JPH0528413A - 磁気ヘツド - Google Patents

磁気ヘツド

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Publication number
JPH0528413A
JPH0528413A JP18436791A JP18436791A JPH0528413A JP H0528413 A JPH0528413 A JP H0528413A JP 18436791 A JP18436791 A JP 18436791A JP 18436791 A JP18436791 A JP 18436791A JP H0528413 A JPH0528413 A JP H0528413A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
magnetic
soft magnetic
magnetic head
magnetic thin
Prior art date
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Pending
Application number
JP18436791A
Other languages
English (en)
Inventor
Akio Kitatani
明雄 北谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 磁気回路を形成する軟磁性薄膜6とその軟磁
性薄膜6を支持する基板2からなる磁気ヘッドにおい
て、前記軟磁性薄膜6の厚さが摺動面部分ではトラック
幅の寸法に相当する厚さであり、かつ摺動面部分から離
れた位置ではトラック幅の寸法以上の厚さに形成されて
いる。 【効果】 磁気ヘッドの磁気抵抗が小さくなり、効率を
向上させることができ、十分な記録、再生特性を得るこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
等の磁気記録再生装置において、情報の記録再生等に用
いられる磁気ヘッドに関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁気記録技術の高密度化にともない、例
えばメタルテープ等の高保磁力媒体が主流になってきた
現在、磁気ヘッドに使用されるコア材料は高い飽和磁束
密度を有するものが要求されている。
【0003】このような状況の下、図10に示すような
ヘッドチップ21を使用した磁気ヘッドが提案されてい
る。
【0004】このヘッドチップ21は高い飽和磁束密度
を有する軟磁性薄膜をコア材料とし、その軟磁性薄膜を
ほぼトラックに相当する膜厚で基板22に形成し、その
上から低融点ガラス23で基板22及び軟磁性薄膜24
をモールドすることによって軟磁性薄膜24を基板22
と低融点ガラス23とで挟持するように構成したもので
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図10
に示すようなヘッドチップを使用した磁気ヘッドにおい
ては、デジタル、ハイビジョン等のさらなる高密度磁気
記録の場合、例えば、トラック幅10ミクロン以下の狭
トラックにする必要が出て来るが、従来の磁気ヘッドで
は、トラック幅と軟磁性薄膜の膜厚が等しい厚さのた
め、狭トラックになればなるほど(膜厚が小さくなれば
なるほど)、コアの磁気抵抗が増し十分な記録、再生が
できなくなるという問題が生じる。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
前記課題を解決するために、軟磁性薄膜の厚さを摺動面
部分では、トラック幅に相当とする厚さにし、かつ摺動
面部分から離れた位置ではトラック幅の寸法以上の厚さ
で形成することを特徴とする。
【0007】
【作用】上記構成による磁気ヘッドは、軟磁性薄膜は摺
動面近傍以外では、その厚さが摺動面近傍より厚いので
磁気ヘッドの磁気抵抗は小さくなり効率を向上させるこ
とができ十分な記録、再生特性が得られる。
【0008】
【実施例】本発明の1実施例を図1から図9に基づいて
説明する。
【0009】本発明による磁気ヘッドは、図1に示すよ
うに、高飽和磁束密度を有する、ヘッドチップ1が用い
られている。このヘッドチップ1は例えば感光性結晶化
ガラス、結晶化ガラスあるいは、セラミクス等の非磁性
材料や、軟磁性フェライト等の酸化物磁性材料により形
成された一対の基板2を有している。
【0010】まず、図2に示すように、上述の非磁性材
料又は酸化物磁性材料からなる基板2上の表面に所定の
ピッチ寸法Xで略V字状の溝5をダイシング加工により
行う。
【0011】その後、図3のように上記溝5壁面に真空
蒸着あるいはスパッタ法により所定の膜厚でFeーAi
ーSi系合金からなる軟磁性薄膜6を形成する。
【0012】次に図4に示すように溝5に低融点ガラス
7を充填した後、図5に示すように溝5と低融点ガラス
7の頂点が一致するように尚且つヘッド摺動面にはみだ
した低融点ガラス7を取り除くよう低融点ガラス7を平
面状に研磨する。
【0013】その後、図6に示すように、摺動面上の軟
磁性薄膜をトラック幅の膜厚に研削する。次いで、図7
に示すように基板2の両側面に内部巻き線溝8と外部巻
き線溝9とを形成し更に、ガラス充填用溝が形成された
側の面であるギャップ面10に所定のギャップとなるよ
うSiO2等(図示せず)の非磁性ギャップ材を真空蒸
着あるいはスパッタリング法により形成して基板ブロッ
ク11とする。
【0014】この後、図8に示すように上記の一対の基
板ブロックのギャップ面10同士を互いに対向するよう
に位置を合わせ加圧固定を行って接合しコアブロック1
2を形成する。
【0015】次いで、前記コアブロック12を研削され
た摺動面を埋めるため、前記低融点ガラス7よりも更に
低い温度で溶ける低融点ガラス15によりモールドす
る。その後、摺動面を研磨し、図9に示すように破線に
沿って所定のピッチ寸法Yで切断して図1に示すヘッド
チップ1とする。
【0016】そして、このヘッドチップ1を図示しない
ベース板に接着固定した後コイル巻き線及び、テープ研
磨を施して磁気ヘッドを形成する。
【0017】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッドは、上記のように基
板上に成膜された軟磁性薄膜を低融点ガラスで覆った一
対のコア片を前記軟磁性薄膜の断面が対向するように接
合して、磁気記録媒体との摺動面上に磁気ギャップを形
成した磁気ヘッドにおいて、軟磁性薄膜は摺動面近傍以
外では、その厚さが摺動面近傍より厚いので磁気ヘッド
の磁気抵抗は小さくなり効率を向上させることができ十
分な記録、再生特性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気ヘッドに使用されるヘッドチップ
の構成を示す斜視図である。
【図2】図1の磁気ヘッドの製造工程を示すものであ
り、略V字状の溝を形成してなる基板の平面図である。
【図3】図2の溝壁面に軟磁性薄膜を形成する工程を示
す平面図である。
【図4】図3の軟磁性薄膜に低融点ガラスを充填する工
程を示す平面図である。
【図5】図4の低融点ガラスを平面状に研磨する工程を
示す平面図である。
【図6】図5の摺動面上に軟磁性薄膜をトラック幅の膜
厚に研削する工程を示す斜視図である。
【図7】図6の基板を巻線溝及び所定のギャップを有す
る基板ブロックに作成する工程を示す斜視図である。
【図8】図7の基板ブロックを一対合わせてコアブロッ
クを形成する工程を示す斜視図である。
【図9】図8のコアブロックを所定のピッチで切断して
ヘッドチップを形成する工程を示す斜視図である。
【図10】従来の磁気ヘッドに使用されるヘッドチップ
の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
2 基板 6 軟磁性薄膜

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 磁気回路を形成する軟磁性薄膜とその軟
    磁性薄膜を支持する基板からなる磁気ヘッドにおいて、 前記軟磁性薄膜の厚さが摺動面部分ではトラック幅の寸
    法に相当する厚さであり、かつ摺動面部分から離れた位
    置ではトラック幅の寸法以上の厚さであることを特徴と
    する磁気ヘッド。
JP18436791A 1991-07-24 1991-07-24 磁気ヘツド Pending JPH0528413A (ja)

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JP18436791A JPH0528413A (ja) 1991-07-24 1991-07-24 磁気ヘツド

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JP18436791A JPH0528413A (ja) 1991-07-24 1991-07-24 磁気ヘツド

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JPH0528413A true JPH0528413A (ja) 1993-02-05

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JP18436791A Pending JPH0528413A (ja) 1991-07-24 1991-07-24 磁気ヘツド

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