JPH02132612A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ＶＴＲ等の磁気記録再生装置に装備される磁
気ヘッドに関し、特にメタルテープ等の高抗磁力を有す
る記録媒体の記録再生に適した磁気ヘッドに関するもの
である。

（従来の技術） ８ミリＶＴＲ、デジタルオーディオテープレーダ等、小
型の磁気記録再生装置に於いては、抗磁力の高いメタル
テーブ（Ｈ　ｃ＝　１４００〜１５０００　ｅ）が使用
される．メタルテーブに例えば映像信号を記録する際、
従来の所謂フエライト磁気ヘッドを使用した場合、フエ
ライトの飽和磁束密度が高々５５００Ｇ　ａｕｓｓ程度
であるため、磁気飽和現象が生じて、メタルテーブの性
能を十分に活かせない．そこで、従来より第５図に示す
複合型の磁気ヘッドが提案されている．該磁気ヘッドは
、一対のフエライトコア（７３）　（７３）の突合せ部
に、磁気ギャップ部（７１）を挟んで、センダスト、ア
モルファス合金等からなる一対の金属磁性層（７６）を
形成し、磁気ギャップ部（７１〉の両側には、ガラス製
のトラック幅規制部（７４）（７４）を設けている。

該磁気ヘッドに於いては、磁気飽和の起こり易い磁気ギ
ャップ部の近傍に、フエライトよりも飽和磁束密度の高
い金属磁性層が設けられているから、メタルテープに対
して良好な記録性能を発揮する． 該磁気ヘッドの製造方法を第６図（ａ）〜（ｇ）に示す
。

先ず第６図（ａ）（ｂ）に示す様にフエライトウェハ（
１）の表面にトラック幅規制溝（１１）を凹設した後、
トラック幅規制溝（１１）と交叉する方向に、巻線溝（
１２）及び融着溝（１３）を凹設する。

次に前記フエライトウェハ（１）の表面に、センダスト
及びＳｉＯｚのスパッタリングを施して、第６図（ｅ）
の如く金属磁性薄膜（２）と非磁性膜（３）とを全面に
形成する。

第６図（ｄ）の如く、上記工程を経て作製された第１の
ブロック半体（５ｌ）と、同図（ｂ）の工程を省略して
作製された第２のブロック半体（５２）とを、周知のガ
ラス接合法を用いて互いに接合固定し、これと同時に前
記トラック幅規制溝（１ｌ）にガラス（６）を充填する
。

これによって得られたコアブロック（５）を切断して、
第６図（ｅ）に示すブロック片（５３）を作製し、更に
同図（ｆ＞の如くブロック片（５３）の頭部に曲面研摩
を施して、磁気テープに摺接すべき対接面（５４）を形
成する． その後、第６図（ｇ）に示す様に前記ブロック片（５３
）をスライスして、複数のヘッドチツブ（７）を得る． （解決しようとする課題） ところが、従来の製造方法に於いては、第６図（ｃ）（
ｄ）に示すガラス接合工程にて、金属磁性薄膜（２）に
対する溶融ガラスの濡れ性が悪いため、トラック幅規制
７１１　（１１）の全域に溶融ガラスが十分に充填され
ず、これが、後の機械加工工程での欠陥発生の原因とな
っていた。尚、金属磁性薄膜（２〉の表面には非磁性１
１Ｋ（３）が形成されているが、該非磁性膜（３）は極
めて薄いため、金属磁性薄ＷＡ（２）がガラスの濡れ性
に大きな影響を与えるのである。

又、フエライトウェハ（１）、金属磁性薄膜〈２〉及び
ガラスの間には、熱膨張率に大きな差があるから、これ
に起因して発生する歪が金属磁性層（７６）の磁気特性
の劣化を招来する問題があった。更には、前記歪に因っ
て、第７図（ａ）の如く金属磁性層（フ６）とトラック
幅規制部（７４）との界面に割れ（８）が発生したり、
同図（ｂ）の如くフエライトコア（７３》にヒビ（８１
）が入る問題があった． 本発明の目的は、ガラス接合工程にてトラック幅規制溝
（１１）での金属磁性薄膜（２）とガラスとの接触領域
を可及的に削減することが出来る磁気ヘッドの製造方法
を提供し、これによって上記問題点を一挙に解決するこ
とである。

（課題を解決する為の手段） 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、磁性酸化物等か
らなるウェハ（１）の表面（溝加工面〉にトラック幅規
制講ク１１）及び巻線溝（１２）を互い交叉する方向に
凹設する第１工程と、前記ウェハ（１）の講加工面に金
属磁性薄膜（２）を形成する第２工程と、ウェハ（１）
のトラック幅規制溝（１１）に沿って溝加工を施し、ト
ラック幅規制溝（１１〉の底面及び両側面に付着した金
属磁性薄膜を除去する第３工程と、前記工程を経て得ら
れたブロック半体（５１）を含む一対のブロック半体（
５１）（５２）をギヤップスペーサを介して互いにガラ
ス接ぎすると共に、トラック幅規制ｊｌ（１１）にガラ
スを充填して、コアブロック（５）を作製する第４工程
と、該コアブロック（５）を機械加工して磁気ギャップ
部（７１）及びコイル窓（フ５）を具えたヘットチップ
（７〉を作成する第５工程とから構成される。

（作用及び効果） 第４工程に於いて、溶融ガラスがトラック幅規制消（１
１）に充填される際、トラック幅規制講（１１）の底面
及び両側面には、磁性酸化物等からなるウェハ（１）が
露出しており、溶融ガラスは直接にウェハと接触する． この際、溶融ガラスとウェハ（磁性酸化物）とは濡れ性
が良好であるから、トラック幅規制渭（１１）の全域に
溶融ガラスが行き渡る．従って、第５工程にて従来の如
き欠陥が発生することはない．又、ウェハ（磁性酸化物
）とガラスの熱膨張係数の差は、金属磁性薄膜とガラス
の熱膨張係数の差に比べて小さいので、金属磁性層（７
６》の周辺部に発生する内部歪は従来の磁気ヘッド製造
方法に比べて小さい。従って、従来の如き金属磁性層（
７６》の性能劣化や、金属磁性層（７６）近傍部におけ
る割れやヒビの発生はない。

（実施例） 実施例は本発明を説明するためのものであって、特許請
求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様
に解すべきではない。

第１図（ａ）〜（ｉ）は、本発明に係る磁気ヘッドの製
造方法の一例を示している。

先ず第１図（ａ）に示す様にフエライトウェハ（１）の
表面に複数のトラック幅規制溝（１１）を一定ビッチで
凹設し、更に同図（ｂ）の如く、トラック幅規制溝（１
１）と交叉する方向に、複数の巻線講（１２）と融着渭
（１３）を凹設する。

次に前記フエライトウェハ（１）の表面に、センダスト
及びＳｉ０２のスパッタリングを施して、第１図（ｃ）
の如く厚さ１〜１０μ一の金属磁性薄１　（２）と厚さ
０．０５〜０．５μ一の非磁性膜（３）とを全面に形成
する． その後、前記フェライトウェハ（１）のトラック幅規制
溝（１１）に沿って、図中破線で示す如くトランク幅規
制溝（１１）よりも僅かに幅広の断面形状を有する回転
砥石により、再度、消加工（４〉を施し、第１図（ｄ）
の如くトラック幅規制溝（１１）の底面及び両側面に付
着した金属磁性薄Ｊｌ！（２）及び非磁性ＷＡ（３　）
を除去する。

この際、第１図（ｅ）に示す様に、湧加工に用いる回転
砥石は、刃先両側面の傾斜角度φ（例えば９０度）が、
第１図（ａ）のトラック幅規制溝（１１）の加工に用い
た回転砥石の刃先両側面の傾斜角度θ（例えば７０度）
よりも瓜かに大きなものを使用する・これによって、該
溝加工によって形成される凸条（４１）の表面に残る金
属磁性薄１ｆ！（２）及び非磁性膜（３》は、第１図（
ｅ）に幅δ（例えば５μｍ）で示す両端部が角度φで垂
れ下がる様な断面形状となる， 前記溝加工（４）に使用する回転砥石を上記の如き形状
にすれば、該清加工の精度によってトラック幅の精度が
影響を受けないばかりでなく、磁気ヘッドとしての作動
時に、フエライトコアから金属磁性金属磁性層への磁束
伝達効率が改善される利点がある。

第１図（ｒ〉の如く、上記工程を経て作製された第１の
ブロック半体（５１）と、同図（ｂ）の工程を省略して
作製された第２のブロック半体（５２）どを、周知のガ
ラス接合法を用いて互いに接合固定する。

この際、溶融ガラスは、フェライトウェハとの濡れ性が
良好であるから、トラック幅規制溝（１１）に隅々まで
充填（６）される。

これによって得られたコアブロック（５）を融着講（１
３）に沿って巻線清く１２）毎に分断して、第１図（８
》に示すブロック片（５３）＜５３）を作製し、更に同
図（ｈ）の如くブロック片ク５３〉の頭部に曲面研摩を
施して、磁気テープに摺接すべき対接面（５４）を形成
する． その後、第１図（ｉ＞に示す様に前記ブロック片（５３
）を磁気ギャップ部（７１）毎にスライスして、複数の
へッドチップ（７）を得る。

第２図は、上記工程を経て得られたヘッドチップ（７）
の対接面（５４）を示している。図示の如く、磁気ギャ
ップ部（７１）の両側には、一対の金属磁性層（７２）
　（７２）が形成され、各金属磁性層（７２）は、フエ
ライトコア（７３）　（７３）の突合せ面のトラック幅
方向に広がり、両端部は磁気ギャップ部（７１）から離
間する方向に僅かに伸び、トラック幅規制部（７４）と
の界面にて途切れている。

第３図に示すヘッドチップ（７）は、第１図（ｆ》に示
す一対のブロック半体（５１）（５２）の内、一方のブ
ロック半体には、第１図（ｃ）に示す金属磁性薄膜（２
）の形成を省略することによって得ることが出来る．該
ヘッドチップ（７）に於いては、磁気ギャツプ部（７１
）の片側にのみ金属磁性Ｊ’ｌｉｒ　（７２）が形成さ
れている． 第１図（ｃ）に示す講加工（４）に於いて、金属磁性薄
膜《２）に剥離の虞れがある場合は、第４図に示す様に
、金属磁性薄膜の形成をマスクスパッタリングによって
行ない、前記ブロック片（５３》毎に分断（２１）され
た金属磁性薄Ｍ（２）を形成することが有効である。

図面及び上記実施例の説明は、本発明を説明するための
ものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、
或は範囲を減綿する様に解すべきではない。

又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
ことは勿論である， 例えば、ヘッドコアをセラミック等の非磁性資材によっ
て形成し、磁気回路を金属磁性層のみによって形成した
磁気ヘッドの製造に際しても、本発明が有効である．

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（１）は本発明に係る磁気ヘッドの製造
工程を示す図、第２図は該磁気ヘッドの対接面の一部を
示す拡大平面図、第３図は他の実施例を示す同上の拡大
平面図、第４図は金属磁性薄膜の形成工程の他の実施例
を示す斜面図、第５図は従来の磁気ヘッドの斜面図、第
６図（ａ）〜（ｇ）は第５図の磁気ヘッドの製造工程を
示す図、第７図は従来の磁気ヘッド製造方法の問題点を
示す拡大平面図である。 （１）・・・フエライトウェハ （１１）・・・トラック幅規制溝 （１２）・・・巻線湧　　　　　（２）・・・金属磁性
薄膜（３》・・・非磁性膜　　　　（６）・・・ガラス
クｌ （Ｃ） ７ノ （子） 図 手続補正書 （自発） 別紙『第１図（ｆ）』、 『第４図』及び『第６図（ｄ）乃至 （ｇ）』 に補正。 明細書第５頁第８行目 「金属磁性層（７６）Ｊを ｒ金属磁性層（７６）及び界面部分のフエライト』に補
正。 １．事件の表示 特願昭６３−２８６３５０ 以 上 ２．発明の名称 磁気ヘッドの製造方法 ３，補正をする者 事件との関係　　特許出願人 （ｔａｇ）三洋電機株式会社 外１名 ５． 補正の対象 図面、 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６． 補正の内容 薯４図 ７ノ （チ９ （ｊ９） 第６図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一対のヘッドコアの突合せ部に金属磁性層を介装
   すると共に、該金属磁性層に沿って磁気ギャップ部を形
   成した磁気ヘッドの製造方法に於いて、前記ヘッドコア
   となるウェハ（１）の表面（溝加工面）にトラック幅規
   制溝（１１）及び巻線溝（１２）を互いに交叉する方向
   に凹設する第１工程と、前記ウェハ（１）の溝加工面に
   、前記金属磁性層となる金属磁性薄膜（２）を形成する
   第２工程と、ウェハ（１）のトラック幅規制溝（１１）
   に沿って溝加工を施し、トラック幅規制溝（１１）の底
   面及び両側面に付着した金属磁性薄膜を除去する第３工
   程と、前記工程を経て得られたブロック半体（５１）を
   含む一対のブロック半体（５１）（５２）をギャップス
   ペーサを介して互いにガラス接合すると共に、トラック
   幅規制溝（１１）にガラスを充填して、コアブロック（
   ５）を作製する第４工程と、該コアブロック（５）を機
   械加工して磁気ギャップ部（７１）及びコイル窓（７５
   ）を具えたヘッドチップ（７）を作成する第５工程とか
   ら構成されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。