JPS63231713A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ヘッドに関し、特に記録媒体と接触して信
号を記録・再生する高周波で用いる高性能の磁気ヘッド
に関する。

〔従来の技術〕

磁気記録媒体として磁気テープや磁気シート等を用い、
記録媒体と接触して高い信号周波数を記録再生するＶＴ
Ｒフロッピーディスク装置などの磁気記録装置において
は、記録の高密度化を進めるために、記録媒体の高保磁
力化が進んでいる。

高保磁力の媒体に信号を十分に記録するためには、磁気
ヘッド材料として高い飽和磁束密度をもつ磁性材料が必
要であり、このことから、従来の飽和磁束密度の低い（
〜５０００Ｇ）フェライト材料を用いた磁気ヘッドに替
って、飽和磁束密度の高い（８０００Ｇ以上）金属磁性
材料を用いた磁気ヘッドが種々提案されている。これら
の中でも、基板上に金属磁性膜をスパッタリング法、蒸
着法などの薄膜形成工程によって形成した磁気ヘッドは
、バルクの金属磁性材あるいはリボン状の金属磁性材を
用いて作製した磁気ヘッドよりも高周波特性に優れ、し
かも量産性にも優れている。このような磁気ヘッドの例
は、特開昭５８−８０８９６および特開昭５８−１６０
６７号明細書に開示されている。

これらのヘッドの一例を第２図に示した。この磁気ヘッ
ドは、山型の形状の突起部１１を有する基板１０に、金
属磁性膜１２を形成したブロックを２個用意し、ギャッ
プ材１３を介して上記ブロックを接合一体化して構成し
たものである。このヘッドは、ギャップ面と金属磁性膜
の界面（金属磁性膜１２と充填材１７および基板１０と
の界面）が非平行となっているため、コンタ−効果が小
さく、また記録トラック以外からの雑音をひろい難いと
いう特徴を有する。また、薄膜工程により巻線を形成し
た磁気ヘッドとして、計算機ディスク用薄膜磁気ヘッド
が知られている。第３図に薄膜磁気ヘッドの一例を示し
た。このヘッドでは、基板１０の上に下部磁性膜４１を
被着し、その上に絶縁材４２２巻線１８．絶縁材４２を
形成し、さらに上部磁性膜４３を形成しており、巻線を
フォトリソグラフィー法などの薄膜加工工程で整形する
ために、微細な巻線パターンが加工出来、短かい距離に
多数の巻線を形成出来るため磁路長を短かく出来るとい
う特徴を有する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

第２図に示した磁気ヘッドは記録・再生効率も優れたヘ
ッドであるが、さらに効率を高めるためには以下のよう
な点で問題があった。すなわち。

効率を高めるためには、巻線窓９を周回する磁路長を短
かくし、磁気抵抗を減少する必要があるが、上記磁気ヘ
ッドではギャップを介して２個のブロックを一体化した
磁気へラドコアを作製した後に、巻線を施すために、あ
る限度以下に巻線窓を小さくすることが出来ず、従って
磁路長を短かく出来ないという問題があった。上記磁気
ヘッドの巻線窓の大きさは巻数によっても異なるが、巻
線径２０μｍ９巻数２０回の場合、巻線窓を周回する磁
路長は２ｍｍｌ［１以上とすることが必要であり、これ
より巻線窓を小さくした場合には巻線を行なうことが極
めて困難になるという問題があった。

さらに第３図に示したヘッドでは、巻線のみならず磁性
膜の加工もフォトリソグラフィー法などの薄膜加工工程
により行っており、このためトラック幅の加工等を高精
度で行えるという特徴を有する。しかし上記のヘッドを
本発明の目的とする磁気テープ用ヘッドとして用いる場
合下記のような問題がある。

すなわち、記録媒体を磁気テープとし、磁気テープによ
って磁気ヘッドの記録媒体対向面を摺動される磁気ヘッ
ドにおいては、ヘッドは摩耗を生じ、使用中にギャップ
デプスの減少を生じる。従って磁気テープで摺動して用
いるヘッドは摩耗によるギャップデプスの減少量を見込
んで、あらかじめギャップデプスを大きくする必要があ
る。ギャップデプス量はテープの走行スピード、テープ
テンションあるいはヘッドに要求される寿命によっても
異なるが、通常、５μｍ以上５０μｍ以下に設定される
。このようにギャップデプスの大きいヘッドにおいては
、磁性膜の膜厚もギャップデプスと同等またはそれ以上
が必要である。もし磁性膜厚がギャップデプス量より薄
い場合には、ヘッド先端から出る記録磁界が非常に弱く
なってしく８） まうため、ヘッドの記録特性は極めて低下してしまう。

一般に前記の計算機ディスク用薄膜ヘッドではギャップ
デプス、磁性膜厚とも、２〜３μｍ以下である。上記薄
膜ヘッドの磁性膜厚および、ギャップデプスを５μｍ以
上とした場合には通常の薄膜加工工程によって磁性膜を
加工することは困難になり、また加工が出来ても著しく
加工時間を必要とする。さらに、上記薄膜ヘッドでは、
磁極膜の界面とギャップ面とが平行になっているために
、コンタ−効果を生じ、出力の周波数特性にうねりを生
じてしまうためＶＴＲヘッドには使用出来ない。

本発明は上記問題を解決し、高い記録・再生効率を有し
、コンタ−効果がなく寿命の長い磁気テープ用磁気ヘッ
ドを得ることを目的としたものである。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明では少なくとも記録
媒体対向面の近傍部の基板上に作動ギャップ部を除いて
基板との界面が作動ギャップと非平行とされた金属磁性
質を形成した２個のブロックの少なくとも一方のブロッ
クに、薄膜工程によって巻線部を設け、前記金属磁性膜
が記録トラックを形成するように、前記２個のブロック
を作動ギャップを介して接合一体化した磁気ヘッドとす
る。本発明において、薄膜工程で作製した巻線部を用い
ることにより巻線部分を小さく作ることが出来、これに
より磁路長を短縮し、記録・再生特性の向上を図ること
が出来る。また、基板と金属磁性膜との界面とギャップ
面を非平行ならしめ、コンタ−効果の発生を押えること
が出来る。

基板と金属磁性膜の界面をギャップと非平行とするため
には基板を山型形状とすること、基板にギャップ面と非
平行な斜面を設けること基板にギャップと非平行な溝を
設けることによって構成することが出来る。

本発明においては、基板として強磁性フェライトもしく
は非磁性材が用いられる。強磁性フエラトの場合はＭ　
ｎ　−Ｚ　ｎフェライトあるいはＮ　ｉ　−Ｚｎフェラ
イトの単結晶もしくは多結晶体が用いられる。非磁性材
の場合は、高硬度のガラス、結晶化ガラス、あるいはセ
ラミックスなどが用いられ、例えば、Ｓ　ｉ　Ｏｘ　、
　Ａ　Ｑ　２０ｓ、ジルコニア。

アルミナチタンカーバイト、チタン酸カルシウム。

チタン酸バリウム、Ｍｎ○とＮｉ○の混合焼結材Ｚｎフ
ェライト等が用いられる。これらは加工性安定性等の改
善のため、各種添加物を添加して用いられる場合がある
。

本発明の磁気ヘッドにおいては、基板として強磁性フェ
ライトを用いるよりも非磁性材を用いるほうがより好ま
しい。すなわち、強磁性フェライト基板を用いた場合に
は、磁性体の表面積が大きく、磁性体表面から出るもれ
磁束が多くなるためインダクタンスが大きくなる。一方
、非磁性基板を用いた場合には、磁性体は金属磁性膜の
みとなるため、磁性体表面からのもれ磁束が少なくなり
、インダクタンスが低減される。磁気ヘッドの特性は一
定インダクタンス当りの出力が高いほど優れており、低
いインダクタンスのヘッドは、巻線数を増加することに
より出力を増加出来、また高いインダクタンスのヘッド
は巻線数を減少してインダクタンスを低減する必要があ
り、巻線数を減少すると出力が低下してしまう。従って
非磁性基板を用いたほうが一定インダクタンス当りの出
力を高く出来る。特に、本発明のヘッドは、第２図に示
した従来のヘッドに比較して磁路長を極めて短かく出来
るため、磁性膜の表面積もさらに小さくなる。このこと
はもれ磁束の低減によるインダクタンスの低減にとって
好ましい。

本発明の磁気ヘッドにおいて、金属磁性膜としては、飽
和磁束密度が高く、軟磁気特性を有する磁性膜が用いら
れる。具体的には、周知のＦｅ−８ｉ系合金、Ｆｅ−Ａ
Ｍ−８ｉ系（いわゆるセンダスト）合金、Ｎｉ−Ｆｅ系
（いわゆるパーマロイ）合金および各種の高透磁率非晶
質合金等を挙げることが出来る。特に本発明のような構
造の磁気ヘッドにおいては作製された膜が柱状構造をと
らない非晶質合金が適している。非晶質合金には、非晶
質化元素として主にＳｉ、Ｂ、Ｐ、Ｃ等の非金属元素を
用いた金属−非金属系非晶質合金と、非晶質化元素とし
て主にＺｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｓ。

Ｈｆ、Ｙなどの金属元素を用いた金属−金属系非晶質合
金があるが、耐熱性、耐食性の点で金属−金属系非晶質
合金がより好ましい。具体的にはＧ　ｏ　−Ｎ　ｂ　、
　Ｃｏ　−Ｔ　ａ　、　Ｃｏ　−Ｚ　ｒ　、　Ｇ　ｏ　
−Ｈｆ　、　Ｃｏ　−Ｎ　ｂ　−Ｚ　ｒ　、　Ｇ　ｏ　
−Ｔ　ａ　−Ｚ　ｒ　。

Ｇｏ−Ｍｏ−Ｚｒ、Ｇｏ−Ｗ−Ｚｒ、Ｇｏ−Ｎｉ−Ｚ　
ｒ　、　Ｇ　ｏ　−Ｚ　ｒ　−Ｂ　、　Ｇ　ｏ　−Ｎ　
ｂ　−Ｈｆ　。

Ｃｏ　−Ｔ　ａ　−Ｈｆなどが挙げられる。これらは蒸
着法により形成することも出来るが、高周波二極スパッ
タリング法、高速マグネトロンスパッタ法。

対向ターゲットスパッタ法などのスパッタリング法によ
り形成することが非晶質となる組成範囲を広くとること
が出来るため、より望ましい。

本発明の磁気ヘッドでは、金属磁性膜を電気抵抗の高い
基板の側面に形成するため、ヘッドコアに流入した信号
磁束は、基板によって隔てられた両側面の金属磁性膜を
流れる。このことは、金属磁性膜を高電気抵抗の基板を
介して積層したのと同様の効果をもたらし、渦電流を低
減し、優れた高周波特性が実現できる。本発明の磁気ヘ
ッドでは、さらに高周波特性を向上するために５ｉＯｚ
。

ＡＱ２０ｓなどの非磁性絶縁膜を介して上記の金属磁性
膜を交互に積層することが出来る。第３図に示したよう
な従来の薄膜磁気ヘッドにおいては、このように非磁性
絶縁膜を用いて積層した場合には、この非磁性絶縁膜が
疑似ギャップとして働くために、ヘッド特性が著しく劣
化してしまう。これに対して本発明の磁気ヘッドの場合
には、記録媒体対向面近傍の基板の形状をギャップと非
平行としているため、上記非磁性絶縁膜の膜面がギャッ
プ面と非平行となり、疑似ギャップにはならない。従っ
て非磁性絶縁膜を介して金属磁性膜を積層した本発明の
磁気ヘッドは、高周波における記録・再生特性を著しく
向上できる。

〔実施例〕

以下本発明を実施例により詳細に説明する。

第１図（ａ）は本発明の一実施例を示す磁気ヘッドの斜
視図であり、（ｂ）、（ｃ）はこのヘッドをギャップ面
からＩコアブロックおよびＣコアブロックに別け、それ
ぞれギャップ面側から見た分解図である。１０は非磁性
材からなる基板であり、基板１０の一部に設けた山型形
状の突起部１１の両側面に金属磁性膜１２が形成されて
おり、ギャップ材１３をはさんで、平坦に加工された前
記磁性膜の先端同志が相対峙するようにＩコアブロック
１４およびＣコアブロック１５が接合材］６によって接
合一体化されている。山型形状の突起部の形成によって
生じた溝には充填材１７が充填されている。■コアブロ
ック１４の平坦に加工されたギャップ面上には、第１図
（ｂ）のように蒸着、スパッタリング等の薄膜作製工程
によりＣｕ、ＡＱなどの導電性金属膜が形成され、さら
にフォトリソグラフィー法などの薄膜加工工程により、
薄膜巻線１８および端子部１９が形成されている。Ｃコ
アブロック１５には、第１図（Ｃ）のようにヘッドの少
なくとも前部コンタクト部２０′および後部コンタクト
部２１′がそれぞれエコアブロック１４の前部コンタク
ト部２０および後部コンタクト部２１と接触するように
し、かつエコアブロック１４の薄膜巻線１８とＣコアブ
ロック１５が接触しないように巻線用溝２７゜２８．２
９を形成するための突起４１が設けられている。上記の
ように、本発明の磁気ヘッドにおいては、巻線として薄
膜工程により作製した薄膜巻線１８を用いるために、前
部コンタクト部２０と後部コンタクト部２１の間隔を小
さくすることが出来、磁路長を小さく出来るために記録
・再生効率の優れたヘッドが実現できる。ここで、磁気
ヘッドにおける磁路長とは、巻線用溝２７を周回する金
属磁性膜の長さに相当する。

第１図（ａ）に示した基板に形成する山型形状の突出部
の先端角度θは３０°から１２０°の間とするのが好ま
しい。０が３０’以下の場合には山型形状の面傾斜面上
に形成する金属磁性膜の磁気特性が劣化するため問題が
ある。またθが１２０゜以上の場合には作動ギャップ部
から生ずるもれ磁束以外にＣコアブロックと１コアブロ
ツクの金属磁性膜１２の間に流れるもれ磁束が増大する
ためにインダクタンスが増加しインダクタンス当りの出
力が低下し、また、後述のヘッドの製造方法においてト
ラック幅の制御を行うことが困難になるという問題があ
る。

山型形状の突起部の先端は鋭角になっていることが望ま
しいがトラック幅の２倍以下の曲率半径を持つ曲面であ
ってもよい。また、トラック幅の１７２以下の幅を有す
るギャップ面と平行な面であってもコンタ効果が０．５
　ｄ　Ｂ　以下となりほとんど問題とならない。

上記本発明の実施例の磁気ヘッドの製造方法の１例を以
下に説明する。（ｉ）第４図（イ）において、非磁性材
からなる基板１０に溝２３を加工し、山型形状の突起部
１１を形成する。（ｉｉ）次に第４図（ロ）において基
板表面全体に金属磁性膜１２を被着する。ｌ）次に第４
図（ハ）において、不必要な金属磁性膜を取り除くため
に溝２４および２５を加工する。（ｔｖ）次に第４図（
ニ）においてガラスなどの充填材１７を用いて（ス） 溝２４および２５を充填する。あるいは俳眸ｉのように
非磁性のセラミックス、ガラス等をスバツタリング法、
蒸着法あるいは化学的気相成長法などの薄膜形成法によ
り被着して、溝２４および２５を充填してもよい。特に
、セラミックスの一種として、２Ｍｇ０，５ｉＯｚの組
成を有するフォルステライトは、蒸着法によって高い成
膜速度で形成できるため、本磁気ヘッドの充填材として
優れている。

（ｖ）次に第４図（ホ）において、基板上に形成した充
填材および金属磁性膜を研削、研摩により平坦にし、ギ
ャップ面２６を得る。この工程によりギャップ面におけ
る金属磁性膜の幅が規制され、トラック幅Ｔｗが制御さ
れる。（ｖｉ　）次に第４図（ホ）において、Ｓ　ｉ　
Ｏｚ　、　Ａ　Ｑ　２０８などの非磁性絶縁材からなる
ギャップ材１３が被着され、（憾）さらに薄膜作製工程
および薄膜加工工程により薄膜巻線１８および端子部１
９が形成される、ここで薄膜加工工程とは、薄膜の表面
に感光性レジストを塗布する工程、フォトマスクを通し
てレジストを露光・現像し所定のレジストパターンを得
る工程、さらにこのレジストパターンをマスｐ（］８） りとしてイオンエツチング、ウェットエツチング、ある
いはリフトオフ法、メッキ法などにより所定の巻線のパ
ターン形状に導電材を加工する工程である。この工程に
は、コイル間の絶縁に必要な絶縁膜の形成・加工も含ま
れる。（軛）次に第４図（へ）において、Ｃコアブロッ
クとなるべき部分にコイルを収容するための巻線用溝２
７および２８が設けられる。（鎗）次に第４図（へ）に
おいて、二点鎖線部より切断して■コアブロック１４と
Ｃコアブロック１５を得る。（Ｘｉ）次に第４図（ト）
において、Ｃコアブロックにコイルを収容する巻線用溝
２９を形成する。（浦）さらに作動ギャップ部３０を残
して少なくとも後部コンタクト部２１′のギャップ材１
３をイオンエツチング法等により取除く。■コアブロッ
クに関しても同様の工程に行う。次いで、（ｘｉ）第４
図（４）において、■コアブロック１４とＣコアブロッ
ク１５を、ギャップ材を介して金属磁性膜同志が相対峙
するように接合し、ガラス、樹脂などからなる接合材１
６を前記溝２７，２８．２９に充填・固化してＣコアブ
ロックと■コアブロックを一体化する。（ｌｂ）次いで
第４図（チ）において二点縁鎖部を切断して第１図に示
したと同様の磁気へラドコア３１を得る。本実施例にお
いて、記録媒体対向面３２の幅ＣＷは絞り部３３を設け
ることによりコア全体の厚さＴよりも減少しである。こ
れにより、記録媒体との接触を改善し、出力の向上を図
ることが出来る。

上記磁気ヘッドの製造方法は１つの例であり、製造方法
の各工程において他の方法がある。第４図に示した方法
では、■コアブロック１４とＣコアブロック１５は−っ
の基板１０より作製したが、■コアブロック用基板およ
びＣコアブロック用基板を別々に用意してもよい。基板
を別にすることによりＩコアブロック上に形成する薄膜
コイルの実装密度を高めることが出来る。一方、第４図
のようにＣコアブロックとＩコアブロックを同一の基板
に形成することにより、同一の山型突起に形成した金属
磁性膜から記録トラックを形成することが出来る。この
ことは磁気ヘッドのトラックすれを防止し、トラック幅
精度を向上する上で効果がある。

本実施例の磁気ヘッドでは、第４図（ハ）において溝２
４および２５を入れることにより、磁気ヘッドの磁路と
なる金属磁性膜の表面積を必要最小限にすることが出来
る。すなわち第４図（へ）において、磁気ヘッドの磁路
となる金属磁性膜３４に接続し、後部コンタクト部２１
および２１′よりも記録媒体対向面から離れた位置にあ
る金属磁性膜３５は磁気ヘッドの磁路としては作用せず
、逆にヘッド外からの雑音磁界をひろい、またもれ磁束
を発生することによりインダクタンスを増加する原因と
なるために有害である。溝２５は磁気ヘッドの磁路とな
る金属磁性膜３４と不用な金属磁性膜３５を磁気的に分
離し、上記の不都合を解決する上で有効である。また溝
、２４は第４図（ハ）においてトラック幅方向の金属磁
性膜の幅ＭＷを規制する働きをする。金属磁性膜の幅Ｍ
Ｗは磁気ヘッドの磁路の幅となるため、小さすぎるとき
は磁気抵抗が増大して記録再生特性が劣化し、また（２
ｍｍ） 必要以上に大きすぎる時には金属磁性膜表面からのもれ
磁束が大きくなるためインダクタンスが増大し、インダ
クタンス当りの出力がかえって減少してしまう。従って
金属磁性膜の幅ＭＷの値としてトラック幅の１．５倍〜
２０倍が適当である。

第４図に示した磁気ヘッドの製造方法において、第４図
（イ）の溝２３の加工、（ハ）の溝２４゜２５の加工、
（ハ）の溝２７．２８の加工および（ト）の溝２９の加
工方法としてダイモンドブレード等を用いた機械加工法
とフォトリソグラフィー法によって形成したマスクを用
いて、イオンエツチング法あるいはウェットエツチング
法などにより所定の位置に溝を形成するいわゆる薄膜加
工法がある。溝膜加工法は加工精度が高いため、第４図
（ハ）の溝２４，２５、（へ）の溝２７゜２８および（
ト）の溝２９を高精度で加工する方法として優れている
。しかし本発明の磁気ヘッドでは前記のように金属磁性
膜の膜厚を５μｍ以上とするために、溝２４．２５にお
ける金属磁性膜の加工量が大きくなる。またもれ磁束を
低減しインダクタンス当りの出力を高め、さらにコイル
抵抗が低い磁気ヘッドを得るためには溝２７．２８およ
び２９の深さを少なくとも５μｍ以上とする必要がある
。以上のように本発明の磁気ヘッドでは各種溝の加工量
が大きいためイオンエツチングあるいはウェットエツチ
ング法では加工時間がかかりすぎ、また加工面の仕上り
も悪くなってしまう。従って上記の溝の加工をダイヤモ
ンドブレード等を用いた機械加工法によって行うのが加
工時間を短縮し量産性を向上する上で好ましい。

なお、本実施例の磁気ヘッドの製造方法の一つの変形と
して、第４図（ハ）において溝２４゜２５を形成するか
わりに第４図（ロ）の金属磁性膜の被着工程においてマ
スクを通して所定の位置のみに金属磁性膜を被着するマ
スクスパッタ法あ上記の実施例では、第４図（ニ）ある
いはし≠戸において溝２４．２５に充填材を充填し、そ
の後（ホ）において平坦に研削・研摩してギャップ面と
する。このギャップ面２６上には薄膜コイルが形成され
るため、第４図（チ）における結合工程における加熱温
度よりも、上記充填材の軟化、変形温度が高いことが望
ましい。従って充填材１７としてＬｆＳｉＯｘ、Ａ　Ｑ
ｚＯａ、２Ｍｇ０・５ｉＯｘ（フォルステライト）等の
高融点のセラミックスや酸化物、高融点ガラス、高耐熱
性樹脂などが用いられる。また、充填材１７として充填
工程における溶融温度は低く、その後の熱処理すること
により結晶化して溶融温度が高くなる結晶化ガラスを用
いた場合、結合工程における加熱温度を高めることが出
来るため、好ましい。結合材１６としては、充填材の軟
化・変形温度よりも低い温度で溶融・固化することが望
ましく、低融点ガラス。

樹脂あるいは低融点金属などが用いられる。充填１７の
軟化・変形温度が結合工程における加熱温度と近い場合
には、薄膜コイルの変形、断線、短絡を防ぐ上で、薄膜
コイルの下層にＳ　ｉＯｘ　ｐＡＱｚＯｓなどの高融点
非磁性絶縁膜からなる補強層を１μｍ以上形成すること
が効果がある。

本実施例の磁気ヘッドにおいて、磁路を構成する金属磁
性膜のみの構造を第５図に示した。第５図（、）は、第
４図の磁気ヘッドの製造方法の１例に示したごとく、基
板の山型形状の突起部の両側面に金属磁性膜を被着した
後、Ｃコアブロックに薄膜コイルが貫入するための巻線
溝が加工された例であり、Ｃコアブロックの金属磁性膜
３６に巻線溝３８が施されている。第５図（ｂ）はもう
一つの実施例における金属磁性膜を示したものであり、
第４図の製造方法において第４図（イ）の基板１０の山
型形状の突出部の先端の一部にあらかじめ巻線溝を加工
し、次いで金属磁性膜を被着して、その後前記と同様の
方法により製造した磁気ヘッドの例である。第５図（ｂ
）の場合はＣコアブロックの金属磁性膜３６の巻線溝３
８の底面にも金属膜が被着されるため磁路の断面積が増
加して記録再生特性の向上に有利であるという特徴を有
する。

しかし、本磁気ヘッドを製造する場合にはあらかじめ、
基板に設けた巻線溝と同じ位置に第４図（へ）において
充填材を取除くために再度溝２７を加工する必要があり
、この溝を機械加工により形成する場合には加工精度を
向上するのが難かしく、第５図（ｂ）のＣコアブロック
の金属磁性膜３６あるいは巻線溝底面の金属磁性膜を傷
つける場合がある。従って第５図（ａ）に示した構造が
量産性に優れ、また良品の歩留まりを高く維持できる。

他の実施例における金属磁性膜の構造を第５図（ｃ）〜
（ｆ）に示した。第５図（ｃ）は■コアブロックの金属
磁性膜３７の形状は前記の実施例と同様にし、Ｃコアブ
ロックの金属磁性膜３６における後部コンタクト部２１
′を広くし、後部コンタクトをより確実にして記録・再
生特性の向上、出力ばらつきの低減を図ったものである
。このＣコアブロックの製造方法の１例を第６図に示し
た。

第６図（イ）においてＣコアブロックとなるべき基板１
０に磁気ヘッドの記録媒体対向面近傍となるべき部分に
山型形状の突出部１１を設け、さらに後部コンタクト部
になるべき部分に突出部３９を設ける。この上に第６図
（ロ）において金属膜性膜１２を被着し、さらに機械加
工法、もしくは薄膜加工法により金属磁性薄膜を加工し
、金属磁性薄膜の幅ＭＷを規制する。あるいはマスクス
パッタ法、マスク蒸着法により所定の幅となるように金
属磁性膜を被着してもよい。

第５図（ａ）に示したもう一つの実施例では、Ｃコアブ
ロックの金属磁性膜の形状は（Ｑ）と同じとし、エコア
ブロックの金属磁性膜３７の後部コンタクト部２１も広
くして、後部コンタクトをさらに確実にしたものである
。このエコアブロックの製造方法の一例を第７図に示し
た。第７図（イ）においてエコアブロックとなるべき基
板１０に、磁気ヘッドの記録媒体対向面近傍となるべき
部分に山型形状の突出部１１を設け、後部コアが形成さ
れる部分は平坦とする。次いで第７図（ロ）において金
属磁性膜を被着し、前記と同様に加工する。本実施例の
エコアブロックに薄膜コイルを形成する場合には、薄膜
コイルを充填材の上に形成する必要がないため、接合工
程における加熱より薄膜コイルの変形、断線、短絡の問
題を生ずる可能性が小さいというメリットがある。本実
施例におけるエコアブロックと他の実施例、例えば第５
図（ａ）、（ｂ）に示した磁気ヘッドのＣコアブロック
を組み合わせることも、もちろん可能である。

第５図（ｆ）に示したもう一つの実施例では、後部コア
における金属磁性膜の膜厚を厚くすることにより後部コ
ンタクト部を広くしている。これにより後部コンタクト
を確実にし磁気抵抗を低減して、記録再生効率を高め、
また出力のばらつきを低減することが出来る。本実施例
の磁気ヘッドを製造するには、第４図（ロ）の金属磁性
膜の被着工程において、第８図に示したように、磁気ヘ
ッドの記録媒体対向面となるべき部分の近傍を除いて後
部コア部分に金属磁性膜４０をマスクスパッタ法あるい
はマスク蒸着法などにより選択的に被着する。

以上の実施例においては薄膜巻線はすべて平坦なエコア
ブロック上に形成し、Ｃコアブロックには薄膜巻線と接
触しないような巻線溝を形成した。

この構成では簿膜巻線が平坦なエコアブロック上に形成
できるため薄膜巻線のパターン精度が向上し、巻線の歩
留りが向上するという利点がある。

しかし、本発明の磁気ヘッドでは上記構成に限定する必
要はなく、薄膜コイルをＣコアブロックの巻線溝中に形
成してもよい。第１図および第４図に示した磁気ヘッド
の例では、第１図（Ｃ）および第４図（ト）に示したＣ
コアブロックの後部コンタクト部の突起２１′を第１図
（ｂ）および第４図（へ）に示したエコアブロック上の
後部コンタクト部２１に緊密に接触させる必要があり、
この際Ｃコアブロックの後部コンタクト部２１′をエコ
アブロックの薄膜コイルの中央にあけられた狭い穴を貫
入させる必要があり、この工程において後部コンタクト
部２１′が薄膜コイルの一部に接触して後部コンタクト
部２１′あるいは薄膜コイルが損傷を受ける可能性があ
る。このような問題を解決するためには第１図（ｃ）の
Ｃコアブロックの溝部２２あるいは、第４図（ト）のＣ
コアブロックの溝部２７．２８および２９に薄膜コイル
を形成するとよい。このような構成にすることにより、
Ｃコアブロックとエコアブロックの接合工程において後
部コンタクト２１′および薄膜コイルを損傷することな
く、特性の優れた磁気ヘッドを歩留まりよく製造するこ
とが出来る。上記と同様に、第５図および第６図に示し
た磁気ヘッドにおいても、Ｃコアブロックに薄膜コイル
を形成してもよい。

また第５図（ｓ）に示したように、薄膜コイルを形成し
た２個のＣコアブロックより磁気ヘッドを構成してもよ
い。このようにした場合薄膜コイルの巻数は２倍にする
ことが出来るため、コイル抵抗をあまり大きくすること
なく出力の増大を図ることが出来る。

本発明の実施例の磁気ヘッドの特性を従来の磁気ヘッド
と比較して第９図に示した。第９図（、）は磁気ヘッド
の種類によるインダクタンスの変化を示したものである
。従来型磁気ヘッドは第２図に示した磁気ヘッドであり
、Ａに基板をＭ　ｎ　Ｚ　ｎフェライトＢに非磁性Ｚｎ
フェライトした場合を示した。また、Ｃは第１図に示し
た実施例のヘッドであり、基板としてＭｎ０−Ｎｉ０酸
化物の混合焼結材を用いた。金属磁性膜としては。

Ｇｏδ番ＮｂｘｓＺｒｓ　（ａ　ｔ％）の組成を有する
非晶質合金膜を用い、高周波２極スパツタリング法によ
り形成した。いずれの磁気ヘッドもトラック幅は３０μ
ｍ、ギャップ長は０．３μｍ　、ギャップデプスは２０
μｍ、非晶質合金の膜厚（第４図（ロ）中ｔ）は１５μ
ｍである。また従来型ヘッドのコア厚（第２図中Ｔ）お
よび第１図の実施例の磁気ヘッドの金属磁性膜の幅（第
１図（ハ）中ＭＷ）は１４０μｍとした。また、従来型
磁気ヘッドの磁路長（巻線窓の周囲長は２．４＋＋ｍ、
本実施例の磁気ヘッドの磁路長は０．４６ｍｎである。

第９図（、）のように、巻数１７ターンとした時の５Ｍ
　Ｈｚのインダクタンスは、フェライト基板を用いた従
来型磁気ヘッドで大きく、この基板を非磁性基板とした
場合には約半分に減少している。本実施例の磁気ヘッド
では、金属磁性膜の体積が減少し、もれ磁束が低減した
ためにインダクタンスがさらに減少した。第９図（ｂ）
には、インダクタンスを１μＨに合わせた時の５　Ｍ　
Ｈｚの記録・再生出力を示した。なお、記録再生出力の
測定にはＨｃ　１３０００　ｅのメタルテープを用い、
相対速度を５．７ｍ　とした。図のように、フェライト
基板を用いた従来型磁気ヘッドの出力に比較して、非磁
性基板を用いた従来型磁気ヘッドの出力は２ｄＢ向上し
、本実施例の磁気ヘッドはさらに３ｄＢの出力向上が得
られた。このように、本実施例の磁気ヘッドにおいて巻
線を薄膜作製工程、および薄膜加工工程によって形成す
ることにより、磁路長を減少し、出力の大幅な向上が得
られることが確認された。

第１０図は、本実施例の磁気ヘッドの特性を第３図に示
した従来の薄膜磁気ヘッドの特性と比較して示したもの
である。従来の簿膜磁気ヘッドは通常金属磁性膜の膜厚
が３μｍ以下であるが、ここではギャップデプスＧｄを
大とした時の記録・再生特性を維持するために膜厚を３
０μｍとしたヘッドについて特性を測定した。ギャップ
デプスＧｄ、トラック幅Ｔｗ、ギャップ長、磁路長金属
磁性膜の幅ＭＷは前述の本実施例の磁気ヘッドと同じと
した。また金属磁性膜としては、前記と同様にＣｏ　Ｎ
　ｂ　Ｚ　ｒ非晶質合金スパッタ膜を用いた。

第１０図（ａ）は本実施例の磁気ヘッドの特性（Ｂ）と
従来の薄膜ヘッドの特性（Ａ）について、インダクタン
スＬと損失抵抗Ｒの周波数変化を測定したものである。

図のように低周波においては本実施例の磁気ヘッドは、
従来の薄膜磁気ヘッドより低いインダクタンスを示す。

これは従来の薄膜磁気ヘッドの金属磁性膜が磁性膜の幅
ＭＷにわたって上部コアと下部コアが短かい距離をおい
て対向しておりこのために上部コアと下部コア間のもれ
磁束が増加し、インダクタンスが増加するためである。

一方、本実施例の磁気ヘッドでは、第１図のようにＩコ
アブロックとＣコアブロックの金属磁性膜は、記録トラ
ック幅を構成する部分以外は離れており、このためもれ
磁束が減少しインダクタンスが減少する。また、第１０
図（ａ）において従来の薄膜磁気ヘッドは高周波でイン
ダクタンスの低下が著しいのに対して、本実施例の磁気
ヘッドでは、高周波におけるインダクタンスの変化はほ
とんど見られない。これは従来の薄膜磁気ヘッドにおけ
る金属磁性膜が３０μｍと厚く、渦電流損失により高周
波での透磁率の減少が著しいのに対して、本発明の磁気
ヘッドにおいては３０μｍの金属磁性膜が山型形状の基
板により二枚に別けられた構造となっているため、渦電
流損失が減少し、高周波における透磁率の減少が少ない
ためである。上記の差はへラドコアの損失抵抗にも現わ
れており、本発明の磁気ヘッドは従来の薄膜ヘッドより
も損失抵抗が小さい。損失抵抗の減少はヘッドのインピ
ータンスノイズを低減させる効果があり、特に高周波に
おいて用いられる磁気ヘッドにおいてこの効果は顕著で
あるため、本実施例の磁気ヘッドは１０　Ｍ　Ｈｚ以上
の高周波において用いられる磁気ヘッドとして有用であ
る。

また１本実施例の磁気ヘッドにおいて金属磁性膜をＳ　
ｉ　Ｏｘ　、　Ａ　Ｑ　２０８などの絶縁膜を介して積
層した場合には、高周波における出力をさらに向上し、
損失抵抗を減少させるのに効果がある。

第１０図（ｂ）には本実施例の磁気ヘッドと従来の薄膜
磁気ヘッドの記録再生出力の周波数特性を示した。Ａに
従来の薄膜磁気ヘッドの特性を示し、Ｂに本実施例の特
性を示す。出力の測定方法は前記と同様とした。図のよ
うに従来型薄膜磁気ヘッドの出力に比較して、本実施例
の磁気ヘッドは１〜４ｄＢ高い出力を示し特に高周波の
出力において優れている。また従来の薄膜磁気ヘッドは
コンタ−効果のために周波数に対して出力が変動する挙
動を示しているのに対して１本実施例の磁気ヘッドでは
このような問題は見られない。これは、従来の薄膜磁気
ヘッドにおいては、記録媒体対向面におけるギャップ面
と金属磁性膜の端面が平行であるのに対して、本実施例
の磁気ヘッドでは、ギャップ面と金属磁性膜の端面が非
平行となっているためである。なお、比較に用いた従来
の薄膜磁気ヘッドの金属磁性膜の膜厚を３０μｍより減
じた場合には、第１０図（ａ）において損失抵抗が減少
し、インダクタンスの周波数特性が良好となるが、記録
特性が劣化するために第１０図（ｂ）に示した出力が低
下するという問題を生ずる。

次に本発明の他の実施例を詳細に説明する。

第１１図（ａ）は本発明の他の実施例の磁気ヘッドの構
造の１例を示す斜視図であり（ｂ）。

（ｃ）はこのヘッドをギャップ面からエコアブロックお
よびＣコアブロックに別け、それぞれギャップ面側から
見た分解図である。５０は非磁性材からなる基板であり
、基板の一部に設けたギャップ面と非平行な斜面５１に
金属磁性膜５２が形成されており、ギャップ材５３を挟
んで、平坦に加工された前記磁性膜の先端同志が相対峙
するように■コアブロック５７およびＣコアブロック５
８が接合材５９によって接合一体化されている。基板に
斜面５１を形成することによって生じた溝には充填材７
０が充填されている。■コアブロック５７の平坦に加工
されたギャップ面上には、第１１図（ｂ）のように蒸着
・スパッタリング等の薄膜作製工程によりＣｕ、ＡＱな
どの導電性金属膜が形成され、さらにフォトリソグラフ
ィー法などの薄膜加工工程により、薄膜巻線７１および
端子部７２が形成されている。Ｃコアブロック５８には
、第１１図（ｃ）のようにヘッドの少なくとも前部コン
タクト部６３′および後部コンタクト部６４′がそれぞ
れ■コアブロック５７の前部コンタクト部６３および後
部コンタクト部６４と接触するようにし、かつエコアブ
ロックの薄膜巻線６１とＣコアブロックが接触しないよ
うに巻線用溝６５，６６．６７が設けられている。上記
のように本発明の磁気ヘッドにおいては、巻線として薄
膜工程により作製した薄膜巻線６１を用いるために、前
部コンタクト部６３と後部コンタクト部６４の間隔を小
さくすることが出来、磁路長を小さく出来るために記録
・再生効率の優れたヘッドが実現できる。ここで、本発
明の磁気ヘッドにおける磁路長とは、巻線用溝６５を周
回する金属磁性膜の長さに相当する。

本発明の磁気ヘッドにおいて、第１図（ａ）に示した斜
面５１とギャップ面のなす角度θは、９０″から１５０
°の間とするのが好ましい。０が９０′以下の場合には
斜面上に金属磁性膜が付着する効率が著しく低下し、か
つ磁気特性も劣化する。θが１５０６以上の場合はトラ
ック幅に対して実効的な膜厚が減少するためヘッドの磁
気回路の磁気抵抗が増大し、記録・再生効率が低下する
。

上記本発明の磁気ヘッドの製造方法の１例を以下に説明
する。（ｉ）第１２図（イ）において。

非磁性からなる基板５０に溝６８を加工し、ギャップ面
となるべき面から角度Ｏ傾斜した斜面５１を形成する。

　　（ｉｉ）次に第１２図（ロ）において基板表面全体
に金属磁性膜１２を被着する。この際、斜面５１にのみ
金属磁性膜が付着し、もう一方の斜面６９には金属磁性
膜が付着しないように、蒸着あるいはスパッタ粒子の入
射方向と基板面の垂直方向を図のように傾けるとよい。

また、基板表面の垂直方向と粒子の入射方向を傾けない
場合には、斜面６９にも金属磁性膜が付着するが、この
部分の金属磁性膜は機械加工によって取除くか、あるい
はイオンエツチング、ウッドエツチングなどによって取
除くとよい。（■）次に第１２図（ハ）において、不必
要な金属磁性膜を取り除くために溝７０を加工する。（
Ｋ）次に第１２図（ニ）においてガラスなどの充填材６
０を用いて溝６８および７０を充填する。あるいは非磁
性のセラミックス、ガラス等をスパッタリング法、蒸着
法あるいは化学的気相成長法などの薄膜形成法により被
着して、溝６８および７０を充填してもよい。特に、セ
ラミクスの一種として、２Ｍｇ０゜Ｓ　ｉ　Ｏｚの組成
を有するフォルステライトは、蒸着法によって高い成膜
速度で形成できるため、本磁気ヘッドの充填材として優
れている。

（ｖ）次に第１２図（ホ）において、基板上に形成した
充填材および金属磁性膜を研削、研摩により平坦にし、
ギャップ面７１を得る。（ｖｉ）次に第１２図（へ）ニ
おイテ、Ｓ　ｉ　Ｏｘ　、　Ａ　Ｑ　ｘｏａなどの非磁
性絶縁材からなるギャップ材５３を被着し、（カ）さら
に薄膜作製工程および薄膜加工工程により薄膜巻線６１
および端子部６２が形成される。ここで薄膜加工工程と
は、薄膜の表面に感光性レジストを塗布する工程、フォ
トマスクを通してレジストを露光・現像し所定のレジス
トパターンを得る工程、さらにこのレジストパターンを
マスクとしてイオンエツチング、ウェットエツチング、
あるいはリフトオフ法、メッキ法などにより所定の巻線
のパターン形状に導電材を加工する工程である。この工
程には、コイル間の絶縁に必要な絶縁膜の形成・加工も
含まれる。（ｖｉｉｉ）次に第１２図（へ）において、
Ｃコアブロックとなるべき部分にコイルを収容するため
の巻線用溝６５および６６が設けられる。　　（ｉｘ）
次に第１２図（へ）において、二点鎖線部より切断して
エコアブロック５７とＣコアブロック５８を得る。

（Ｘ）次に第１２図（ト）において、Ｃコアブロックに
コイルを収容する巻線用溝６７を形成する。

（Ｘｉ）さらに前部コンタクト部６３′を残して少なく
とも後部コンタクト部６４′のギャップ材５３をイオン
エツチング法等により取除＜、エコアブロックに関して
も同様の工程を行う。次いで、（Ｘｉｉ）第１２図（チ
）において、■コアブロック５７とＣコアブロック５８
を、ギャップ材５３を介して金属磁性膜同志が相対峙す
るように接合し、ガラス、樹脂などからなる接合材５９
を前記溝６５．６６．６７に充填・固化してＣコアブロ
ックとエコアブロックを一体化する。　　（ｘｉ）次い
で第１２図（チ）において二点線線部を切断して第１図
に示したと同様の磁気へラドコア７２を得る。

本発明の実施例において、記録媒体対向面７３の幅ＣＷ
は絞り部７４を設けることによりコア全体の厚さＴより
も減少しである。これにより、記録媒体との接触を改善
し、出力の向上を図ることが出来る。

上記磁気ヘッドの製造方法は１つの例であり、製造方法
の各工程において他の方法がある。第１２図に示した方
法では、■コアブロック５７とＣコアブロック５８は−
っの基板５ｏより作製しタカ、■コアブロック用基板お
よびＣコアブロック用基板を別々に用意してもよい、基
板を別にすることにより■コアブロック上に形成する薄
膜コイルの実装密度を高めることが出来る。また、工程
（Ｘｉ）は工程（ｖｉｉ）あるいは（報）あるいは（故
）の次に行ってもよい。また、ギャップ材が薄い場合に
はこの工程を省略してもよい。

本実施例の磁気ヘッドでは、第１２図（ハ）において溝
７０を入れることにより、磁気ヘッドの磁路となる金属
磁性膜の表面積を必要最小限にすることが出来る。すな
わち第１２図（へ）において、磁気ヘッドの磁路となる
金属磁性膜７５に接続し、後部コンタクト部６４および
６４′よりも記録媒体対向面から離れた位置にある金属
磁性膜７６は磁気ヘッドの磁路としては作用せず、逆に
ヘッド外からの雑音磁界をひろい、またもれ磁束を発生
することによりインダクタンスを増加する原因となるた
めに有害である。溝７０は磁気ヘッドの磁路となる金属
磁性膜７５と不用な金属磁性膜７６を磁気的に分離し、
上記の不都合を解決する上で有効である。

本実施例の磁気ヘッドにおいて、第１２図（チ）に示し
た金属磁性膜の幅ＭＷは磁気ヘッドの磁路の幅となるた
め、小さすぎるときは磁気抵抗が増大して記録再生特性
が劣化し、また必要以上に大きすぎる時には金属磁性膜
表面からのもれ磁束が大きくなるためインダクタンスが
増大し、インダクタンス当りの出力がかえって減少して
しまう。

従って金属磁性膜の幅ＭＷの値としてトラック幅の１．
５倍〜２０倍が適当である。

本実施例の磁気ヘッドの特性は第１図に示した実施例と
ほぼ同じものが得られる。

以下本発明のさらに他の実施例を説明する。

第１−３図（ａ）は本発明の磁気ヘッドの構造の１例を
示す斜視図であり、（ｂ）、（ｃ）はこのヘッドをギャ
ップ面からエコアブロックおよびＣコアブロックに別け
、それぞれギャップ面側から見た分解図である。８０は
非磁性材からなる基板であり、基板の一部にその界面が
ギャップ面と非平行な溝８１を設け、この溝中に埋める
かごとく金属磁性膜８２が形成されており、ギャップ材
８３をはさんで、平坦に加工された前記磁性膜同志が相
対峙するようにエコアブロックおよびＣコアブロック９
２が接合材９３によって接合一体化されている。エコア
ブロック９１の平坦に加工されたギャップ面上には、第
１３図（ｂ）のように蒸着・スパッタリング等の薄膜作
製技術により、Ｃｕ、ＡΩなどの導電性金属膜が形成さ
れ、さらにフォトリソグラフィー法などの薄膜加工技術
により、薄膜巻線９４および端子部２５が形成されてい
る。Ｃコアブロック９２には、第１３図（Ｃ）のように
ヘッドの少なくとも前部コンタクト部９６′および後部
コンタクト部９７′がそれぞれエコアブロックの前部コ
ンタクト部９６および後部コンタクト部９７と接触する
ようにし、かつエコアブロックの薄膜巻線９４とＣコア
ブロックが接触しないように、巻線用溝９８，９９，１
００が設けられている。上記のように本実施例の磁気ヘ
ッドにおいては、巻線として薄膜作製技術および薄膜加
工技術により作製した薄膜巻線９４を用いるために、前
部コンタクト部９６．９６’と後部コンタクト部９７．
９７’の間隔を小さくすることが出来、磁路長を小さく
出来るために記録・再生効率の優れたヘッドが実現でき
る。ここで本実施例の磁気ヘッドにおける磁路長とは、
巻線用溝９８を周回する金属磁性膜の長さに相当する。

また、基板に設ける溝８１の界面がギャップ面と非平行
となるために、金属磁性膜１２と基板８０との界面がギ
ャップと非平行となり、従ってコンタ−効果のない、優
れた特性を有する磁気ヘッドが得られる。

上記本実施例の磁気ヘッドの製造方法の１例を以下に説
明する。（ｉ）第１４図（イ）において、非磁性材から
なる基板８０に、その界面がギャップ面と非平行となる
ようなＷ２Ｂ５および巻線用溝９８を加工する。（ｉｔ
）次に第４Ｗｉ（ロ）において基板表面全体に金属磁性
膜８２を被着する。

（ｉｉｉ　）次に第１４図（ハ）において、基板の表面
を研削・研摩により平坦にし、ギャップ面１０１を得る
。　　（ｉｖ）次に第１４図（ニ）において。

Ｓ　ｉ　Ｏｘ　、　Ａ　Ｑ　ｘｏｓなどの非磁性絶縁材
からなるギャップ材８３を被着し、（Ｖ）さらに薄膜作
製工程および薄膜加工工程により薄膜巻線９４および端
子部９５を形成する。ここで薄膜加工工程とは、薄膜の
表面に感光性レジストを塗布する工程、フォトマスクを
通してレジストを露光・現像し所定のレジストパターン
を得る工程、さらにこのレジストパターンをマスクとし
てイオンエツチング、ウェットエツチング、あるいはメ
ッキ法、リフトオフ法などにより所定の巻線のパターン
形状に導電材を加工する工程である。この工程には、コ
イル間の絶縁に必要な絶縁膜の形式・加工も含まれる。

（員）次に第４図（ニ）において、Ｃコアブロックとな
るべき部分に巻線を収容するための巻線用溝９９を形成
する。（、ｉｉ）次に第１４図（ニ）において、二点鎖
線部より切断してＩコアブロック９１とＣコアブロック
９２を得る。（ｖｆｆｌ）次に第１４図（ホ）において
、Ｃコアブロック９２に巻線を収容する巻線用溝１００
を形成する。（ｉｃ）さらに作動ギャップ部１０１を残
して少なくとも後部コンタクト部９７′のギャップ材８
３をイオンエツチング法等により取除く。エコアブロッ
クに関しても同様の工程を行う。次いで、（ｘ）第１４
図（へ）において、エコアブロック９１とＣコアブロッ
ク９２を、ギャップ材を介して金属磁性膜同志が相対峙
するように接合し、ガラス、樹脂などからなる接合材９
３を前記溝９８，９９゜１００に充填、固化してＣコア
ブロックとエコアブロックを一体化する（カ）次いで第
１４図（へ）において二点鎖線部を切断して第１３図に
示したと同様の磁気へラドコア１０３を得る。本発明の
実施例において、第１−４図（へ）に示したヘッドコア
１０３の記録媒体対向面１０４の幅ＣＷは、絞り部１０
５を設けることによりコア全体の厚さＴよりも減少しで
ある。これにより、記録媒体との接触を改善し、出力の
向上を図ることが出来る。

上記磁気ヘッドの製造方法は１つの例であり、製造方法
の各工程において他の方法がある。第１４図に示した方
法では、エコアブロック２１とＣコアブロック２２は一
つの基板８０より作製したが、エコアブロック用基板お
よびＣコアブロック用基板を別々に用意してもよい。基
板を別々にすることによりエコアブロック上に形成する
薄膜コイルの実装密度を高めることが出来る。−力筒１
４図のようにＣコアブロックとエコアブロックを同一の
基板に形成することにより、同一の溝中に形成した金属
磁性膜から記録トラックを形成することが出来る。この
ことは磁気ヘッドのトラックずれを防止し、トラック幅
精度を向上する上で効果がある。

本実施例の磁気ヘッドでは、第１４図（ニ）および（ホ
）において、溝９９および１００を入れることにより余
分な金属磁性膜を除去し、磁気ヘッドの磁路となる金属
磁性膜の表面積を必要最小限にすることが出来る。溝１
００により溝９８の底部の金属磁性膜を除去しない時に
は、Ｃコアブロックにおける溝９８の底部に存在する金
属磁性膜の表面積が大きいためにインダクタンスが増加
し、インダクタンス当りの出力がかえって減少してしま
う。

第１４図に示した磁気ヘッドの製造方法において、第１
４図（イ）の溝８１．溝９８．（ニ）の溝９９．（ホ）
の溝１００の加工方法としてダイヤモンドブレード等を
用いた機械加工法と、フォトリソグラフィー法によって
形成したマスクを用いて、イオンエツチング法あるいは
ウェットエツチング法などにより所定の位置に溝を形成
するいわゆる薄膜加工法がある。薄膜加工法は加工精度
が高いため、第１４図の溝８１．９８，９９゜１００を
高精度で加工する方法として優れている。

しかし、本実施例の磁気ヘッドでは前記のように金属磁
性膜の膜厚を５μｍ以上とするために、溝８１の深さを
５μｍ以上とする必要がある。またもれ磁束を低減しイ
ンダクタンス当りの出力を高め、さらにコイル抵抗が低
い磁気ヘッドを得るためには、溝９８，９９，１００の
深さを少なくとも５μｍ以上とする必要がある。以上の
ように本実施例の磁気ヘッドでは各種溝の加工量が大き
いためイオンエツチングあるいはウェットエツチング法
では加工時間がかかりすぎ、また、加工面の仕上りも悪
くなってしまう。従って上記溝の加工をダイヤモンドブ
レード等を用いた機械加工法によって行うのが加工時間
を短縮し量産性を向上する上で好ましい。

本実施例の磁気ヘッドにおいては、第１４図（イ）の溝
８１の幅がヘッドのトラック幅を規制するため特に溝８
１の加工精度を高くする必要がある。しかし上記のよう
に、この溝は機械加工により形成することが望ましく、
機械加工により形成した場合には加工精度が不十分な場
合がある。

上記問題を解決するために、第１４図（ハ）のギャップ
面形成後、第１５図に示したようにトラック幅規制用の
溝１０６を薄膜加工法により形成するとよい。このトラ
ック幅規制溝１０６は金属磁性膜８２の全長にわたって
形成してもよいが、第１５図に示したように、エコアブ
ロック８１およびＣコアブロック８２の記録媒体対向面
の近傍となるべき部分のみに設けるのが好ましい。本実
施例の磁気ヘッドにおいて磁路となる金属磁性膜を取り
出した斜視図を第１６図に示した。なお、本図において
エコアブロックとＣコアブロックの金属磁性膜をギャッ
プ面から分離して示しである。

第１６図（ａ）は第１３図および第１４回に示しく５０
） た磁気ヘッドの金属磁性膜であり、■コアブロックの金
属磁性１１１１０７とＣコアブロックの金属磁性膜１０
８が、前部コンタクト部９６．９６’および後部コンタ
クト部９７．９７’で、少なくとも前部コンタクト部は
ギャップ材を介して接触し、磁気回路を構成する構造と
なっている。第１５図のようにトラック幅規制溝１０６
を加工した場合には、磁気ヘッドの金属磁性膜の構造は
第１６図（ｂ）のようになり、記録媒体対向面の近傍の
み金属磁性膜の幅が狭くなる。このような構造とした場
合には後部コンタクト部の面積を小さくすることなくト
ラック幅を狭小化することが出来るため、後部コンタク
ト部の磁気抵抗が減少し、また記録媒体対向面の近傍で
は磁束の絞り効果が生ずるために記録・再生効率を向上
することが出来る。

なおトラック幅規制用の溝１０６はＣコアブロックのみ
、または■コアブロックのみに形成してもよい。

磁気ヘッドの他の例として、第１６図（ｃ）のように、
記録媒体対向面１０４の近傍のみ金属磁性膜の界面がギ
ャップ面と非平行にし、記録媒体対向面１０４から離れ
た部分ではギャップ面と平行な平板状の金属磁性膜から
磁気ヘッドを構成してもよい。これによりトラック幅Ｔ
ｗに比較して後部磁気回路および後部コンタクト部の磁
路幅が増大でき、記録再生効率を向上することが出来る
。

本実施例の磁気ヘッドの特性を従来の磁気ヘッドと比較
して第１７図に示した６第１７図（ａ）は磁気ヘッドの
種類によるインダクタンスの変化を示したものである。

Ａの従来型磁気ヘッドは、基板をＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェ
ライトとしたものである。

Ｂ、Ｃはそれぞれ第１３図、第１６図（ａ）に示した磁
気ヘッド、およびトラック幅規制溝を設けた第１６図（
ｂ）に示した磁気ヘッドである。これらはいずれも基板
としてＭｎＯ，Ｎｉ○酸化物の混合焼結材を用いた。従
来の磁気ヘッドおよび本実施例の磁気ヘッドとも金属磁
性膜として、ＣｏｍｔＮｂｌｓＺｒｓ　（ａ　ｔ％）の
組成を有する非晶質合金膜を用い、高周波２極スパツタ
リング法により形成した。接合材としては低融点ガラス
を用いた。いずれの磁気ヘッドもトラック幅は３０μｍ
、ギャップ長は０．３μｍ、ギャップデプスは２０μｍ
、非晶質合金の膜厚（第１４図（ハ）中ｔ）は３０μｍ
である。また従来型ヘッドのコア厚は１４０μｍとした
。また、従来型磁気ヘッドの磁路長（巻線窓の周囲長）
は２．４ｍｍ、本実施例の磁気ヘッドの磁路長は０．４
６ｍｎである。第１７図Ｃａ）のように、巻数１７ター
ンとした時の５Ｍ　Ｈｚのインダクタンスは、フェライ
ト基板を用いた従来型磁気ヘッドにおいて大きく、基板
を非磁性材として磁性体の表面積を減少させた磁気ヘッ
ドでは、インダクタンスが大幅に減少した。第１７図（
ｂ）には、インダクタンスを１μＨに合わせた時の５　
Ｍ　Ｈｚの記録再生出力を示した。なお、記録再生出力
の測定にはＨｃ　１３０００　ｅのメタルテープを用い
、相対速度を５．７ｍとした。

図のように、従来の磁気ヘッドに比較して第１３図に示
した磁気ヘッドは出力が４ｄＢ向上し、トラック幅規制
溝を設けた第１６図（ｂ）に示した磁気ヘッドは従来の
磁気ヘッドに比較して５ｄＢの大幅の出力の増加が得ら
れた。このように基板を非磁性材とし、さらに巻線を薄
膜作製工程および薄膜加工工程によって形成することに
より、磁路長を減少し、単位インダクタンス当りの出力
を大幅に向上することが出来た。

第１８図は、本実施例の磁気ヘッドの記録・再生出力の
周波数特性を第３図に示した従来の薄膜磁気ヘッドの特
性と比較して示したものである。

薄膜磁気ヘッドの金属磁性膜の膜厚は２μｍとした。ま
た、ギャップデプスＧｄ、トラック幅Ｔｗ。

ギャップ長、磁路長は前述の本実施例の磁気ヘッドと同
じとした。また、記録・再生特性の測定方法も前記と同
じとした。金属磁性膜としては、前記と同様にＣｏ　Ｎ
　ｂ　Ｚ　ｒ非晶質合金スパッタ膜を用いた。第１８図
のようにＡに示した膜厚２μｍの従来の薄膜磁気ヘッド
は膜厚に較べてギャップデプスが大きいために記録・再
生特性が著しく劣化しており、またギャップ面と金属磁
性膜の界面が平行となっているためコンタ−効果を生じ
、出力が周波数とともに波を打つ挙動を示している。−
方、Ｂに示した第１６図（ｂ）の実施例の磁気ヘッドは
再生出力が優れ、かつコンタ−効果が見られない。この
ように、本発明の磁気ヘッドでは金属磁性膜の膜厚を厚
くしかつその界面をギャップ面と非平行としているため
、コンタ−効果がなく、かつ大きいギャップデプスに対
しても優れた記録・再生特性が得られる。

〔発明の効果〕

以上述べたように、本発明の磁気ヘッドは少なくとも記
録媒体対向面の近傍部の基板上に作動ギャップ部を除い
て基板との界面が作動ギャップと非平行された金属磁性
膜を有する２個のブロックの少なくとも一方に薄膜巻線
を形成し、上記ブロックを接合一体化することにより、
記録・再生効率が高く、コンタ−効果がなく、損失抵抗
が小さく、高周波特性、量産性に優れかつヘッド寿命の
長い磁気ヘッドが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す斜視図お
よび分解図、第２図は従来の磁気ヘッドを示す斜視図、
第３図は従来の磁気ヘッドを示す断面および平面図、第
４図は第１図に示した磁気ヘッドを製造する方法を示す
斜視図、第５図は本発明の磁気ヘッドの実施例において
金属磁性膜の構造を示す斜視図、第６図、第７図、第８
図は第５図に示した磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図
、第９図、第１０図は本発明の実施例の磁気ヘッドの特
性と従来の磁気ヘッドの特性を示す図、第１１図は本発
明の他の実施例を示す磁気ヘッドの斜視図および分解図
、第１２図は第１１図に示した磁気ヘッドを製造する方
向を示す斜視図、第１３図は本発明の磁気ヘッドのさら
に他の実施例を示す斜視図および分解図、第１４図、第
１５図は第１３図に示した磁気ヘッドを製造する方法を
示す斜視図、第１６図は金属磁性膜の構造を示す斜視図
、第１７図及び第１８図は本発明の実施例の磁気ヘッド
の特性を示す図である。 １０．５０，８０・・・基板、１１・・・突出部、１２
゜５２．８２・・・金属磁性膜、１３，５３，８３・・
・ギャップ材、１４，５７．９１・・・エコアブロック
、１５．５８．９２・・・Ｃコアブロック、１６，５９
゜９３・・・接合材、１７．６０・・・充填材、１８，
６１゜９４・・・薄膜巻線、２０，６３．９６・・・前
部コンタクト部、２１，６４．９７・・・後部コンタク
ト部、５１・・・斜面、８１・・・溝。 第　４　回 １３　・ギマッブ木ｆ ／６　・接合材 ３．５　　絞り舒 ｙ′塾緑輿 第９０ 第　ρ　口 間三友致（閂Ｈ’１つ 第　７２　図 ２３′・削杏ｐコンククト苦干 第　１２　　囚 、、３４　　おトリ剖 第　７７　　口 △ｂし

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に少なくとも記録媒体対向面の近傍部に作動
   ギャップ部を除いて該基板との界面が作動ギャップと非
   平行とされた金属磁性膜を形成した２個のブロックの少
   なくとも一方のブロックに、薄膜工程によつて巻線部を
   設け、前記金属磁性膜が記録トラックを形成するように
   前記２個のブロックを作動ギャップを介して接合一体化
   して構成したことを特徴とする磁気ヘッド。 ２、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて、
   上記基板は少なくとも記録媒体対向面の近傍部に山型形
   状の突起部を有し、上記両ブロックの該突起部は作動ギ
   ャップを介して互いに対向し、該突起部の上に上記金属
   磁性膜が設けられたことを特徴とする磁気ヘッド。 ３、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて、
   上記基板は少なくとも記録媒体対向面の近傍部にギャッ
   プ面と非平行な斜面を有し、該斜面上に上記金属磁性膜
   が設けられたことを特徴とする磁気ヘッド。 ４、特許請求の範囲第１項に記載の磁気ヘッドにおいて
   、上記基板は少なくとも記録媒体対向面の近傍部にその
   界面がギャップ面と非平行な溝を設け、該溝内に上記金
   属磁性膜が設けられたことを特徴とする磁気ヘッド。 ５、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて、
   上記金属磁性膜の膜厚を５μｍ以上とし、ギャップの深
   さを５μｍ以上でその磁路長を２ｍｍ以下とした磁気ヘ
   ッド。 ６、特許請求の範囲第１項に記載の磁気ヘッドにおいて
   、上記基板が非磁性材であることを特徴とする磁気ヘッ
   ド。 ７、特許請求の範囲第１項に記載の磁気ヘッドにおいて
   、前記薄膜巻線は基板上に形成された溝に充填された充
   填材の上に形成されてなることを特徴とする磁気ヘッド
   。 ８、特許請求の範囲第７項記載の磁気ヘッドにおいて、
   前記充填材が薄膜作製工程によつて形成された高融点非
   磁性酸化物であることを特徴とする磁気ヘッド。 ９、特許請求の範囲第７項記載の磁気ヘッドにおいて、
   前記充填材が加熱工程により溶融充填されたガラスであ
   ることを特徴とする磁気ヘッド。 １０、特許請求の範囲第９項記載の磁気ヘッドにおいて
   前記充填材と薄膜巻線の間に厚さ１μｍ以上の高融点非
   磁性材を介在させたことを特徴とする磁気ヘッド。 １１、特許請求の範囲第７項記載の磁気ヘッドにおいて
   、前記充填材の軟化、変形温度よりも低い温度で溶融・
   固化する結合材を用いて、前記２個のブロックは結合一
   体化されたことを特徴とする磁気ヘッド。 １２、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて
   、磁気ヘッドのコア厚よりも、前記金属磁質膜のトラッ
   ク幅方向の幅が小さいことを特徴とする磁気ヘッド。 １３、特許請求の範囲第１２項記載の磁気ヘッドにおい
   て、前記金属磁性膜のトラック幅方向の幅が基板に設け
   た溝によつて規制されていることを特徴とする磁気ヘッ
   ド。 １４、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて
   、後部コンタクト部より記録媒体対向面から離れた位置
   にある金属磁性膜と、後部コンタクト部との間に溝を設
   けることによりこれ等の間を磁気的に分離したことを特
   徴とする磁気ヘッド。 １５、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて
   、記録媒体対向面に絞り部を設けることにより、記録媒
   体対向面の幅をコア幅よりも小さくしたことを特徴とす
   る磁気ヘッド。 １６、特許請求の範囲第１２項または第１５項記載の磁
   気ヘッドにおいて、前記金属磁性膜のトラック幅方向の
   幅がトラック幅の１．５倍から２０倍であることを特徴
   とした磁気ヘッド。