JPS62279510A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS62279510A JPS62279510A JP12260686A JP12260686A JPS62279510A JP S62279510 A JPS62279510 A JP S62279510A JP 12260686 A JP12260686 A JP 12260686A JP 12260686 A JP12260686 A JP 12260686A JP S62279510 A JPS62279510 A JP S62279510A
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- magnetic head
- magnetic material
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、最短記録波長が１μｍ以下の高密度磁気記録
を行い、記録媒体としてメタルテープ等の高い抗磁力を
有する磁気テープを用いる場合にも適応し得る磁気ヘッ
ドに関するものである。
を行い、記録媒体としてメタルテープ等の高い抗磁力を
有する磁気テープを用いる場合にも適応し得る磁気ヘッ
ドに関するものである。
近年、抗磁力の高いメタルテープ等力＜ ６ｆｉ気テー
プとして用いられている。この磁気テープに信号を記録
したり、或いは、磁気テープの記録信号を再生する場合
、従来より用いられていた飽和磁束密度が５ｏｏｏガウ
ス程度の酸化物磁性材料から成る磁気ヘッドでは、記録
を十分に行うことができない。このため、飽和磁束密度
が５ｏｏｏ〜１００００ガウスの合金磁性材料から成る
磁気ヘッドが使われるようになった。しかし、磁気へラ
ドコア全体を合金磁性材料で構成すると、合金磁性材料
の固有抵抗値が低いということに起因して、表皮効果が
生じる。この結果、高周波数領域における透磁率が低下
し、磁気ヘッドのコア効率が低下するという問題があっ
た。
プとして用いられている。この磁気テープに信号を記録
したり、或いは、磁気テープの記録信号を再生する場合
、従来より用いられていた飽和磁束密度が５ｏｏｏガウ
ス程度の酸化物磁性材料から成る磁気ヘッドでは、記録
を十分に行うことができない。このため、飽和磁束密度
が５ｏｏｏ〜１００００ガウスの合金磁性材料から成る
磁気ヘッドが使われるようになった。しかし、磁気へラ
ドコア全体を合金磁性材料で構成すると、合金磁性材料
の固有抵抗値が低いということに起因して、表皮効果が
生じる。この結果、高周波数領域における透磁率が低下
し、磁気ヘッドのコア効率が低下するという問題があっ
た。
上記の問題を考慮して、磁気飽和の生じ易いギャップ近
傍のみを合金磁性材料で形成し、他の部分は高周波数領
域において高い透磁率を有する従来の酸化物磁性材料で
形成した複合型磁気ヘッドが提案されている。しかしな
がら、上記複合型磁気ヘッドにおいては、磁気テープ摺
動面が陶磁性材料により形成され、陶磁性材料がともに
磁気テープと接触するように用いられる場合には、磁気
テープ摺動面における陶磁性材料の接合部で磁気特性が
不連続となるため、所謂疑似ギャップ効果が生じ、磁気
ヘッドの性能が低下するという問題を有していた。
傍のみを合金磁性材料で形成し、他の部分は高周波数領
域において高い透磁率を有する従来の酸化物磁性材料で
形成した複合型磁気ヘッドが提案されている。しかしな
がら、上記複合型磁気ヘッドにおいては、磁気テープ摺
動面が陶磁性材料により形成され、陶磁性材料がともに
磁気テープと接触するように用いられる場合には、磁気
テープ摺動面における陶磁性材料の接合部で磁気特性が
不連続となるため、所謂疑似ギャップ効果が生じ、磁気
ヘッドの性能が低下するという問題を有していた。
本発明は、上記従来の問題点を考慮してなされたもので
あって、磁気テープ摺動面において磁気特性が不連続と
なるのを防止することにより、高い抗磁力を有する磁気
テープに信号を十分に記録し、かつ、この磁気テープの
記録信号を十分に再生することができる高性能な磁気ヘ
ッドの提供を目的とするものである。
あって、磁気テープ摺動面において磁気特性が不連続と
なるのを防止することにより、高い抗磁力を有する磁気
テープに信号を十分に記録し、かつ、この磁気テープの
記録信号を十分に再生することができる高性能な磁気ヘ
ッドの提供を目的とするものである。
本発明に係る磁気ヘッドは、上記の目的を達成するため
に、合金磁性材料層と酸化物磁性材料層とを有する磁気
へラドチップを備えた磁気ヘッドにおいて、磁気へラド
チップの磁気テープ摺動面は、上記合金磁性材料層と非
磁性材料層とから形成し、テープ摺動面には、酸化物磁
性材料層が存在しないように構成したことを特徴とする
ものである。
に、合金磁性材料層と酸化物磁性材料層とを有する磁気
へラドチップを備えた磁気ヘッドにおいて、磁気へラド
チップの磁気テープ摺動面は、上記合金磁性材料層と非
磁性材料層とから形成し、テープ摺動面には、酸化物磁
性材料層が存在しないように構成したことを特徴とする
ものである。
本発明の一実施例を第１図乃至第６図に基づいて以下に
説明する。
説明する。
磁気−＼ラドの一部を構成する磁気へラドチップは、第
１図に示すように、単結晶フェライト等から成る酸化物
磁性材料層２と、この酸化物磁性材料層２の前部に形成
され、セラミック或いはガラス等から成る非磁性材料Ｎ
３とから成る複合基板ｉｔ同士が、溶着用ガラス層６・
６により溶着されている。また、磁気ヘッドチ・ノブの
中央部には、前部から後部にかけて２つの■溝部・４が
点対象となるように形成されており、この■溝部には、
センダスト等から成る合金磁性材料層５・５と、上記溶
着用ガラス層６・６とが順に埋設して形成されている。
１図に示すように、単結晶フェライト等から成る酸化物
磁性材料層２と、この酸化物磁性材料層２の前部に形成
され、セラミック或いはガラス等から成る非磁性材料Ｎ
３とから成る複合基板ｉｔ同士が、溶着用ガラス層６・
６により溶着されている。また、磁気ヘッドチ・ノブの
中央部には、前部から後部にかけて２つの■溝部・４が
点対象となるように形成されており、この■溝部には、
センダスト等から成る合金磁性材料層５・５と、上記溶
着用ガラス層６・６とが順に埋設して形成されている。
したがって、磁気へラドチップのテープ摺動面は、非磁
性材料層３と合金磁性材料層５と溶着用ガラス層６とか
ら形成されている。
性材料層３と合金磁性材料層５と溶着用ガラス層６とか
ら形成されている。
また、一方の複合基板１には、上記Ｖ ’ｔ＃ ４に対
し直角方向に巻線溝８が形成されている。
し直角方向に巻線溝８が形成されている。
上記の構造の磁気ヘッドは、第２図に示す複合基板１を
以下の工程にて加工することにより製造される。上記複
合基板１は、単結晶フェライト等から成る酸化物磁性材
料Ｎ２とセラミック或いはガラス等から成る非磁性材料
層３とから構成されている。先ず初めに、第３図に示す
ように、複合基板１のギャップ形成面に、所定の間隔を
隔て、傾斜面と垂直面とから成るのこ歯状の■溝部・・
・を形成する。次に、第４図に示すように、スパッタリ
ング等の真空成膜技術を用いて、上記Ｖ溝４・・・の傾
斜面の表面と、ｖ溝４・・・が形成されていない上記ギ
ャップ形成面とに、１５〜３０．１７ ｍの厚みとなる
ように、センダスト等の合金磁性材料を成膜し、合金磁
性材料Ｎ５・・・を形成する。次いで、この合金磁性材
料層５・・・の溝部に溶着用ガラスを埋設し、溶着用ガ
ラス層６・・・を形成する。この後、第５図に示すよう
に、上記Ｖ溝部内に充填された、合金磁性材料層５・・
・及び溶着用ガラス層６・・・以外の合金磁性材料層５
・・・と溶着用ガラス層６・・・とを、加工歪が入らな
いように注意しながら研削、研磨し、ギャップ対向面を
鏡面仕上げにする。しかる後、上記鏡面仕上げを行った
面に、スパッタリング等によりＳｉＯ２等を０．２〜０
．４μｍの厚さに成膜し、ギャップ部材である非磁性膜
を形成し、非磁性膜形成基板を作製する。次いで、第６
図に示すように、この非磁性膜形成基板を２つ用意して
非磁性膜同士が密接するように配置した後、熱処理を行
うことにより非磁性膜形成基板同士を溶着し、複合磁性
材料ブロック７を作製する。なお、上記非磁性膜形成基
板のうち、少なくとも一方の基板には、前記合金磁性材
料層５・・・を形成する以前に、前記■溝４と直行する
ように巻線溝８を形成しておく必要がある。次に、上記
複合磁性材料ブロック７のテープ摺動面となる面９を、
所望の曲率を有するＲ状に形成した後、ギャップと垂直
となるように複合磁性材料ブロック７を切断し、第１図
に示すような磁気へラドチップを作製する。
以下の工程にて加工することにより製造される。上記複
合基板１は、単結晶フェライト等から成る酸化物磁性材
料Ｎ２とセラミック或いはガラス等から成る非磁性材料
層３とから構成されている。先ず初めに、第３図に示す
ように、複合基板１のギャップ形成面に、所定の間隔を
隔て、傾斜面と垂直面とから成るのこ歯状の■溝部・・
・を形成する。次に、第４図に示すように、スパッタリ
ング等の真空成膜技術を用いて、上記Ｖ溝４・・・の傾
斜面の表面と、ｖ溝４・・・が形成されていない上記ギ
ャップ形成面とに、１５〜３０．１７ ｍの厚みとなる
ように、センダスト等の合金磁性材料を成膜し、合金磁
性材料Ｎ５・・・を形成する。次いで、この合金磁性材
料層５・・・の溝部に溶着用ガラスを埋設し、溶着用ガ
ラス層６・・・を形成する。この後、第５図に示すよう
に、上記Ｖ溝部内に充填された、合金磁性材料層５・・
・及び溶着用ガラス層６・・・以外の合金磁性材料層５
・・・と溶着用ガラス層６・・・とを、加工歪が入らな
いように注意しながら研削、研磨し、ギャップ対向面を
鏡面仕上げにする。しかる後、上記鏡面仕上げを行った
面に、スパッタリング等によりＳｉＯ２等を０．２〜０
．４μｍの厚さに成膜し、ギャップ部材である非磁性膜
を形成し、非磁性膜形成基板を作製する。次いで、第６
図に示すように、この非磁性膜形成基板を２つ用意して
非磁性膜同士が密接するように配置した後、熱処理を行
うことにより非磁性膜形成基板同士を溶着し、複合磁性
材料ブロック７を作製する。なお、上記非磁性膜形成基
板のうち、少なくとも一方の基板には、前記合金磁性材
料層５・・・を形成する以前に、前記■溝４と直行する
ように巻線溝８を形成しておく必要がある。次に、上記
複合磁性材料ブロック７のテープ摺動面となる面９を、
所望の曲率を有するＲ状に形成した後、ギャップと垂直
となるように複合磁性材料ブロック７を切断し、第１図
に示すような磁気へラドチップを作製する。
最後に、この６ｎ気へラドチップを、図示しないヘッド
ベースに貼着した後、図示しない巻線を巻回し、磁気ヘ
ッドが作製される。
ベースに貼着した後、図示しない巻線を巻回し、磁気ヘ
ッドが作製される。
このように、磁気ヘッドのテープ摺動面は、非磁性材料
Ｎ３・３と合金磁性材料層５・５と溶着用ガラス層６・
６とから形成され、酸化ｖＡ磁性材料層２は非磁性材料
Ｎ３・３の後部に形成されているので、テープ摺動面で
磁気特性が不連続とはならない。したがって、テープ摺
動面で所謂疑似ギャップ効果が生じるのを防止すること
ができる。
Ｎ３・３と合金磁性材料層５・５と溶着用ガラス層６・
６とから形成され、酸化ｖＡ磁性材料層２は非磁性材料
Ｎ３・３の後部に形成されているので、テープ摺動面で
磁気特性が不連続とはならない。したがって、テープ摺
動面で所謂疑似ギャップ効果が生じるのを防止すること
ができる。
更に、合金磁性材料層５・・・が形成される■溝４の傾
斜面は、所定の間隔で配設されているので、１つの基板
から多数の磁気ヘッドチップを作製することができる。
斜面は、所定の間隔で配設されているので、１つの基板
から多数の磁気ヘッドチップを作製することができる。
本発明の磁気ヘッドは、以上のように、磁気ヘッドチッ
プの磁気テープ摺動面は、合金磁性材料層と非磁性材料
層とから形成し、テープ摺動面には、酸化物磁性材料層
が存在しないので、テープ摺動面において磁気特性が不
連続となるのを防止することができる。これにより、所
謂疑似ギヤツブ効果が生じるのを防止することができ、
高い抗磁力を有する磁気テープに信号を十分に記録し、
かつ、この磁気テープの記録信号を十分に再生すること
ができるので、磁気ヘッドの性能を向上させることがで
きるという効果を奏する。
プの磁気テープ摺動面は、合金磁性材料層と非磁性材料
層とから形成し、テープ摺動面には、酸化物磁性材料層
が存在しないので、テープ摺動面において磁気特性が不
連続となるのを防止することができる。これにより、所
謂疑似ギヤツブ効果が生じるのを防止することができ、
高い抗磁力を有する磁気テープに信号を十分に記録し、
かつ、この磁気テープの記録信号を十分に再生すること
ができるので、磁気ヘッドの性能を向上させることがで
きるという効果を奏する。
第１図は本発明の一実施例を示す斜視図、第２図乃至第
６図はそれぞれ本発明の磁気ヘッドの製造工程を示す各
説明図である。 ２は酸化物磁性材料層、３は非磁性材料層、５は合金磁
性材料層である。 特許出願人 シャープ株式会社 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 ′外６図
６図はそれぞれ本発明の磁気ヘッドの製造工程を示す各
説明図である。 ２は酸化物磁性材料層、３は非磁性材料層、５は合金磁
性材料層である。 特許出願人 シャープ株式会社 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 ′外６図
Claims (1)
- １、合金磁性材料層と酸化物磁性材料層とを有する磁気
ヘッドチップを備えた磁気ヘッドにおいて、磁気ヘッド
チップの磁気テープ摺動面は、上記合金磁性材料層と非
磁性材料層とから形成されていることを特徴とする磁気
ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12260686A JPS62279510A (ja) | 1986-05-28 | 1986-05-28 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12260686A JPS62279510A (ja) | 1986-05-28 | 1986-05-28 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62279510A true JPS62279510A (ja) | 1987-12-04 |
| JPH0553006B2 JPH0553006B2 (ja) | 1993-08-09 |
Family
ID=14840104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12260686A Granted JPS62279510A (ja) | 1986-05-28 | 1986-05-28 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62279510A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49912U (ja) * | 1972-01-28 | 1974-01-07 | ||
| JPS4993215U (ja) * | 1972-12-05 | 1974-08-13 | ||
| JPS5277725U (ja) * | 1975-12-08 | 1977-06-10 | ||
| JPS56174119U (ja) * | 1981-05-14 | 1981-12-22 | ||
| JPS57129228U (ja) * | 1981-12-08 | 1982-08-12 |
-
1986
- 1986-05-28 JP JP12260686A patent/JPS62279510A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49912U (ja) * | 1972-01-28 | 1974-01-07 | ||
| JPS4993215U (ja) * | 1972-12-05 | 1974-08-13 | ||
| JPS5277725U (ja) * | 1975-12-08 | 1977-06-10 | ||
| JPS56174119U (ja) * | 1981-05-14 | 1981-12-22 | ||
| JPS57129228U (ja) * | 1981-12-08 | 1982-08-12 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0553006B2 (ja) | 1993-08-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |