JPH02263302A - 浮上型複合磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は固定磁気ディスク装置において記録媒体面より
ごく僅かに浮上させて用いる浮上型複合磁気ヘッドに関
し、特に記録再生特性に優れ、かつ平面度の良好な、浮
上型複合磁気ヘッドに関するものである。

〔従来の技術〕

磁気ディスク装置での情報の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドとしては例えば米国特許３８２３４１
６号及び特公昭５７−５６９号に示されているような浮
上型ヘッドに多（使用されている。この浮上型ヘッドに
おいてはスライダーの後端部に磁気変換ギャップを設け
、全体は高透磁率の酸化物磁性材料で構成されている。

浮上型磁気ヘッドは、磁気ディスクが静止している時に
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触しているが
、磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表
面の空気が動いてスライダ−下面を持ち上げる力が作用
し、磁気ディスクから浮上する。一方磁気ディスクの回
転を開始する時および止める時には、磁気ヘッドは磁気
ディトク上を摺動する。磁気ディスクの回転を止める時
の接触の状況を説明すると、回転数を落してきた時にそ
の表面の空気の流れも次第に遅くなる。そして磁気ヘッ
ドの浮上刃が失われた時磁気ヘッドはディスク面に衝突
するとともにその反動でとび上り、またディスク面に落
ちる。このような運動を何度が繰り返した上で、磁気ヘ
ッドはディスク上を引きずられるようにして停止する。

このような起動、停止時の衝撃に磁気ヘッドは耐える必
要があり、その性能をＣＳＳ性（Ｃｏｎｔａｃｔ　５ｔ
ａｒｔＳｔｏｐ　）と呼ぶことが多い。

上記高透磁率酸化物磁性材料であるフェライトで構成さ
れた浮上型磁気ヘッドは比較的良好な耐Ｃ３Ｓ性を示す
が、飽和磁束密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対し
て充分に記録出来ないという欠点がある。すなわち比較
的飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ−ＺｎフェライトでもＢ
Ｓは高々５．０ＯＯＧ程度である。

そこでＢｓが８，０ＯＯＧ以上となるように金属磁性薄
膜を磁気ギャップ部に配置した構造の磁気ヘッドとする
のが望ましいことがわかった。この例として特開昭５８
−１４３１１号に開示されているように、フェライトで
構成された浮上型磁気ヘッドの磁気変換ギャップ部にの
み高飽和磁束密度の金属磁性膜を設けた磁気ヘッドが提
案されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

前述したフェライトのみで構成された浮上型磁気ヘッド
の磁気変換ギャップ部のみに高飽和磁束密度の金属磁性
膜を設けた構成の従来の磁気ヘッドは、磁気変換部に所
定の巻線を施した後のインダクタンスが大きく、そのた
め共振周波数が低下し、高周波での記録再生が不利にな
るという欠点がある。ここでインダクタンスが大きいの
は磁気ヘッド全体が磁性体で構成されていることに基づ
く。従って低インダクタンスとするために磁気回路を小
さく構成する必要がある。このような観点から全体を磁
性材料で構成せず、磁気コアを非磁性のスライダー中に
埋設固着した構成の浮上型複合磁気ヘッドが米国特許３
，５６２，４４４号に開示された。また本発明者等は特
開昭６１−１９９２１９号にて磁気コアを非磁性スライ
ダー中に埋設した磁気ヘッドの望ましい形状について提
案した。

以上の点から高保磁力の媒体に対して充分に記録可能で
かつインダクタンスの小さな浮上型、複合磁気ヘッドを
得るには、飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ−Ｚｎフェライ
トを基板としてギャップ部に高Ｂｓの薄膜磁性材を成膜
した磁気コアを非磁性スライダー中に埋設したものが優
れていることがわかった。

このような複合磁気ヘッドの例として本発明者等により
特開昭６０−１５４３１０号に開示されたものがある。

さらに埋設される磁気コアのギャップ部の構造としてＸ
型に斜交したものが特開昭６１−１９９２１７号にて提
案された。しかしながらこのＸ型構造では各コア片の先
端部が鋭（とがっており、その上に高ｒ３ｓ磁性膜を被
着させ平行に研磨することにより磁気ギャップを形成し
ているので、所定のトラック幅を得るにはある程度高Ｂ
ｓ磁性膜の膜厚を厚くしておかねばならないという制約
がある。

また優れた性能の浮上型複合磁気ヘッドを得るには磁気
ディスクの回転時に安定した浮上量をいかに保つかとい
う問題もある。

磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表面
の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用す
る。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディスク
から離れている。この離れた間隔は浮上量と呼ばれるが
、磁気ディスク装置の高密度化のため浮上量は年々低下
しており、Ｇａｔａｑｕｅｓｔ社発行のＣｏｍｐｕｔｅ
ｒ　Ｓｔｒａｇｅ　ＩｎｄｕｓｔｒｙＳｅｒｖｔｃｅ　
（Ｒｉｇｉｄ　Ｄｉｓｋ　Ｄｒｉｖｅ　Ｉ）　１９８４
年版２、２−６頁の記載によると、浮上量は１０マイク
ロインチ（０，２５μｍ）にまでなっている。かかるサ
ブミクロンの浮上量を磁気ディスクの回転中安定して保
つためには、特に磁気ヘッドの空気ベアリング面の平面
度を良好に保つ必要がある。磁気ヘッドの浮上は、磁気
ヘッドの浮上面と記録媒体との極めて僅かな隙間に流れ
込む空気流により達成されるのであるから、浮上面の平
面度が悪いと安定した浮上を実現し得なくなるからであ
る。

上記米国特許３８２３４１６号に記載されたような磁気
ヘッドの場合、浮上を司どる空気ベアリング面はＮｉ−
ＺｎフェライトあるいはＭｎ　−Ｚｎフェライトのよう
な単一部材で形成されているので、良好な平面度を容易
に得ることができる。しかしながら、非磁性のスライダ
ーに設けられたスリット中に磁気コアを埋設し、ガラス
を用いてその磁気コアを固着した後に空気ベアリング面
を研磨することにより得られる複合磁気ヘッドにおいて
は、平面度を良好にするために格別の工夫が必要である
ことがわかった。この格別な事情は磁気コア、固着ガラ
スおよび空気ベアリング面を完全に同一平面内にあるよ
うに研磨することが著しく困難であることに起因する。

従って磁気ディスク用の磁気ヘッドとして望ましい特性
は、（１）高保磁力の記録媒体に対して充分な記録が可
能であり、（２）低インダクタンスであり、（３）高再
生出力を有し、かつ（４）耐Ｃ３Ｓ性に優れるように良
好な平面度を有することである。

従って本発明の目的は上記望ましい特性を具備する浮上
型複合磁気ヘッドを提供することである。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は対向面がそ
れぞれ平坦な一対のコア片により磁気コアを構成し、磁
気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠きを
設けるとともに、切り欠きの深さを特定の範囲に設定し
、かつ磁気コアの両側に十分な厚さのガラス層を設けて
非磁性スライダーのスリット部に固着することにより、
簡単に加工精度よく、良好な空気ベアリング面の平面度
を有するとともに上記特性を有する浮上型複合磁気ヘッ
ドを得ることができることを発見し、本発明に想到した
。

すなわち、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは両側にサイ
ドレール部を有する非磁性セラミックスからなるスライ
ダーと、前記サイドレール部の一方に設けられたスリッ
ト部と、前記スリット部内にガラスにより固定された一
対のコア片からなる磁気コアとを有し、（ａ）前記一対
のコア片の平坦な対向面が平行に配置されて磁気ギャッ
プを形成しているとともに、前記対向面の少くとも一方
にＦｅ−Ａｌ２−５ｔ薄膜が形成されており、（ｂ）前
記磁気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠
きが設けられており、前記切り欠きは、トラック面に対
し少なくともギャップ深さＧｄまでの領域において直角
に設けられ、かつその後は任意の曲率をもちながら、前
記切り欠き角度は３０°〜６０°の範囲で傾斜させて、
かつ切り欠き深さは２５〜１２７μｍの範囲でトラック
幅規制されたことを特徴とするものである。

〔実施例〕

本発明を添付図面を参照して以下に詳細に説明する。第
１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッドの
全体構成を示す斜視図である。１１は、非磁性スライダ
ー、１２はスライダー１１の一方のサイドレールに設け
られたスリット部、１３はスリット部１２に埋設された
磁気コア、１４はその磁気コア１３を固着するガラスで
ある。スライダー１１のサイドレール１５．１６の片側
（図では１５）の端部に磁気コア１３が固着されている
ので、安定した浮上を実現するためには磁気コア１３が
埋設固着されている部分の平面度を良好に加工すること
が重要である。なおスライダー１１としては熱膨張係数
１０５〜１１５Ｘ１０−７ン°Ｃ２空孔率０．５％以下
のＣａＴｉＯ３からなる非磁性セラミックを用いるのが
好ましい。

第２図（ａ）は磁気コア１３の拡大斜視図である。

また第２図（ｂ）磁気コアの側面図である２１．２２は
それぞれＭｎ　−ＺｎフェライトからなるＣ型および■
型コア片と称される磁性体であり、２３はＩ型コア片上
に被着されたＦｅ　　Ａｌ２−５ｔｙ膜である。

２４はＣ型コア片２１とＩ型コア片２２との間に形成さ
れた巻線用の空間であり、その上部にＣ型コア片２１と
Ｉ型コア片２２を接合するガラス部２５が設けられてい
る。

磁気コア１３のトラック面にはトラック幅を規制する切
り欠き２６が形成されている。切り欠き２６は磁気コア
１３の長手方向に延在する。これにより磁気ギャップ２
７のトラック幅Ｔ−は任意に設定することができる。な
お磁気ギャップ２７はスパッタリング等により被着され
たＳｉＯ□等のギャップ規制膜により形成されている。

本発明の磁気コア１３において、切り欠き２６の深さＤ
と磁気ギャップ２７の深さＧｄとの間、及び接合ガラス
部２５の残りの厚さＧ−と磁気コアの厚さＣｗとの間に
はそれぞれ実質的に次の関係が満たされている必要があ
る。

Ｄ、　　≧　Ｇｄ　　　　・・・・・・・・・（１）Ｇ
−≧　Ｃ−・・・・・・・・・（２）式（１）について
、切り欠き２６の深さＤがギャップ深さＧｄより小さい
とトラック幅Ｔｗの規制の効果が不満足となる。すなわ
ちヘッド先端の磁気抵抗が小さくなりすぎ、ギャップ先
端よりもれる磁界が減少するために、記録の効率が低下
する。また式（２）について、接合ガラス部２５の残り
の厚さＧｗが磁気コアの厚さＣｗより小さいと、磁気コ
アの加工時にガラス部２５に亀裂が入ったり、磁気コア
１３をスライダーのスリット部内に固着する際に両コア
片の接合が不安定となるという問題が生ずる。

高密度記録を達成する上でギャップ長さＧＩ！、及びト
ラック幅Ｔ−は小さ（なる傾向にあり、リジット・ディ
スク・ドライブ用としては現在１μｍ以下の６１、及び
２０μｍ以下のＴ賀のものが用いられている。一方磁気
コア１３の幅Ｃｗは０．１〜０．２鵬程度である。この
ような寸法の磁気コアにおいて、上記条件（１）及び（
２）を実質的に満たすことを前提として、−船釣にギャ
ップ深さＧｄは２〜２０μｍ、切り欠き深さＤは５０μ
ｍ、接合ガラス部の厚さＧｗは１５０〜７００μｍとす
るのが好ましい。

この磁気ヘッドは以下のプロセスにより製造することが
できる。まずＩ型コア片及びＣ型コア片を構成すべきフ
ェライト材料のブロックを準備する。このフェライト材
料としては高Ｂｓでかつ高周波での透磁率が極力大きい
Ｍｎ−Ｚｎフェライトが望ましい。またガラス接合時に
ガラス中に生じる気泡（ｖｏｉｄ）を減らすために、熱
間静水圧プレス（Ｈｏｔ　ｌ５ｏｓｔａｔｉｃ　Ｐｒｅ
ｓｓ　）法により高密度化されたものを用いるのが好ま
しい。特に８１゜＝　４７００〜５４００Ｇ　５Ｈｃ＝
０．１〜０．２０ｅ、　５ＭＨ２に於る透磁率８００〜
１３００、空孔率０．５％以下、熱膨張係数１０５〜１
２０　Ｘ　１０−’／”ＣのＭｎ　−Ｚｎ多結晶フェラ
イトを用いるのが好ましいが、多結晶フェライトの代り
に単結晶材を用いても良い。

■型コアブロック上にはＦｅ−Ａｆ！　−９ｉ膜をスパ
ッタリングで被着する。スパッタの条件としては安定な
放電を維持するため５〜ｌ　２ｍＴｏｒｒのＡｒガス圧
が望ましい。また電力は合金ターゲットの温度上昇によ
る割れを防ぐとともに、８００人／分程度の膜生成速度
を得るために、６００〜１２００Ｗ（直径１５０ｍのタ
ーゲットの例）が望ましい。

Ｆｅ−Ａｆ−Ｓｉ膜の組成としては高透磁率を得るため
、重量基準で８３〜８６％のＦｅ、５〜８％の八！、８
〜１１％のＳｔが好ましい。特に磁歪定数を小さ（する
目的で、重量基準で８３．５〜８５％のＦｅ、５〜７％
のｊｉ、、９〜１０．５％のＳｉのもの°が望ましい。

Ｆｅ−Ａｆ　−Ｓｉ膜には耐食性を向上させる目的で微
量の添加物を加えてもよい。この場合、２重量％以下の
Ｔｉ、　Ｒｕ、　Ｃｒ等を単独あるいは複合添加するの
が望ましい。

次に第３図に示すようにＦｅ−Ａｌ！、−５ｉ薄膜３３
を被着した■型コアブロック３２にＣ型コアブロック３
１を接触させ、巻線窓３４中に置いたガラス棒３５を加
熱流入させることにより接合する。

この場合、好ましい接合ガラスは軟化点５４０〜６３０
°Ｃ１熱膨張係数９４〜１０３　Ｘ　１　ｏ−’／”ｃ
のものである。このような物性を示す接合用ガラス（第
一のガラス）としてはＰｂＯ−３ｉＯｚを主成分とし、
他に種々の元素を加えた多くの組合せが考えられるけれ
ども、本発明者による実験の結果ではＰｂＯ−５１０ｇ
にアルカリ金属酸化物（Ｋ２０几１ｚＯ１ＮａｚＯ等）
を加えた系、又はＰｂＯ−５ｉＯ□−ＢｚＯｚ−Ａ　ｌ
　２０．ｌにアルカリ金属酸化物を加えた系が適してい
る。このような系での好ましい組成範囲は重量基準で、
２８〜４９％のＳｉＯ□、４４〜５９％のＰｂＯ，７〜
１３％のアルカリ金属酸化物からなる組成、又は２８〜
４９％のＳｉＯ□、５〜１０％の８２０３．７〜１３％
のアルカリ金属酸化物、残部ｐｂｏからなる組成である
。また後者の系には５〜１２％のＡ　ｌ　２０゜を添加
してもよい。この第一のガラスの特に好ましい一例とし
て重量基準で３５ＰｂＯ−４５ＳｉＯ□−８Ｂ２０３−
７八ｌ　ｚＯ＋−５ＫｚＯの組成のもの（軟化点５８０
°Ｃ１熱膨張係数９５　Ｘ　１０−’／”Ｃ）が挙げら
れる。このガラスを使用し接合を行った磁気コアの接合
強度は５ｋｇ／ｍｍ”であり申し分なく、またＦｅ−Ａ
ｊ！　−Ｓｉ膜の浸食も認められない。

なおり、０．は高湿度下でのガラスの腐食を防止する作
用を有する。しかし逆に８２０３が多すぎるとＦｅ−Ａ
ｌ−３ｉ膜あるいは台ローＺｎフェライトとの濡れ性が
悪くなり、接合強度が保てない。Ａ　ｆ　２（ｈは高温
度下でのガラスの変色を防止するが、逆に多すぎると軟
化点が高くなり接合できなくなる。

アルカリ金属酸化物類はさらにガラスの流動性を調節す
る効果を担っている。

このようなガラスを用い７００〜７６０°Ｃで接合を行
う。この接合ブロックを切断し、磁気コアを得ることが
できる。

この磁気コアのスライダーのスリット部への固着は次の
ようにして行う。第４図は接合した磁気コア４３をスラ
イダー４１のスリット部４２内に設置するとともに、ガ
ラス棒４８をスライダー４１の上面に乗せた状態を示す
斜視図である。磁気コア４３の切り欠き４６はスライダ
ーの片端部４４に向けられているので、磁気コア４３が
片端部４４に押し付けられていても、スリット部の内面
との間に隙間４７．４９が形成される。磁気コア４３の
固定はバネ材４５による仮固定で容易に達成される。ガ
ラス棒４８は第二のガラスとして磁気コア４３をスリッ
ト部４２に固着するものであり、かかる第二のガラスと
しては熱膨張係数８７〜９６Ｘ　１０−７／’Ｃ１軟化
点３７０〜４８０°Ｃ程度のものが好ましい。このよう
な性質を示す組成としては、重量基準で７０〜８３％の
ｐｂｏ、３〜１０％のＡｆ、０３．５〜１３％のＳｉＯ
□、４〜１０％の８２０３のものがあり、特に好ましい
一例として７８ＰｂＯ８Ａ　１　ｚ０３−１０ＳｉＯ□
−４８２０３（重量％）がある。このガラスの熱膨張係
数は９１　Ｘ　１０−’／’Ｃであり軟化点は４４０°
Ｃである。このガラスを用いて例えば５３０°Ｃで固着
すれば、クラックのない接合を行うことができる。

以上のような第二のガラスによる磁気コアのスリット部
への固着には、一般に第二のガラスを５００〜５８０°
Ｃに加熱して磁気コアの両側の隙間に流入させる。その
後磁気ヘッドの空気ベアリング面を研削後研摩加工し、
磁気ヘッドを完成する。。

第４図に明確に示されるように、磁気コア４３とスライ
ダーのスリット部４２の一方の内面との隙間は、磁気コ
ア４３の下部においては零であるが（すなわちスライダ
ーのスリット部の一方の内面に磁気コア４３が接触して
いるが）、上部においては４９で示されるように十分な
幅となっている。これにより磁気コア４３は両側に設け
られた第二のガラス層によりスリット部内に強固に固さ
れることになる。

本発明をさらに以下の具体的な実施例により詳細に説明
する。

実五〇生り 第２図に示す構造の磁気コアを形成するためにＭｎ−Ｚ
ｎ多結晶フェライトからなるＣ型コア片及びＩ型コア片
を作成した。Ｍｎ　−Ｚｎ多結晶フェライトは熱間静水
圧プレス法により高密度化されたもので、空孔率が０．
１％であり、磁気特性としてはＢ１゜＝５１００　Ｇ、
ｌｌｃ　＝　０．１５０ｅ、５ＭＨｚにおける透磁率＝
９５０であり、また熱膨張係数は１１５　Ｘｌ０−’／
’Ｃであった。

各Ｃ型コアブロック及びＩ型コアブロックは外周スライ
サーにより成形し、平面研削盤で研削後ラップ機により
研磨したものである。研磨後クロロセン煮沸を行い、ク
ロロセン中、アセトン中及びアルコール中でそれぞれ超
音波洗浄を行った後、フレオン煮沸を行い、最後にフレ
オン蒸気で洗浄した。

またＩ型コアブロック上にマグネトロンスパッタ装置に
よりＰｅ−Ａｌ−３ｊ薄膜を形成した。マグネトロンス
パッタ装置の投入電力は０．８ｋＷ、アルコン圧は８Ｉ
ＩＩＴｏｒｒ、基板温度は２００″Ｃであった。

またＦｅ−Ａｌ−Ｓｔ薄膜は重量基準で８５％のＦｅ。

６％の八！及び９％のＳｔからなる組成を有し、厚さは
２．９μｍであった。この膜の特性はＢＳ＝１１．００
０　Ｇ、　Ｈｃ＝　０．３〜０．５０ｅ、　５　ＭＨｚ
における透磁率＝ｉ、ｏｏｏ〜２，０００　、磁歪定数
＝＋ｌＸ１０−６であった。

次にＰｅ−Ａｌ−５ｉｔ膜を形成したＩ型コアブロック
上にＲＦスパッタ装置を用いて、０．３に−の投入電力
、５　ｍＴｏｒｒのアルゴン圧、１５０°Ｃの基板温度
で０．５μｍの膜厚のＳｉＯ□ギャップ規制膜を形成し
た。

さらにＣ型コアブロックとＩ型コアブロックを接合した
第一のガラスの組成は以下の通りであった。

ＰｂＯ５４重量％ ＳｉＯ□　　　　　　　　　３５．９　　〃ＫＺＯ１０
，１／／ この第一のガラスの軟化点は５９７°Ｃ１熱膨張係数は
９６　Ｘ　１０−’／”Ｃであった。第一のガラスによ
るコアブロックの接合は電気炉によりＮ、ガス中で３０
０°Ｃ／時間の昇温速度で加熱し、７６０°Ｃに３０分
間保持することにより行った。

このようにして接合したコアブロックを平面研削盤及び
ラップ機を用いて研削、研磨し、ワイヤーソーにより厚
さ１５２μｍに切断した。

次に各磁気コアのトラック幅を規定するために、高剛性
グイサーにより幅１３８．５μｍ、深さ２００μｍの切
り欠きを形成した。

このようにして得られた磁気コアの構造は以下の通りで
ある。

磁気コアの幅Ｃｗ　　　　　　　　１５２μｍトラック
幅　Ｔｗ　　　　　　　　１３．５　μｍギャップ長さ
Ｇｆ　　　　　　　Ｏ，５５μｍギャップ深さＧｄ　　
　　　　　　　　４μｍ切り欠き深さＤ　　　　　　　
　　５０μｍ切り欠き角度θ　　　　　　　　４５゜接
合ガラスの厚さＧ−約２００μｍ 次に熱膨張係数が１０８　Ｘ　１．０−’°Ｃ１空孔率
が０．１５％のＣａＴｔ０３セラミックからなるスライ
ダーの一方のサイドレールの端部に、長さ１．５ｍｍ、
幅２２０μｍのスリット部を形成し、その中に上記磁気
コアを仮ばねにより固定して、下記組成の第二のガラス
により固着した。

ＰｂＯ７９，０重量％ ＳｉＯ□　　　　　　　　　　９．０〃Ａｎ、　　　　
　　　　　　６．０　　〃＆２０：ｌ　　　　　　　　
　　　６．０　　□第二のガラスの熱膨張係数は９１　
Ｘ　１０−’／’Ｃ１軟化点は４４７°Ｃ１転移点は３
７９°Ｃ１屈伏点は４０６°Ｃであった。これを電気炉
でＮ２中３００°Ｃ／時間の昇温速度で加熱し、５４０
°Ｃの温度に３０分間保持することによりスリット部と
磁気コアとの間隙に流入させた。このようにして得た磁
気ヘッドの空気ベアリング面を鏡面研削盤及びラップ機
により研削、研磨し、本発明の浮上型複合磁気ヘッドと
した。なおスリット部の内面と磁気コアの両側部との間
隔はそれぞれ６８μｍ、１３８．５μｍであった。

この磁気ヘッドを用い、Ｃｏ−Ｎｉスパッタ記録媒体（
Ｈｃ＝１１５００ｅ　）を有する５、２５インチの磁気
ディスクに対して浮上量０．３μｍ、周速１２．１　ｍ
７秒で２．５　Ｍ）ｌｚにおける再生出力特性その他の
ヘッド特性を測定した。また比較のためにＦｅ−Ａｆｆ
Ｓｉ薄膜を有さない従来の複合磁気ヘッドについても、
同じ測定を行った。結果を第１表に示す。

以上の結果から、接合ガラスの厚さが８０〜１００μｍ
の場合（コア厚より実質的に小さい場合）、切り欠き形
成によるトラック幅出し加工時に接合ガラス内に亀裂が
発生し、製品歩留りが低下することがわかる。

１廉例ユ 実施何重において■型コアに被着するＦｅ−Ａｊ２Ｓｉ
ｎ膜の厚さを３．８．１２μｍと変化させ、それ以外は
同じ方法により磁気コアを作成し、加工時のＦｅ−Ａｊ
２−Ｓｉ薄膜の剥離及び磁気コアの脱粒について調べた
。またその磁気コアを用いて各磁気ヘッドを作成し、実
施例１と同じ磁気ディスクにより再生出力特性を測定し
た。結果を第３表に示す。

また本発明の磁気ヘッド（Ａ）及び従来例の磁気ヘッド
（Ｂ）を用いて、上記磁気ディスクに対する記録電流と
再生出力との関係を求めた。結果を第５図に示す。

以上の比較から、本発明の磁気ヘッドは優れた再生出力
特性及びヘッド特性を有することがわかる。

実新Ｉ生４ 実施例１の磁気コアにおいて接合ガラスの厚さを種々変
更し、切り欠き形成時における接合ガラスの亀裂の発生
状況を調べた。結果を第２表に示す。

第２表 （注）×：亀裂が著しく発生 Ｏ：亀裂が僅かに発生 ◎：亀裂が発生せず 以上の結果から明らかな通り、Ｆｅ　　ＡＮ　−Ｓｉ薄
膜の膜厚が３μｍおよび８μｍの場合、磁気コアの加工
時になんら問題がないのみならず、磁気ヘッドの特性も
良好であるが、１２μｍとなると加工時に膜剥離やコア
の脱粒が起こり、かつ得られる磁気ヘッドの再生出力特
性も低い。これはＦｅ　−ＡＩ−Ｓｉ薄膜が厚すぎるた
めに、コア基板と膜との界面に熱膨張係数の差による大
きな応力がかかり、膜の剥離やコア基板の脱粒が発生す
るためである。

実施■土 実施例１と同様にして磁気コアを作成し、これに５通り
の切り欠き角度を形成した。これらの磁気ヘッドを用い
実施例１と同様にして磁気ヘッドを作成した。得られた
磁気ヘッドの諸元は以下の通りであった。

磁気コア幅軸　　　　　　　１７８μｍトランク幅Ｔｌ
ｌ　　　　　　　　１３．５μＩギヤツプ長ＧＡ　　　
　　　　０．５５μｍギャップ深さＧｄ　　　　　　　
　　３μｍＦｅ−Ａｆ−Ｓｉ膜厚ｔｍａｇ　　　　　２
ａｍ接合ガラスの厚さＧｓｒ　　　　３２０ｐｍ切り欠
き角度　　θ　　　１５°、３０°、４５゜６００．７
５″、９０゜ 切り欠き深さ　　Ｄ　　　　１２７，５０，２５．７６
μｍこれらの磁気ヘッドを用いて、実施例１と同じ測定
条件でヘッド特性を評価した。結果を第４表に示す。

以上の結果から、切り欠き角度θが小さい場合トラック
斜面を鋭く切り欠かれるためヘッド特性が向上せず、ま
た逆に切り欠き角度θが大きい場合はヘッド効率は改善
されるが、正規のトラック幅以外へ記録される幅いわゆ
る書きにじみ量が極めて増大する。したがって切り欠き
角度θは３０’〜６０°の範囲で、かつ切り欠き深さは
２５〜１２７μｍの領域で優れたヘッド特性が得られる
ことがわかる。

〔発明の効果〕

以上に詳述した通り、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは
いわゆる平行型であるとともにトラック面にトラック幅
を規制する切り欠きを有し、かつ前記切り欠きの角度が
３０°〜６０°の範囲で、しかも前記切り欠き深さは２
５〜１２７μｍの範囲にすることによって、酸化物磁性
材料面に成膜された強磁性金属薄膜の内部ストレス等が
解消される。また、強磁性薄膜の磁気特性が十分発揮さ
れ、高抗磁力の記録媒体に適用すると極めて電磁変換特
性に優れた磁気ヘッドが得られる。さらに、本発明の磁
気ヘッドは、加工時の歩留まりも良好で、しかも高い信
頬性を有した浮上型複合磁気ヘッドとなっている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
を示す斜視図であり、第２図（ａ）は第１図の浮上型複
合磁気ヘッドに組み込まれる磁気コアの一例を示す斜視
図であり、第２図（ｂ）は第２図（ａ）の側面図であり
、 第３図は両コアブロックを組み合わせた後接合用ガラス
棒を巻線用窓内に挿入した状態を示す斜視図であり、 第４図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドを製造するため
に第二のガラスを充填するための工程を示す図であり、 第５図は記録電流と再生出力との関係を示すグラフであ
る。 １１；スライダー　１２ニスリツト、１３：磁気コア、
１４：接合ガラス、１５，１６：サイドレール、２１：
Ｃ型コア片、２２：■型コア片、２３　：　Ｆｅ−Ａｆ
ｆ−ｓｉｎ膜、２４：巻線用窓、２５：接合ガラス、２
６：切り欠き、２７：磁気ギャップ、Ｔｗｏ　トラック
幅、Ｇ２：ギャップ長、Ｇｄ：ギャップ深さ、θ；切り
欠き角度、Ｄ：切り欠き深さ、Ｇ−二接台ガラス部の厚
さ、Ｃ−：磁気コア幅。 第１図 １１スライダー 第２図（ａ） ］３磁気コア ２３　　Ｆｅ−Ａｔ−３ｉ簿膜 第 図 第 図（ｂ） 第 図 手続補正書 （自発） 第 図 事件の表示 平成１年特許願第８４９６０号 発明の名称 浮上型複合磁気ヘッド 補正をする者 事件との関係

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）両側にサイドレール部を有する非磁性セラミック
   スからなるスライダーと、前記サイドレール部の一方に
   設けられたスリット部と、前記スリット部内にガラスに
   より接合固定された一対のコア片からなる磁気コアとを
   有する浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記一対のコア
   片の平坦な対向面が平行に配置されて磁気ギャップを形
   成しているとともに前記対向面の磁気ディスク媒体流出
   側のトレーリングエッヂに強磁性薄膜を形成した磁気ヘ
   ッドにおいて、磁気コアのトラック面にトラック幅を規
   制する切り欠きが設けられており、前記切り欠きは、ト
   ラック面に対し少なくともギャップ深さＧｄまでの領域
   におい直角に設けられ、かつその後は前記切り欠き角度
   は３０°〜６０°の範囲で傾斜させて、かつ切り欠き深
   さは２５〜１２７μｍの範囲でトラック幅規制されたこ
   とを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。