（Ｔ、Ｈ）が長くなり、
良好な記録再生効率が得られないという問題があった。
（発明の目的）
本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものであ
り、薄膜のａｍ体をテーバ形状にエツチングする際にコ
イル導体をエツチングにより必要な幅以下に細らせて断
線を生じさせてしまうことを防止し、製品歩留りを向上
させるとともに、スロートハイドを十分短くして効率的
な記録再生を行なうことのできる構造を備えたＩｌ！磁
気ヘッドを提供することを目的とするものである。
り、薄膜のａｍ体をテーバ形状にエツチングする際にコ
イル導体をエツチングにより必要な幅以下に細らせて断
線を生じさせてしまうことを防止し、製品歩留りを向上
させるとともに、スロートハイドを十分短くして効率的
な記録再生を行なうことのできる構造を備えたＩｌ！磁
気ヘッドを提供することを目的とするものである。
（発明の構成）
本発明の薄膜磁気ヘッドは、前記コイル導体の、磁気記
録媒体との摺動面側の最外周部分が、コイル導体の他の
部分より大きい幅を有していることを特徴とするもので
ある。ここで大きい幅とは、テーバ形状にエツチングす
る際にコイル導体をわずかにエツチングして、エツチン
グされた分だけコイル導体が綱ってしまってもなお十分
な大きざの幅を有し、記録電流を流した場合にも断線す
る危険性のない大きさの幅を意味する。
録媒体との摺動面側の最外周部分が、コイル導体の他の
部分より大きい幅を有していることを特徴とするもので
ある。ここで大きい幅とは、テーバ形状にエツチングす
る際にコイル導体をわずかにエツチングして、エツチン
グされた分だけコイル導体が綱ってしまってもなお十分
な大きざの幅を有し、記録電流を流した場合にも断線す
る危険性のない大きさの幅を意味する。
（実施態様）
以下、図面を参照して本発明の実Ｎ１１様について詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明の＊ｍ磁気ヘッドの概要を示す平面図で
あり、第２図（ａ）〜（ｌはその構造を製造プロセスを
基に説明するための第１図のＡ−Ａ１１１部分に相当す
る断面図である。
あり、第２図（ａ）〜（ｌはその構造を製造プロセスを
基に説明するための第１図のＡ−Ａ１１１部分に相当す
る断面図である。
一般に薄膜磁気ヘッドは、フェライト等の磁性体あるい
は、ＡＬｚＯｓ等の非磁性体からなる基板１上に、下部
磁性層４、第１絶縁層５、コイル導体２、第２絶１１ｆ
ｆ６、上部磁性層８が順次積層され構成されている。こ
れらの薄膜の積層、およびパターン形成の工程は第２図
（ａ）〜（ｌに示すとおりである。この工程によると、
まず基板１上にパーマロイ、アモルファス等の磁性材料
が蒸着、スパッタリング等の方法により成膜され下部磁
性ＪＩ１４が形成される。（第２図（ａ））。次にこの
下！Ｓ磁性！！！４上に５ ＋ ０２あるいはＡ９Ｊ２
０３等からなる第１絶縁ＪＩ５が蒸着、スパッタリング
等の方法で形成され（同図（１）））、さらに第１絶縁
１ｉ５上にＡｚあるいはＣＬＪなどが蒸着あるいはスパ
ッタリング等により成膜された後イオンエツチングなど
によりコイル導体２が形成される（同図（Ｃ））。この
コイル導体２を形成する際に、磁気ヘッドの摺動面側の
最外周コイル部分２′は、他の部分よりも大きい幅を有
するように形成される。このようにコイル導体２が形成
された後前記第１絶縁層５が形成されたのと同様の方法
でざらに第２絶縁層６が成膜され（同図（ｄ））、イオ
ンエツチングなどにより、第２絶縁１１６が平坦にされ
る（同図（ｅ））。次に第２絶縁層６および第１絶縁Ｗ
Ｊ５の両側端がイオンエツチング等の方法により角度α
でテーバ形状に成形されるが（同図（ｆ））、本発明の
ヘッドのコイル導体２の最外周コイル部分２′は他の部
分よりも大きい暢を有しているため、テーバエツチング
を行なう際に上部磁性層上のレジスト膜（図示せず）の
後退現象が生じて前記最外周コイル部分２′がエツチン
グされても十分な幅が残る。このため従来の構造のコイ
ル導体の最外周部分のようにエツチングにより断線して
しまう、あるいは細くなる事により記録電流を流した時
に断線するということがない。このテーバエツチング終
了後、Ｓ ！ Ｏｚ、Ａｌ２．ｚｏ３などがスパッタリ
ングなどにより下部磁性Ｗ１４、第２絶縁層６およびテ
ーバ面上に成膜されてギャップ層７が形成され、さらに
摺動面と反対側の前記下部磁性層上に成膜されたバック
ギャップ部分がエツチングされる。このギャップ層の厚
さは、ギャップ長を規定するように設定されている。そ
して最後に前記下部磁性層４と同様な磁性材料が蒸着、
スパッタリング等により前記ギャップ層７上に成膜され
、上部磁性層８が形成される。なお、上述した本発明の
実ｍｓ様においてはコイル導体が５ターン型のものを例
にとって説明したがコイル導体のターン数は５ターンに
限らず任意に設定してよいことは言うまでもない。この
ような構造の本発明のｌ１ｌｌｉｔｔ！気ヘツドは、最
外周コイル部分２′の幅が他のコイル部分の幅よりも大
きくなっていることからテーバエツチングを行なう際に
コイル導体をテーバ面に露出させることができるのでス
ロートハイド（Ｔ、Ｈ，）は従来のものに比べて小さく
なっており、しかも上部磁性層と下部磁性層との間隔見
は従来通りの太きさを保っている。
は、ＡＬｚＯｓ等の非磁性体からなる基板１上に、下部
磁性層４、第１絶縁層５、コイル導体２、第２絶１１ｆ
ｆ６、上部磁性層８が順次積層され構成されている。こ
れらの薄膜の積層、およびパターン形成の工程は第２図
（ａ）〜（ｌに示すとおりである。この工程によると、
まず基板１上にパーマロイ、アモルファス等の磁性材料
が蒸着、スパッタリング等の方法により成膜され下部磁
性ＪＩ１４が形成される。（第２図（ａ））。次にこの
下！Ｓ磁性！！！４上に５ ＋ ０２あるいはＡ９Ｊ２
０３等からなる第１絶縁ＪＩ５が蒸着、スパッタリング
等の方法で形成され（同図（１）））、さらに第１絶縁
１ｉ５上にＡｚあるいはＣＬＪなどが蒸着あるいはスパ
ッタリング等により成膜された後イオンエツチングなど
によりコイル導体２が形成される（同図（Ｃ））。この
コイル導体２を形成する際に、磁気ヘッドの摺動面側の
最外周コイル部分２′は、他の部分よりも大きい幅を有
するように形成される。このようにコイル導体２が形成
された後前記第１絶縁層５が形成されたのと同様の方法
でざらに第２絶縁層６が成膜され（同図（ｄ））、イオ
ンエツチングなどにより、第２絶縁１１６が平坦にされ
る（同図（ｅ））。次に第２絶縁層６および第１絶縁Ｗ
Ｊ５の両側端がイオンエツチング等の方法により角度α
でテーバ形状に成形されるが（同図（ｆ））、本発明の
ヘッドのコイル導体２の最外周コイル部分２′は他の部
分よりも大きい暢を有しているため、テーバエツチング
を行なう際に上部磁性層上のレジスト膜（図示せず）の
後退現象が生じて前記最外周コイル部分２′がエツチン
グされても十分な幅が残る。このため従来の構造のコイ
ル導体の最外周部分のようにエツチングにより断線して
しまう、あるいは細くなる事により記録電流を流した時
に断線するということがない。このテーバエツチング終
了後、Ｓ ！ Ｏｚ、Ａｌ２．ｚｏ３などがスパッタリ
ングなどにより下部磁性Ｗ１４、第２絶縁層６およびテ
ーバ面上に成膜されてギャップ層７が形成され、さらに
摺動面と反対側の前記下部磁性層上に成膜されたバック
ギャップ部分がエツチングされる。このギャップ層の厚
さは、ギャップ長を規定するように設定されている。そ
して最後に前記下部磁性層４と同様な磁性材料が蒸着、
スパッタリング等により前記ギャップ層７上に成膜され
、上部磁性層８が形成される。なお、上述した本発明の
実ｍｓ様においてはコイル導体が５ターン型のものを例
にとって説明したがコイル導体のターン数は５ターンに
限らず任意に設定してよいことは言うまでもない。この
ような構造の本発明のｌ１ｌｌｉｔｔ！気ヘツドは、最
外周コイル部分２′の幅が他のコイル部分の幅よりも大
きくなっていることからテーバエツチングを行なう際に
コイル導体をテーバ面に露出させることができるのでス
ロートハイド（Ｔ、Ｈ，）は従来のものに比べて小さく
なっており、しかも上部磁性層と下部磁性層との間隔見
は従来通りの太きさを保っている。
次に第３図を参照して本発明の第２の実施態様について
説明する。第３図は第２図（ｇ）と同じ部分を示す断面
図である。この実施態様においては、前記コイル導体２
のうち、摺動面側と反対側の最内周コイル部分２“が最
外周コイル部分２−と同様に他のコイル部分よりも大き
な幅を有するものとなっている。このため、上述の第１
の実施例と同様にスロートハイド（Ｔ、Ｈ，）が小さく
できるとともに、テーバエツチングを行なう際に内周側
についてもコイル導体をエツチングしてもＩｇｉＩＩＡ
する恐れがないことからテーパ角αを大きくすることが
でき、磁路長を短く設定することができる。
説明する。第３図は第２図（ｇ）と同じ部分を示す断面
図である。この実施態様においては、前記コイル導体２
のうち、摺動面側と反対側の最内周コイル部分２“が最
外周コイル部分２−と同様に他のコイル部分よりも大き
な幅を有するものとなっている。このため、上述の第１
の実施例と同様にスロートハイド（Ｔ、Ｈ，）が小さく
できるとともに、テーバエツチングを行なう際に内周側
についてもコイル導体をエツチングしてもＩｇｉＩＩＡ
する恐れがないことからテーパ角αを大きくすることが
でき、磁路長を短く設定することができる。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明の薄ｍｕ気ヘッドによれば
、コイル導体の摺動面側の最外周部分の幅を他のコイル
部分の幅よりも大きくする事により、テーバ形状にエツ
チングを行なう際にコイル導体をエツチングしても断ｉ
することがない。そのため、エツチング後導体上に第２
絶縁層を残す必要性がなくなり、スロートハイドを短く
することができる。従って記録再生効率を向上させるこ
とができるとともに、製品歩留りも大幅に向上させるこ
とができる。また、テーバエツチングを行なう際に、最
外周コイルが現われた位置でエツチングを終了させるよ
うにすればよいので、テーバエツチングの終点検出のｍ
ｉの向上もはかることができる。さらに、コイル導体の
摺動面側と反対側の最内周コイル部分の幅も、最外周コ
イル部分と同様に他の部分よりも大きくした場合には、
最内周コイル部分側のテーパ角を大きくすることができ
るため、磁路長を短くできるという効果もあわせて得ら
れる。
、コイル導体の摺動面側の最外周部分の幅を他のコイル
部分の幅よりも大きくする事により、テーバ形状にエツ
チングを行なう際にコイル導体をエツチングしても断ｉ
することがない。そのため、エツチング後導体上に第２
絶縁層を残す必要性がなくなり、スロートハイドを短く
することができる。従って記録再生効率を向上させるこ
とができるとともに、製品歩留りも大幅に向上させるこ
とができる。また、テーバエツチングを行なう際に、最
外周コイルが現われた位置でエツチングを終了させるよ
うにすればよいので、テーバエツチングの終点検出のｍ
ｉの向上もはかることができる。さらに、コイル導体の
摺動面側と反対側の最内周コイル部分の幅も、最外周コ
イル部分と同様に他の部分よりも大きくした場合には、
最内周コイル部分側のテーパ角を大きくすることができ
るため、磁路長を短くできるという効果もあわせて得ら
れる。
第１図は本発明の第１の実施態様による薄ＩＩ！磁気ヘ
ッドの概要を示す平面図、 第２図は本発明の第１の実ＩＭ態様による薄膜磁気ヘッ
ドの構造を製造プロセスにより説明するための第１図の
Ａ−Ａ線部分の断面図、 第３図は本発明の第２の実Ｍ態様による薄膜磁気ヘッド
の構造を示す断面図である。 １・・・基 板 ２・・・コイル導体４・・・
下部磁性層 ５・・・第１絶縁層６・・・第２絶縁
層 ８・・・上部磁性１層第１図 第３図 （自発）手続♀甫正書 特許庁長官 殿 昭和５９年９月
１７日特願昭５９−１６４５８６号 ２、発明の名称 薄膜磁気ヘッド ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼２１０番地名 称
富士写真フィルム株式会社４、代理人 東京都港区六本木５丁目２番１号 ５、補正命令の日付 な し ６、補正により増加する発明の数 な し特許請
求の範囲 （１） 基板上に、下部磁性層、コイル導体、絶縁層お
よび上部磁性層を積層してなり、前記下部磁性層と上部
磁性層との間にギャップ層を有し、このギャップ層の一
端面を磁気記録媒体に当接させて記録再生を行なう薄膜
磁気ヘッドにおいて、前記コイル導体の前記磁気記録媒
体側の最外周部分が前記コイル導体の他の部分よりも大
きい幅を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 （２） 前記コイル導体の前記磁気記録媒体側と反対側
のＬＬＬコイル導体が他の部分よりも大きい幅を有する
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気
ヘッド。
ッドの概要を示す平面図、 第２図は本発明の第１の実ＩＭ態様による薄膜磁気ヘッ
ドの構造を製造プロセスにより説明するための第１図の
Ａ−Ａ線部分の断面図、 第３図は本発明の第２の実Ｍ態様による薄膜磁気ヘッド
の構造を示す断面図である。 １・・・基 板 ２・・・コイル導体４・・・
下部磁性層 ５・・・第１絶縁層６・・・第２絶縁
層 ８・・・上部磁性１層第１図 第３図 （自発）手続♀甫正書 特許庁長官 殿 昭和５９年９月
１７日特願昭５９−１６４５８６号 ２、発明の名称 薄膜磁気ヘッド ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼２１０番地名 称
富士写真フィルム株式会社４、代理人 東京都港区六本木５丁目２番１号 ５、補正命令の日付 な し ６、補正により増加する発明の数 な し特許請
求の範囲 （１） 基板上に、下部磁性層、コイル導体、絶縁層お
よび上部磁性層を積層してなり、前記下部磁性層と上部
磁性層との間にギャップ層を有し、このギャップ層の一
端面を磁気記録媒体に当接させて記録再生を行なう薄膜
磁気ヘッドにおいて、前記コイル導体の前記磁気記録媒
体側の最外周部分が前記コイル導体の他の部分よりも大
きい幅を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 （２） 前記コイル導体の前記磁気記録媒体側と反対側
のＬＬＬコイル導体が他の部分よりも大きい幅を有する
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気
ヘッド。
Claims (2)
- （１）基板上に、下部磁性層、コイル導体、絶縁層およ
び上部磁性層を積層してなり、前記下部磁性層と上部磁
性層との間にギャップ層を有し、このギャップ層の一端
面を磁気記録媒体に当接させて記録再生を行なう薄膜磁
気ヘッドにおいて、前記コイル導体の前記磁気記録媒体
側の最外周部分が前記コイル導体の他の部分よりも大き
い幅を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）前記コイル導体の前記磁気記録媒体側と反対側の
コイル導体が他の部分よりも大きい幅を有することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59164586A JPH07118057B2 (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| US06/760,279 US4751599A (en) | 1984-08-06 | 1985-07-29 | Thin-film magnetic head with a coil conductor having a plurality of turns of different widths |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59164586A JPH07118057B2 (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6142716A true JPS6142716A (ja) | 1986-03-01 |
| JPH07118057B2 JPH07118057B2 (ja) | 1995-12-18 |
Family
ID=15795986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59164586A Expired - Lifetime JPH07118057B2 (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4751599A (ja) |
| JP (1) | JPH07118057B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193896A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-11 | 株式会社東芝 | 薄膜電磁変換器 |
| DE3831803C2 (de) * | 1988-09-19 | 1995-02-09 | Siemens Ag | Dünnfilm-Magnetkopf mit einer flachen Schreib-/Lesespulenwicklung |
| US5241440A (en) * | 1989-08-23 | 1993-08-31 | Hitachi, Ltd. | Thin film magnetic head and manufacturing method therefor |
| US5173826A (en) * | 1991-06-03 | 1992-12-22 | Read-Rite Corp. | Thin film head with coils of varying thickness |
| US5452166A (en) * | 1993-10-01 | 1995-09-19 | Applied Magnetics Corporation | Thin film magnetic recording head for minimizing undershoots and a method for manufacturing the same |
| JP3149851B2 (ja) | 1998-07-10 | 2001-03-26 | 日立金属株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
| US6181514B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-01-30 | International Business Machines Corporation | Scaled write head with high recording density and high data rate |
| US6204999B1 (en) * | 1998-12-23 | 2001-03-20 | Read-Rite Corporation | Method and system for providing a write head having a conforming pole structure |
| US6191468B1 (en) * | 1999-02-03 | 2001-02-20 | Micron Technology, Inc. | Inductor with magnetic material layers |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58212615A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-10 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Patent Citations (1)
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| JPS58212615A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-10 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07118057B2 (ja) | 1995-12-18 |
| US4751599A (en) | 1988-06-14 |
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