JPH0991616A

JPH0991616A - 磁気ヘッド用の磁気コア

Info

Publication number: JPH0991616A
Application number: JP27060295A
Authority: JP
Inventors: Shigekazu Suwabe; 繁和諏訪部; Fujio Tokida; 富士夫常田; Masahiro Ao; 雅裕青; Taisuke Abe; 泰典阿部; Hiroyuki Mima; 宏行美馬
Original assignee: Hitachi Metals Ltd
Current assignee: Proterial Ltd
Priority date: 1995-09-25
Filing date: 1995-09-25
Publication date: 1997-04-04

Abstract

(57)【要約】【課題】インダクタンスが小さく、かつ再生出力を向
上させた磁気ヘッド用の磁気コアを提供する。【解決手段】角柱状のＩコア１ａとコの字形のＣコア
１ｂとが磁性膜を介して突き合わされている磁気コアで
あって、Ｉコア１ａの接合側のフロントからバックまで
の全面が平面に形成されるとともに、その全面に高飽和
磁束密度の磁性膜６が連続して付着され、Ｉコア１ａの
接合側の面に垂直方向の厚みが３０〜８０μｍに形成さ
れ、Ｉコア１ａの接合側の面に垂直な方向の厚みが、Ｉ
コアに付着されている磁性膜６の厚さの５〜３０倍に形
成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に対
して浮上を確保するためのスライダーに、磁気記録媒体
との間で磁気情報を読み書きする磁気コアを一体に接合
したコンポジット型磁気ヘッドにおいて、その磁気コア
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ハードディスク装置（ＨＤＤ）の記録密
度の向上は著しく、従来、１０年間に１０倍であったも
のが、１９９０年以降はＭＲヘッド等の新しい技術の採
用により５年間に１０倍の勢いで記録密度が向上してい
る。従来用いられてきた薄膜インダクティブヘッドやメ
タルインギャップ（ＭＩＧ）ヘッドにおいても種々の改
良が加えられ、３００メガビット／平方インチ以上の記
録密度にまで対応してきている。このうちＭＩＧヘッド
は単結晶のＭｎ−Ｚｎフェライトコアの磁気ギャップ近
傍のみに高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を配した構
造であり、磁性膜及びコア形状の検討により、インダク
タンスの低減と再生出力の向上を進めてきている。

【０００３】ＨＤＤ用コンポジットヘッドは、浮上を確
保するためのスライダーと、信号を電磁変換するための
磁気コアとが別個に作製され、スライダーの切り溝に磁
気コアがガラス材で固定されている。そして磁気記録媒
体とスライダーとの相対速度によりスライダーに浮上力
を作用させ、磁気コアのギャップ部が磁気記録媒体に微
小間隔で対向されて両者間で磁気情報を交換できるよう
にしている。磁気コア全体の厚さを、例えば約５０μｍ
に作製した場合、信号を書き込む巾を小さくして高記録
密度化に適合させるために、磁気コアの先端のみを補足
加工してトラック巾を５〜６μｍに加工している。この
加工には、量産性等の観点より一般に砥石を用いた機械
加工が用いられている。

【０００４】ＭＩＧヘッド用の金属磁性膜としては、従
来は飽和磁束密度が１テスラ程度のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合
金膜や非晶質合金膜が用いられたが、磁気記録媒体の高
保磁力化や磁気ヘッドの狭ギャップ化に伴なってより高
い飽和磁束密度を有する金属磁性膜が必要とされてき
た。これらの金属磁性膜としては、主としてＦｅ基の微
結晶膜の適用が検討されてきた。特に、特開平２−２７
５６０５号公報に示されるようなＦｅＴａＮ系微結晶膜
は、飽和磁束密度Ｂｓが１．４〜１．６Ｔと大きく、保
磁力Ｈｃ＜０．５Ｏｅ、比透磁率μ（５ＭＨｚ）＞３０
００の良好な軟磁性を示すことから磁気ヘッドへの適用
が検討されている。この系の薄膜は添加物の検討より耐
食性を向上させることができ、かつ、耐熱温度も６００
℃程度まで向上させることができることから、製造工程
においてガラス接合を二度行なうコンポジット型の磁気
ヘッドにも適用することができると考えられる。

【０００５】また、特開平１−１７１１０６号公報に記
載された磁気ヘッドでは、磁気コアを構成する２つのコ
ア半体の接合面にそれぞれ軟磁性薄膜を付着し、一方の
軟磁性薄膜の厚さを他方の軟磁性薄膜の厚さの偶数倍に
設定して、磁気ヘッドの再生出力のレベル変動を比較的
小さく抑えるようにしている。さらに、特開平５−１４
３９２６号公報に記載された磁気ヘッドでは、磁気コア
を巻線窓を有する磁性体ブロックと、巻線窓を有さない
磁性体ブロックとで構成し、巻線窓を有しないで巻線が
巻かれる磁性体ブロックの厚さは、薄くなるとインダク
タンスが小さくなるが、再生出力が小さくなり、インダ
クタンスと再生出力を共に良好にするためには磁性体ブ
ロックの厚さを２０〜１００μｍにするのが望ましいと
している。この際、巻線窓を有しないで巻線が巻かれる
磁性体ブロックの厚さが薄くなると、強度が問題となる
ためギャップと反対側の面に非磁性体ブロックを接着し
て強度を確保している。さらに、特開平３−２２４１１
１号公報に記載された磁気ヘッドでは、磁気コアを構成
する２つのコア半体の接合面にそれぞれ強磁性金属薄膜
を付着し、巻線窓を有しないコア半体に付着した強磁性
金属薄膜の前記巻線窓に対応する部分を削除して、強磁
性金属薄膜とコア半体との熱膨張率の差による強磁性金
属薄膜の剥離を防止している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ＭＩＧヘッドは、機械
加工によって磁気コアを作製するため、フォトリソグラ
フィを用いる薄膜ヘッドに比較して磁気回路が大きくな
り、その結果としてインダクタンスが大きく、磁気ヘッ
ドの再生効率が低いという欠点がある。さらに、記録密
度の向上をすすめるために、ＰＲＭＬ(Partial Respons
e Maximum Likeli-hood)等の信号処理方式の適用が検討
されており、記録の非線形性に伴なう記録ビットの磁化
遷移点のシフト(Non-Linear Transition Shift, 以下Ｎ
ＬＴＳ）が問題となってくる。このＮＬＴＳは磁気ヘッ
ドのインダクタンスが大きい場合に高周波帯域において
急激に増加する。従って、ＰＲＭＬ方式をＭＩＧヘッド
へ適用するには、ＮＬＴＳを小さくするために、インダ
クタンスの低減と再生出力の向上による磁気ヘッド効率
の向上が不可欠である。これら問題を解決するためＭＩ
Ｇヘッドにおいては、さらにインダクタンスを小さく
し、しかも再生出力をより大きくすることが望まれてい
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、角柱状に形成
されているＩコアと、巻線窓を有するようにコの字形に
形成されているＣコアとがフェライト単結晶材により形
成され、ＩコアとＣコアとが、ギャップ部を形成するよ
うに高飽和磁束密度を有する磁性膜を介して突き合わせ
接合されている磁気コアを提供する。その磁気コアは、
ＩコアとＣコアとで構成され、Ｉコアは接合面側のフロ
ントからバックまでの全面が段差のない実質的に平面に
形成されるとともに、その接合面側に高飽和磁束密度の
磁性膜が連続的に付着され、Ｉコアの接合側の面に垂直
な方向のフェライト厚みＷ₁ が３０〜８０μｍに形成さ
れるとともに、Ｗ₁ がＩコアに付着されている磁性膜の
厚さｄの５〜３０倍に形成されている。

【０００８】Ｉコアの接合側の全面を段差のない実質的
に平面に形成してそのフロントからバックまで磁性膜を
連続的に付着させているので、記録再生時の磁束は磁性
膜中を通る割合が高く、記録、再生の特性を向上するこ
とができる。Ｉコアの接合側の面に垂直な方向のフェラ
イト厚さＷ₁ を３０〜８０μｍにした理由は、厚さがあ
る程度小さい方がインダクタンスを小さくできて好まし
いが、あまり小さすぎると磁気回路の実質的な比透磁率
が低下するのでそれらが適切になる範囲とした。Ｉコア
の接合側の面に垂直な方向のフェライト厚さＷ₁ を、Ｉ
コアに付着されている磁性膜の厚さｄの５〜３０倍にし
たのは、インダクタンスを小さくできるとともに、再生
出力を大きくできるからである。Ｉコアの接合側の面に
平行な方向の厚さｔは、Ｉコアの接合側の面に垂直な方
向のフェライト厚さＷ₁ とそれに接合された磁性膜の厚
さｔとの合計厚さＷの０．８〜１．２倍にすることによ
り、インダクタンスを小さくすることができる。Ｉコア
の磁路に垂直な方向の断面形（Ｗ×ｔ）は、１辺が約５
０μｍのほぼ正方形に形成することにより、インダクタ
ンスを小さくできる。Ｉコアのギャップと反対側の面に
非磁性体ブロックを配すると、巻線をした際の径が大き
くなるためインダクタンスが大きくなり、再生効率が低
下する。Ｉコアに付着された磁性膜の磁束密度は、１．
４Ｔ以上にすることにより記録再生時の特性を向上でき
る。

【０００９】なお、Ｉコアに付着させた磁性膜の膜厚
は、２〜１０μｍにするのが再生出力の向上にとって好
ましい。例えば、図５に示したように、膜厚２μｍ、５
μｍ、８μｍの３種類の磁性膜の比透磁率と周波数との
関係図からわかるように、磁性膜が厚くなるほど比透磁
率が小さくなる。また図６に示した比透磁率と膜厚との
関係からわかるように、膜厚が１〜１０μｍの領域から
外れるほど比透磁率が小さくなり、図５と図６から磁性
膜の厚さは前記範囲にするのが望ましい。なお図５、６
の関係は、次の理由に対応するものである。磁性膜の比
抵抗は７０μΩｃｍ程度であるため、使用周波数が高く
なると渦電流損失によって、比透磁率の減少が見られる
ようになる。したがって、膜厚が厚いほど高周波での比
透磁率の減少は著しくなり、例えば４０ＭＨｚでの８μ
ｍ厚さの磁性膜の比透磁率は３５０となり、酸化物磁性
体の値とほぼ同等となってしまう。したがって、膜厚を
必要以上に厚くすることは再生出力の向上には逆効果と
なる。また、従来のＩコアは磁気ヘッドのトレーリング
エッジ側に配列されるので、Ｉコアに付着する磁性膜の
厚さが厚すぎると記録時の磁界の急峻さが損なわれてく
るために、記録電流値が１０ｍＡ程度でもＰＷ５０が大
きくなり、その結果として周波数が高くなると波形の干
渉によって再生出力が低下するという問題が生じるの
で、膜厚の上限は１０μｍ程度である。逆に膜厚が薄い
と膜中を通る磁束の割合が少なくなり再生出力が十分得
られなくなるので、膜厚は少なくとも２μｍは必要であ
る。なお、Ｃコアに付着する磁性膜の厚さは、Ｉコア側
から発生する磁束量との兼ね合いから、４〜１０μｍの
範囲とすることが望ましい。

【００１０】Ｉコアに付着された磁性膜は、組成式（Ｆ
ｅ_100-x Ｔａ_x ）_100-y-z Ｃｒ_y Ｎ_z ただし、ｘ、
ｙ、ｚは原子％を表わし、それぞれ１０≦ｘ≦１５、１
≦ｙ≦６、１２≦ｚ≦２０で示された組成よりなり、平
均の結晶粒径は１２ｎｍ以下にした。飽和磁束密度が大
きく良好な磁性膜としては、Ｆｅ基の微結晶薄膜が適し
ている。ＦｅにIVａ、Ｖａ、VIａ族の元素とそれらと炭
化物あるいは窒化物を生成させるために炭素（Ｃ）もし
くは窒素（Ｎ）を添加した材料が検討されている。炭化
物あるいは窒化物がＦｅの結晶粒成長を抑制するために
は、その生成エネルギーが低く生成しやすいことが望ま
しい。この点からＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａが適してい
る。また、窒化物を用いた方が耐食性に優れるので望ま
しい。磁気ヘッドを形成する際には、ガラスによる接合
を行うが、磁性膜としばしば反応を起したり、ガラスボ
イドの発生によって接合強度が不十分となる。Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｈｆの窒化物はＮとの結合比率が１：１のみである
ため、Ｎが過剰になったり不足したりする。この際、Ｎ
がガラス中のボイドになったり、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆがガ
ラス中の酸素と反応したりする。これに対してＴａは種
々の窒化物を形成できることからＮが過剰になったり、
不足することがない。したがって十分な接合強度を得る
のに最も適していると考えられる。さらには、クロム
（Ｃｒ）の添加は耐食性を向上させるとともに、ガラス
との反応性を抑制する効果がある。

【００１１】また磁性膜として、ＦｅＴａＮ系微結晶膜
を用いれば、飽和磁束密度Ｂｓが１．４〜１．６Ｔと大
きく、比透磁率μ_5MHzも膜厚２μｍで３０００以上とフ
ェライトの６００に比べて５倍以上大きいことから、磁
束はより通り易くなる。したがって、ギャップ近傍に膜
厚を厚くした磁性膜を配することによって再生出力を向
上することができる。また前記材料の磁性膜の熱膨張係
数αは１１０〜１２０×１０^-7／℃程度でありフェライ
トとほぼ同程度の値を示すことから、ＩコアとＣコアと
の接合のためのガラスボンディング時の熱履歴によっ
て、磁性膜とフェライト間に生じる応力が小さく、膜厚
を厚くしても剥離が生じにくい。また、Ｉコアの接合側
の面に垂直な方向のフェライト厚さを３０〜８０μｍと
薄くしてもそりや変形が生じにくく、製造上の問題が生
じない。さらに、コア材料のフェライトは磁歪定数が大
きいが、応力が小さいためノイズの発生を低減できる。
なお、磁性膜の平均の結晶粒径を１２ｎｍ以下にしたの
は、これ以上粒径が大きくなるとμ_SMHZ＜２０００、Ｈ
ｃ＞０．８Ｏｅとなり軟磁性が損なわれるためである。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の磁気コア１は、図１に示
すスライダー２のスリット溝３内に、ガラス材４により
取付けられて、コンポジット型磁気ヘッドが構成され、
そのスライダー浮上面２ａが磁気記録媒体に対して微小
間隔で浮上できるようになっている。その場合、磁気コ
ア１のフロント側に対応するギャップ部５が磁気記録媒
体に対向されて、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間で磁
気情報を書き込み、読み取りするようになっている。

【００１３】磁気コア１は、図２（ａ）に示されるよう
に、角柱状であって接合面が段差のない実質的に平面状
のＩコア１ａと、接合面に巻線窓を有するＣコア１ｂと
からなり、両コアは、Ｍｎ−Ｚｎなどのフェライト単結
晶材により形成されている。Ｉコア１ａは、その接合面
に垂直な方向の厚みｗ₁ が３０〜８０μｍ（本実施例で
は約５０μｍ）に形成されて、再生出力とインダクタン
スが望ましいものになるようにしている。なお、Ｉコア
１ａは、接合面と平行な方向の厚さｔも５０μｍにされ
て、磁路に垂直な方向の断面形状がほぼ正方形に形成さ
れている。すなわち、Ｉコアの接合側の面に平行な方向
の厚さｔは、Ｉコアの前記の垂直方向のフェライト厚さ
ｗ₁ と磁性膜の厚さｄとの合計厚さｗの０．８〜１．２
倍に形成されている。

【００１４】Ｉコア１ａの接合面には、高飽和磁束密度
（１．４Ｔ以上）を有し比透磁率がコア材料より大きな
膜厚２〜１０μｍの磁性膜６が、Ｉコア１ａのフロント
からバックまでの全面に連続的に付着されている。Ｃコ
ア１ｂの接合面には少なくともギャップ近傍に高飽和磁
束密度を有する厚さ４〜１０μｍの磁性膜７が付着さ
れ、磁性膜を配したＩコア１ａに突き合わされて接合さ
れている。図２（ａ）の実施例のＣコア１ｂでは、ギャ
ップ部５からＩコア１ａと平行な辺部までと、バック側
の接合面とに磁性膜７がスパッタにより成膜されてい
る。なお、ＩコアとＣコアに付着した前記の磁性膜６、
７は、ｒｆマグネトロンスパッタリング法により作製し
たＦｅＴａＣｒＮ微結晶膜であり、その平均の結晶粒径
は１２ｎｍ以下とした。また上記の図２（ａ）の磁気コ
ア１では、Ｃコア１ｂの窓部の一部に磁性膜７を形成し
なかったが、図２（ｂ）に示すように、Ｃコアの巻線窓
の全内周に磁性膜７を付着した磁気コアに形成してもよ
い。

【００１５】

【実施例】上記の図２（ａ）に示す本発明の磁気コア１
を図１のスライダー２に取付けた磁気ヘッドの、再生出
力とインダクタンスを測定するとともに再生効率を算出
し、Ｉコアに付着した磁性膜６の厚さの変化に対する測
定と算出結果を図４に示した。なおＣコア側の磁性膜７
の厚さは５μｍにした。なお磁性膜６の特性は、飽和磁
束密度を１．４〜１．６Ｔ、保磁力は０．５Ｏｅ以下、
比透磁率は図５、６に示す通りであり、磁歪定数は（−
１〜０）×１０^-6、比抵抗は６０〜７０μΩ・ｃｍであ
る。また、測定の際に使用した磁気記録媒体（ディス
ク）の径は３．５インチ、媒体保磁力は１８００Ｏｅ、
媒体残留磁束密度×膜厚は２９０Ｇ・μｍ、媒体周速は
９．９４ｍ／ｓ、周波数（２Ｆ／１Ｆ）は１０．９３／
２．７３ＭＨｚ、コードは（１，７）、回転数は４５０
０ｒｐｍ、浮上量４５ｎｍである。

【００１６】上記の測定において、比較のため、図３
（ａ）、（ｂ）に示された各比較例の磁気コア１を図１
のスライダー２に取付けた磁気ヘッドについて同様の測
定をし、その結果を図４に示した。なお、図４におい
て、（２ａ）は図２（ａ）の磁気コアを使用した場合の
測定値、（３ａ）は図３（ａ）の磁気コアを使用した場
合の測定値、（３ｂ）は図３（ｂ）の磁気コアを使用し
た場合の測定値を示す。なお、図３（ａ）の比較例の磁
気コア１は、Ｉコア１ａに付着した磁性膜６の中央部
（Ｃコア１ｂの巻線窓の部分に対向する中央部）を削除
した点が図２（ａ）の磁気コアと異なり、その他の構成
は図２（ａ）の磁気コアと同様である。また図３（ｂ）
の比較例の磁気コア１は、本発明の角柱状のＩコア１ａ
の代わりに、Ｃコアの巻線窓より切り込みの小さな窓部
を有する屈曲コア８を形成し、その屈曲コア８には両端
の接合部付近にのみ磁性膜６を付着した。また図３
（ｂ）において、Ｃコア１ｂは図３（ａ）の場合と同一
形状であり、ギャップ部５からＩコア１ａと平行な辺部
までと、バック側の接合面とに磁性膜７を付着させてい
る。

【００１７】図４の測定結果からわかるように、Ｉコア
の磁性膜の厚さが２〜８μｍの範囲で変化しても、本実
施例の再生出力の測定値（２ａ）は、比較例の測定値
（３ａ）、（３ｂ）よりも常に大きい値になった。ま
た、本実施例のインダクタンスの測定値（２ａ）は、磁
性膜厚によってはほとんど変化が見られず、しかも比較
例の測定値（３ａ）、（３ｂ）よりかなり小さなものに
なった。さらに、再生効率（再生出力／√インダクタン
ス）は、本実施例の場合（２ａ）が、いずれの比較例よ
り、いずれの膜厚においても大きいことがわかった。す
なわち本実施例のように、Ｉコアが角柱状であって、Ｉ
コアに付着させる磁性膜はフロントからバックまで連続
させて設けるのが良いことが分かる。

【００１８】次に、上記の図２（ａ）に示す本発明の磁
気コアと、図３（ａ）、（ｂ）の比較例の磁気コアを使
用した磁気ヘッドにおいて、それぞれの比透磁率を周波
数を変化させて測定し、その結果を図７に示した。なお
図７において、（２ａ）は図２（ａ）の磁気コアを使用
した場合の測定値、（３ａ）は図３（ａ）の磁気コアを
使用した場合の測定値、（３ｂ）はそれぞれ図３（ｂ）
の磁気コアを使用した場合の測定値を示す。図７からわ
かるように、周波数が大きくなるにつれて比透磁率が低
下し、いずれの周波数においても本実施例の方が、比透
磁率が大きく、大きな再生出力が得られることがわか
る。

【００１９】一般に、膜の成長方向が基板に対して傾き
をもっている場合、基板に到達した原子が凝集して結晶
核を作ると、斜めから入射してくる蒸着線はこれによっ
てさえぎられ、結晶核の後に陰影を作るようになる。こ
れは、自己陰影効果（self-shadowing effect )とよば
れ、結晶核の成長に伴い、膜に柱状構造が生じることが
知られている。結晶の成長方向に依存して磁気的な異方
性が生じることが多く、軟磁性膜においてはその磁気特
性に大きく影響する。特に、非晶質膜においては、自己
陰影効果によって柱状組織が生じ、結晶構造や組成がラ
ンダムでなくなり、軟磁気特性が得られなくなることが
多い。Ｆｅ基微結晶膜は、成膜後熱処理を施さない状態
で非晶質である場合にのみ、熱処理によって均一に微結
晶化し良好な軟磁性を示すことが知られている。したが
って、成膜時に約３０度以上の斜め入射によって成膜を
行うと、成膜時より微結晶化した領域が生じ、熱処理後
に均一な微結晶にならず良好な軟磁性が得られなくな
る。本発明の図２のような場合、磁性膜を付着させる面
が実質的に平面であるため、全面にわたって良好な軟磁
性を示す磁性膜を得ることができる。一方、図３（ｂ）
のようにＩコアを付着させる面が平面でなく、成膜時に
斜め入射の部分があると軟磁気特性が劣り、ヘッド特性
を低下させる原因となる。これも、本発明の磁気コアが
良好な特性を示す大きな要因である。

【００２０】次に、図２（ａ）の磁気コアにおいて、Ｉ
コアの接合側の面に垂直方向の厚さｗ₁ を変化させた場
合の再生効率を測定値から算出して、結果を図８に示し
た。なお、Ｉコアに付着した磁性膜の厚さｄは、２、
５、８μｍの３種類について測定した。図８からわかる
ように、磁性膜の厚さが３種類のいずれの場合もＩコア
のフェライト厚さｗ₁ が５０μｍ前後で再生効率がピー
ク値になり、Ｉコアのフェライト厚さｗ₁ が３０〜８０
μｍで再生出力が１７０ｎＶ以上になって好ましいこと
がわかる。この好ましい関係は、Ｉコアのフェライト厚
さｗ₁ とそれに付着する磁性膜の厚さｄとの比として表
わすと、最小値はｄが８μｍでｗ₁ が４０μｍの場合で
あってｗ₁ ／ｄが５となり、最大値はｄが２μｍでｗ₁
が６０μｍの場合であってｗ₁ ／ｄが３０となる。すな
わち、ｗ₁ ／ｄが５〜３０で再生効率が大きく、好まし
いことがわかる。

【００２１】

【発明の効果】本発明の磁気コアは角柱状のＩコアの接
合側の全面に磁性膜を付着させているので、低インダク
タンスで記録再生特性に優れるＭＩＧヘッドを得ること
ができ、さらにＩコアの断面形や寸法を所定のものにす
ることによりさらに特性を向上できる。そのため、従来
では薄膜ヘッドでのみ対応可能と考えられていた高記録
密度の領域において用いることができ、特性が安定した
磁気ヘッドを大量にかつ安価に供給することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気コアを取付けたコンポジット型磁
気ヘッドの斜視図である。

【図２】本発明の２種類の磁気コアの斜視図である。

【図３】２種類の比較例の磁気コアの斜視図である。

【図４】磁気コアを取付けた磁気ヘッドの再生出力とイ
ンダクタンスと再生効率とを、Ｉコアの磁性膜の膜厚に
応じて測定した結果を示すグラフである。

【図５】磁気コアに使用する磁性膜における比透磁率の
周波数特性を示す特性図である。

【図６】磁気コアに使用する磁性膜の膜厚変化における
比透磁率の値を示す特性図である。

【図７】磁気コアの形状による比透磁率の周波数特性を
示す特性図である。

【図８】磁気コアに使用するＩコアの厚さと磁性膜の膜
厚とを変化させた場合の磁気コアにおける比透磁率を示
す特性図である。

【符号の説明】１磁気コア１ａＩコア１ｂＣコア５ギャップ部６磁性膜７磁性膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者阿部泰典栃木県真岡市松山町18番地日立金属株式会社電子部品工場内 (72)発明者美馬宏行埼玉県熊谷市三ケ尻5200番地日立金属株式会社磁性材料研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】角柱状に形成されているＩコアと、巻線
窓を有するようにコの字形に形成されているＣコアとが
フェライト単結晶材により形成され、ギャップ部を形成
するように高飽和磁束密度を有する磁性膜を配したＩコ
アとＣコアとが突き合わされて接合されている磁気コア
であって、Ｉコアは接合面側のフロントからバックまで
の全面が段差のない実質的に平面に形成されるととも
に、その接合面側に高飽和磁束密度の磁性膜が連続的に
付着され、Ｉコアの接合側の面に垂直な方向のフェライ
ト厚みＷ₁ が３０〜８０μｍであるとともに、Ｗ₁ がＩ
コアに付着されている磁性膜の厚さｄの５〜３０倍であ
ることを特徴とする高記録密度対応磁気ヘッド用の磁気
コア。
【請求項２】Ｉコアの接合側の面に平行な方向の厚さ
ｔは、Ｉコアの接合側の面に垂直な方向のフェライト厚
さＷ₁ とそれに付着された磁性膜の厚さｄとの合計厚さ
Ｗの０．８〜１．２倍であることを特徴とする請求項１
の磁気ヘッド用の磁気コア。
【請求項３】Ｉコアの磁路に垂直な方向の断面形（Ｗ
×ｔ）は、１辺が約５０μｍのほぼ正方形に形成されて
いることを特徴とする請求項１又は２の磁気ヘッド用の
磁気コア。
【請求項４】Ｉコアに付着された磁性膜の飽和磁束密
度は１．４Ｔ以上の特性を有する磁性膜であることを特
徴とする請求項１、２又は３の磁気ヘッド用の磁気コ
ア。
【請求項５】Ｉコアに付着された磁性膜は、組成式
（Ｆｅ_100-x Ｔａ_x ）_100-y-z Ｃｒ_y Ｎ_z ただし、
ｘ、ｙ、ｚは原子％を表わし、それぞれ１０≦ｘ≦１
５、１≦ｙ≦６、１２≦ｚ≦２０で示された組成よりな
り、平均の結晶粒径が１２ｎｍ以下であることを特徴と
する請求項１乃至４のいずれか１つの磁気ヘッド用の磁
気コア。