JPH04143910A - 積層型磁気ヘッドの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、コンピュータの外部記憶装置等に用いられる
磁気記録再生装置に使用する積層型磁気ヘッドの製造法
に関するものである。

従来の技術 近年、コンピュータ用外部記憶装置やヒデオテープレコ
ーダの小型化、大容量化に伴い記録密度の向上が要請さ
れている。これに応えるため、スパッタリング法や蒸着
法等の真空薄膜成形技術を応用し、Ｆｅ−Ｎｉ合金やＦ
ｅ−Ａｌ−３ｉ合金等の金属磁性膜と絶縁膜を交互に積
層した積層膜で磁気コアを形成した高周波数帯域まで磁
気特性の良好な積層型磁気ヘッドか開発されている。

以下、従来の積層壓磁気ヘッドについて説明する。第２
図は従来の積層型磁気ヘットの斜視図である。

Ｉａ、ｌｂはＴｉ０ｚ−ＣａＯ等からなる非磁性基板、
２はＦｅ−Ｎｉ合金やＦｅ−Ａｌ−３ｉ合金等からなる
金属磁性膜、３はＳ　ｉＯ２やＡＩ。

Ｏ３等からなる絶縁膜、４は金属磁性膜２と絶縁膜３を
所定の厚さでスパッタリング法等により形成し交互に積
層してなる磁気コア、５は接着用ガラス膜、１１は絶縁
膜、１２はホンディングガラス膜、１３はモールドガラ
ス、１４はギャップ部、１８はコイルである。

以上のように構成された従来の積層型磁気ヘツ１・につ
いて、以下その製造工程を第３図（イ）〜（ハ）により
説明する。図（イ）において、非磁性基板１ｂの側壁上
に、金属磁性膜２、絶縁膜３を数層真空薄膜成形して、
積層状磁気コア４を形成し、その上に接着用ガラス膜５
を所定厚み真空薄膜成形し、次いて非磁性基板１ａを接
着し、磁気コアブロック６を形成する。次いで、図（ロ
）に示すように、磁気コアブロック６をスライダー用コ
ア７と巻線用コア８とに切断し、その断面を後加工で鏡
面仕上げし、ギャップ対向面９とする。次に、図（ハ）
に示すように、巻線用コア８にコイル溝ＩＯを形成した
後、ギャップ材としてＳｉ　Ｏ２やＡｌ２Ｏ５等の絶縁
膜１１、その上にポンディングガラス膜Ｉ２を真空薄膜
成形で、スライダー用コア７、巻線用コア８の各々のギ
ャップ対向面９に形成する。次いで、第２図に示すよう
にホンディングガラス膜１２を向い合せ、モールドガラ
ス１３て接着し、ギャップ部１４を形成後加工した後、
コイル１８をコイル溝１０に巻いて積層型磁気ヘッドを
製造していた。

発明か解決しようとする課題 しかしなから上記従来の構成では、磁気コアの厚さがト
ラック幅となっているため、前記磁気コアの厚さたけ積
層膜を形成する必要があり、従来例の製造法のように１
８μｍの膜厚の積層膜を形成すると前記積層膜の応力に
より非磁性基板か１５μｍ〜２０μｍ程度反るため金属
磁性膜と前記絶縁膜との界面から剥離を起こし易くなり
、積層型磁気ヘッドの加工中に僅かな外力、例えば、ラ
ッピングや研削加工時にかかる力により積層膜と非磁性
基板間、もしくは金属磁性膜と非磁性膜間界面から２つ
に分かれてしまい積層型磁気ヘッドの製造を困難にする
とともに生産効率を落とすという問題があった。

課題を解決するための手段 本発明は、積層型磁気ヘットの製造法において、フレク
シャー取付面又はフレクシャー取付面の裏面の何れか一
面又は両面に前記積層膜と交差するように溝部を設ける
工程と、前記溝部に接着補強材を充填固化する工程とを
有するようにしたものである。

作用 上記構成により、積層膜の応力により積層膜と非磁性基
板間及び金属磁性膜と絶縁膜間の界面で剥離か起きやす
くなっても、加工前に前記溝に流し込んだ接着補強材に
より、接着補強材か積層膜から非磁性基板へと交差して
続くので積層膜と非磁性基板を固定し、加工中に外力が
加わっても積層膜と非磁性基板間、金属磁性膜と絶縁膜
間の界面からの剥離か防止される。

実施例 第１図（イ）〜（ホ）は本発明の一実施例における積層
型磁気ヘットの製造工程図である。第１図（イ）に示す
ように研削加工やラッピング法等の機械加工により接着
補強材の溝部１５をＴｉＯ７・ＣａＯ等からなる一対の
非磁性基板１ａ、１ｂに設け、続いてＦｅ−Ｎｉ合金や
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金等の高飽和磁束密度を有する金属
磁性膜２を一層当たり３μｍで６層と前記金属磁性！！
２間の電気的絶縁を図るためのＳｉＯ，やＡｌ２Ｏ、等
の絶縁膜３を２００ＯＡの厚さにスパッタリング法や蒸
着法等の真空Ｎ膜成形法により交互に積層して磁気コア
４を形成し、そして、前記磁気コア４の上に同じくスパ
ッタリング法等により接着用ガラス膜５を形成する。そ
して、第１図（ロ）に示すように前記磁気コア４を挟む
ように前記非磁性基板１ａ、ｌｂを接着用ガラス膜５を
介して接着する。この時、前記接着補強材の溝部１５の
中に接着補強材１６を流し込み接着し、磁気コアブロッ
ク６を形成する。次に、第１図（ハ）に示すように前記
磁気コアブロック６を切断しスライダー用コア７と巻線
用コア８を形成し、前記スライダー用コア７と巻線用コ
ア８の断面をラッピング等の後加工により鏡面に仕上げ
ギャップ対向面９とする。次いで、第１図（ニ）に示す
ように前記巻線用コア８の前記ギャップ対向面９に研削
加工等の後加工によりコイル溝１０を形成する。更に前
記スライダー用コア７と前記巻線用コア８の前記ギャッ
プ対向面９ヘスバツタリング法等によってＳ　１０２や
Ａｌｔｏ２等の絶縁膜１１を１０００人の厚さに形成し
、前記絶縁膜１１の上に同じくスパッタリング法等によ
りホンディングガラス膜１２を５００人程形成する。次
に、第１図（ホ）に示すように前記ボンデングガラス膜
１２を対向させ前記コイル溝ＩＯにモールドガラス１３
を流して前記スライダー用コア７と巻線用コア８を接着
しギャップ部１４を形成する。その後、研削加工等の機
械加工により所定の積層型磁気ヘットの形状に加工しコ
イル１８を前記コイル溝１０に巻いて積層型磁気ヘッド
を作成する。

尚、前記溝部１５の幅や深さは、接着補強材１６や、金
属磁性膜２、接着用ガラス膜５の種類や薄膜成形条件に
応じ適宜選択される。前記非磁性基板１ａ、ｌｂはＴｉ
Ｏ２・ＣａＯの他にＴｉｅ□・ＭｇＯ−Ｎｉ０等も用い
られる。また、金属磁性膜２はＦｅ−Ｎｉ合金やＦｅ−
Ａｌ−５ｉ合金以外にＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ合金やＣｏ−Ｔ
ａ−Ｚｒ合金等のアモルファス合金も使用できる。絶縁
膜３は５１０２やＡｌｔＯｉの他ＳｉＮ等も使用される
。また、接着用ガラス膜５と接着補強材１６とホンディ
ングガラス１２とモールドガラス１３は各々のガラスの
融点か接着用ガラス膜５、接着補強材１６＞ボンディン
グガラス１２〉モールドガラス１３の組み合わせてあれ
ば良い。また、接着補強材は同一の目的や効果を果たす
ものてあればガラスに限定されない。また、前記金属磁
性膜２の膜厚は本実施例では一層当たり３μｍにしたか
条件によって適宜変更される。また、前記絶縁膜３の膜
厚も前記金属磁性膜２の電気的絶縁か図れる限り２００
０Å以下でもよい。また、前記絶縁膜１１や前記ホンデ
ィングガラス膜１２の膜厚はギャップ長によって適宜変
更される。

発明の効果 本発明は、積層型磁気ヘッドの加工中の積層膜と非磁性
基板間及び金属磁性膜と絶縁膜間の界面からの剥離を無
くし、機械的強度が著しく改善するので作業効率か大き
く改善されるとともに生産歩留まりを向上させる。また
、加工中の剥離が無くなるので記録再生特性の良い積層
型磁気ヘッドの製造か出来る。また、完成した積層型磁
気ヘットも接着補強材で非磁性基板と積層膜か固定され
ているため磁気記録再生装置等への組込み時や記録媒体
への記録再生時の積層型磁気ヘッドへの外力による積層
膜と非磁性基板間及び金属磁性膜と非磁性基板間の界面
からの剥離か無くなるため積層膜部分から２つに割れる
ことか無くなり信頼性の高い積層型磁気ヘットになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における積層型磁気ヘッドの
製造法の製造工程図であり、第２図は従来の積層型磁気
ヘッドの斜視図、第３図は従来の積層型磁気ヘッドの製
造工程図である。 ｌａ、ｌｂ・・・非磁性基板 ２・・・金属磁性膜　　　３・・・絶縁膜４・・・磁気
コア　　　　５・・・接着用ガラス膜６・・・磁気コア
ブロック ７・・・スライダー用コア ８・・・巻線用コア　　　９・・・ギャップ対向面ＩＯ
・・・コイル溝　　　１１・・・絶縁膜２・・・ボンデ
ィングガラス膜 ３・・・モールドガラス ４・・・ギャップ部　　１５・・・溝部６・・・接着補
強剤　　１８・・・コイル１１図 第 図 第 図 、１３ （ホ２ 一′２ 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一対の非磁性基板間に金属磁性膜と絶縁膜を交互に積層
   した積層膜を有する積層型磁気ヘッドの製造法において
   、 フレクシャー取付面及びフレクシャー取付面の裏面の何
   れか一面又は両面に前記積層膜と交差する１乃至複数の
   溝部を形成する工程と、 前記溝部に接着補強材を充填固化する工程と、を有する
   ことを特徴とする積層型磁気ヘッドの製造法。