JPH0256709A - 浮上型複合磁気ヘッド - Google Patents
浮上型複合磁気ヘッドInfo
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- JPH0256709A JPH0256709A JP63018382A JP1838288A JPH0256709A JP H0256709 A JPH0256709 A JP H0256709A JP 63018382 A JP63018382 A JP 63018382A JP 1838288 A JP1838288 A JP 1838288A JP H0256709 A JPH0256709 A JP H0256709A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
- G11B5/1878—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/105—Mounting of head within housing or assembling of head and housing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置において記録媒体表面よりご
く僅かに浮上させて用いる浮上型複合磁気ヘッドに関し
、特に記録再生特性に優れ、かつ平面度の良好な浮上型
複合磁気ヘッドに関する。
く僅かに浮上させて用いる浮上型複合磁気ヘッドに関し
、特に記録再生特性に優れ、かつ平面度の良好な浮上型
複合磁気ヘッドに関する。
磁気ディスク装置での情報の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドとしては例えば米国特許３８２３４１
６ 号及び特公昭５７−５６９号に示されているような
浮上型ヘッドが多く使用されている。この浮上型ヘッド
においてはスライダーの後端部に磁気変換ギャップを設
け、全体は高透磁率の酸化物磁性材料で構成されている
。
られる磁気ヘッドとしては例えば米国特許３８２３４１
６ 号及び特公昭５７−５６９号に示されているような
浮上型ヘッドが多く使用されている。この浮上型ヘッド
においてはスライダーの後端部に磁気変換ギャップを設
け、全体は高透磁率の酸化物磁性材料で構成されている
。
浮上型磁気ヘッドは、磁気ディスクが静止している時に
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触しているが
、磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表
面の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用
し、磁気ディスクから浮上する。一方磁気ディスクの回
転を開始する時および止める時には、磁気ヘッドは磁気
ディスク上を摺動する。磁気ディスクの回転を止める時
の接触の状況を説明すると、回転数を落してきた時にそ
の表面の空気の流れも次第に遅くなる。そして磁気ヘッ
ドの浮力が失われた時磁気ヘッドはディスク面に衡突す
るとともにその反動でとび上り、またディスク面に落ち
る。このような運動を何度か繰り返した上で、磁気ヘッ
ドはディスク上を引きずられるようにして停止する。こ
のような起動、停止時の衝撃に磁気ヘッドは耐える必要
があり、その性能をＣ３Ｓ性（ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａ
ｒｔ Ｓｔ。
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触しているが
、磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表
面の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用
し、磁気ディスクから浮上する。一方磁気ディスクの回
転を開始する時および止める時には、磁気ヘッドは磁気
ディスク上を摺動する。磁気ディスクの回転を止める時
の接触の状況を説明すると、回転数を落してきた時にそ
の表面の空気の流れも次第に遅くなる。そして磁気ヘッ
ドの浮力が失われた時磁気ヘッドはディスク面に衡突す
るとともにその反動でとび上り、またディスク面に落ち
る。このような運動を何度か繰り返した上で、磁気ヘッ
ドはディスク上を引きずられるようにして停止する。こ
のような起動、停止時の衝撃に磁気ヘッドは耐える必要
があり、その性能をＣ３Ｓ性（ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａ
ｒｔ Ｓｔ。
ｐ）と呼ぶことが多い。
上記高透磁率酸化物磁性材料であるフェライトで構成さ
れた浮上型磁気ヘッドは比較的良好な耐Ｃ８Ｓ性を示す
が、飽和磁束密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対し
て充分に記録出来ないという欠点がある。すなわち比較
的飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ−ＺｎフェライトでもＢ
ｓは高々５，０００Ｇ程度である。
れた浮上型磁気ヘッドは比較的良好な耐Ｃ８Ｓ性を示す
が、飽和磁束密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対し
て充分に記録出来ないという欠点がある。すなわち比較
的飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ−ＺｎフェライトでもＢ
ｓは高々５，０００Ｇ程度である。
そこでＢｓがｇ、 ｏｏｏ ｃ以上となるように金属磁
性薄膜を磁気ギャップ部に配置した構造の磁気ヘッドと
するのが望ましいことがわかった。この例として特開昭
５８−１４３１１ 号に開示されているように、フェラ
イトで構成された浮上型磁気ヘッドの磁気変換ギャップ
部にのみ高飽和磁束密度の金属磁性膜を設けた磁気ヘッ
ドが提案されている。しかし、この例では磁気変換部に
所定の巻線を施した後のインダクタンスが大きく、その
ため共振周波数が低下し、高周波での記録再生が不利に
なるという欠点がある。ここでインダクタンスが大きい
のは磁気ヘッド全体が磁性体で構成されていることに基
づく。従って低インダクタンスとするために磁気回路を
小さく構成する必要がある。このような観点から全体を
磁性材料で構成せず、磁気コアを非磁性のスライダー中
に埋設固着した構成の浮上型複合磁気ヘッドが米国特許
３．５６２．４４４号に開示された。また本発明者等は
特開昭６１−１９９２１９号にて磁気コアを非磁性スラ
イダー中に埋設した磁気ヘッドの望ましい形状について
提案した。
性薄膜を磁気ギャップ部に配置した構造の磁気ヘッドと
するのが望ましいことがわかった。この例として特開昭
５８−１４３１１ 号に開示されているように、フェラ
イトで構成された浮上型磁気ヘッドの磁気変換ギャップ
部にのみ高飽和磁束密度の金属磁性膜を設けた磁気ヘッ
ドが提案されている。しかし、この例では磁気変換部に
所定の巻線を施した後のインダクタンスが大きく、その
ため共振周波数が低下し、高周波での記録再生が不利に
なるという欠点がある。ここでインダクタンスが大きい
のは磁気ヘッド全体が磁性体で構成されていることに基
づく。従って低インダクタンスとするために磁気回路を
小さく構成する必要がある。このような観点から全体を
磁性材料で構成せず、磁気コアを非磁性のスライダー中
に埋設固着した構成の浮上型複合磁気ヘッドが米国特許
３．５６２．４４４号に開示された。また本発明者等は
特開昭６１−１９９２１９号にて磁気コアを非磁性スラ
イダー中に埋設した磁気ヘッドの望ましい形状について
提案した。
以上の点から高保磁力の媒体に対して充分に記録可能で
かつインダクタンスの小さな浮上型複合磁気ヘッドを得
るには、飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ−Ｚｎフェライト
を基板としてギャップ部に高ＢＳの薄膜磁性材を成膜し
た磁気コアを非磁性スライダー中に埋設したものが優れ
ていることがわかった。このような複合磁気ヘッドの例
として本発明者等により特開昭６０−１５４３１０号に
開示されたものがある。
かつインダクタンスの小さな浮上型複合磁気ヘッドを得
るには、飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ−Ｚｎフェライト
を基板としてギャップ部に高ＢＳの薄膜磁性材を成膜し
た磁気コアを非磁性スライダー中に埋設したものが優れ
ていることがわかった。このような複合磁気ヘッドの例
として本発明者等により特開昭６０−１５４３１０号に
開示されたものがある。
さらに埋設される磁気コアのギャップ部の構造としてＸ
型に斜交したものが特開昭６１−１９９２１７号にて提
案された。しかしながらこのＸ型構造では各コア片の先
端部が鋭くとがっており、その上に高Ｂｓ磁性膜を被着
させ平行に研磨することにより磁気ギャップを形成して
いるので、所定のトラック幅を得るにはある程度高Ｂｓ
磁性膜の膜厚を厚くしておかねばならないという制約が
ある。
型に斜交したものが特開昭６１−１９９２１７号にて提
案された。しかしながらこのＸ型構造では各コア片の先
端部が鋭くとがっており、その上に高Ｂｓ磁性膜を被着
させ平行に研磨することにより磁気ギャップを形成して
いるので、所定のトラック幅を得るにはある程度高Ｂｓ
磁性膜の膜厚を厚くしておかねばならないという制約が
ある。
また優れた性能の浮上型複合磁気ヘッドを得るには磁気
ディスクの回転時に安定した浮上量をいかに保つかとい
う問題もある。
ディスクの回転時に安定した浮上量をいかに保つかとい
う問題もある。
磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表面
の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用す
る。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディスク
から離れている。この離れた間隔は浮上量と呼ばれるが
、磁気ディスク装置の高密度化のため浮上量は年々低下
しており、Ｄａｔａｑｕｅｓｔ社発行のＣｏｍｐｕｔｅ
ｒ Ｓｔｒａｇｅ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ ５ｅｒｖｉｃｅ
（Ｒｉｇｉｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ編）１９８４年
版２．２−６頁の記載によると、浮上量は１０マイクロ
インチ（０゜２５μｍ）にまでなっている。かかるサブ
ミクロンの浮上量を磁気ディスクの回転中安定して保つ
ためには、特に磁気ヘッドの空気ベアリング面の平面度
を良好に保つ必要がある。磁気ヘッドの浮上は、磁気ヘ
ッドの浮上面と記録媒体との極めて僅かな隙間に流れ込
む空気流により達成されるのであるから、浮上面の平面
度が悪いと安定した浮上を実現し得なくなるからである
。
の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用す
る。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディスク
から離れている。この離れた間隔は浮上量と呼ばれるが
、磁気ディスク装置の高密度化のため浮上量は年々低下
しており、Ｄａｔａｑｕｅｓｔ社発行のＣｏｍｐｕｔｅ
ｒ Ｓｔｒａｇｅ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ ５ｅｒｖｉｃｅ
（Ｒｉｇｉｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ編）１９８４年
版２．２−６頁の記載によると、浮上量は１０マイクロ
インチ（０゜２５μｍ）にまでなっている。かかるサブ
ミクロンの浮上量を磁気ディスクの回転中安定して保つ
ためには、特に磁気ヘッドの空気ベアリング面の平面度
を良好に保つ必要がある。磁気ヘッドの浮上は、磁気ヘ
ッドの浮上面と記録媒体との極めて僅かな隙間に流れ込
む空気流により達成されるのであるから、浮上面の平面
度が悪いと安定した浮上を実現し得なくなるからである
。
上記米国特許３８２３４１６号に記載されたような磁気
ヘッドの場合、浮上を司どる空気ベアリング面はＮ ｉ
−７，ｎフェライトあるいはＭｎ−Ｚｎフェライトのよ
うな単一部材で形成されているので、良好な平面度を容
易に得ることができる。しかしながら、非磁性のスライ
ダーに設けられたスリット中に磁気コアを埋設し、ガラ
スを用いてその磁気コアを固着した後に空気ベアリング
面を研磨することにより得られる複合磁気ヘッドにおい
ては、平面度を良好にするために格別の工夫が必要であ
ることがわかった。この格別な事情は磁気コア、固着ガ
ラスおよび空気ベアリング面を完全に同一平面内にある
ように研磨することが著しく困難であることに起因する
。
ヘッドの場合、浮上を司どる空気ベアリング面はＮ ｉ
−７，ｎフェライトあるいはＭｎ−Ｚｎフェライトのよ
うな単一部材で形成されているので、良好な平面度を容
易に得ることができる。しかしながら、非磁性のスライ
ダーに設けられたスリット中に磁気コアを埋設し、ガラ
スを用いてその磁気コアを固着した後に空気ベアリング
面を研磨することにより得られる複合磁気ヘッドにおい
ては、平面度を良好にするために格別の工夫が必要であ
ることがわかった。この格別な事情は磁気コア、固着ガ
ラスおよび空気ベアリング面を完全に同一平面内にある
ように研磨することが著しく困難であることに起因する
。
従って磁気ディスク用の磁気ヘッドとして望ましい特性
は、（１）高保磁力の記録媒体に対して充分な記録が可
能であり、（２）低インダクタンスであり、（３）高再
生出力を有し、かつ（４）耐Ｃ８Ｓ性に優れるように良
好な平面度を有することである。
は、（１）高保磁力の記録媒体に対して充分な記録が可
能であり、（２）低インダクタンスであり、（３）高再
生出力を有し、かつ（４）耐Ｃ８Ｓ性に優れるように良
好な平面度を有することである。
従って本発明の目的は上記望ましい特性を具備する浮上
型複合磁気ヘッドを提供することである。
型複合磁気ヘッドを提供することである。
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は対向面がそ
れぞれ平坦な一対のコア片により磁気コアを構成し、磁
気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠きを
設けるとともに、切り欠きの深さを特定の範囲に設定し
、かつ磁気コアの両側に十分な厚さのガラス層を設けて
非磁性スライダーのスリット部に固着することにより、
簡単に加工精度よく、良好な空気ベアリング面の平面度
を有するとともに上記特性を有する浮上型複合磁気ヘッ
ドを得ることができることを発見し、本発明に想到した
。
れぞれ平坦な一対のコア片により磁気コアを構成し、磁
気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠きを
設けるとともに、切り欠きの深さを特定の範囲に設定し
、かつ磁気コアの両側に十分な厚さのガラス層を設けて
非磁性スライダーのスリット部に固着することにより、
簡単に加工精度よく、良好な空気ベアリング面の平面度
を有するとともに上記特性を有する浮上型複合磁気ヘッ
ドを得ることができることを発見し、本発明に想到した
。
すなわち、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは両側にサイ
ドレール部を有する非磁性セラミックスからなるスライ
ダーと、前記サイドレール部の一方に設けられたスリッ
ト部と、前記スリット部内にガラスにより固定された一
対のコア片からなる磁気コアとを有し、（ａ）前記一対
のコア片の平坦な対向面が平行に配置されて磁気ギャッ
プを形成しているとともに、前記対向面の少くとも一方
にＦｅ−Ａβ−Ｓｉ薄膜が形成されており、（ｂ）前記
磁気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠き
が設けられており、前記切り火きの深さが前記磁気ギャ
ップの深さ以上であるとともに、前記磁気コアの接合ガ
ラス部の残りの厚さが前記磁気コアの厚さ以上であり、
（ｃ）前記磁気コアの両側がガラスにより前記スリット
部に固着されていることを特徴とする。
ドレール部を有する非磁性セラミックスからなるスライ
ダーと、前記サイドレール部の一方に設けられたスリッ
ト部と、前記スリット部内にガラスにより固定された一
対のコア片からなる磁気コアとを有し、（ａ）前記一対
のコア片の平坦な対向面が平行に配置されて磁気ギャッ
プを形成しているとともに、前記対向面の少くとも一方
にＦｅ−Ａβ−Ｓｉ薄膜が形成されており、（ｂ）前記
磁気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠き
が設けられており、前記切り火きの深さが前記磁気ギャ
ップの深さ以上であるとともに、前記磁気コアの接合ガ
ラス部の残りの厚さが前記磁気コアの厚さ以上であり、
（ｃ）前記磁気コアの両側がガラスにより前記スリット
部に固着されていることを特徴とする。
本発明を添付図面を参照して以下に詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
の全体構成を示す斜視図である。１１は非磁性スライダ
ー、１２はスライダー１１の一方のサイドレールに設け
られたスリット部、１３はスリット部１２に埋設された
磁気コア、１４はその磁気コア１３を固着するガラスで
ある。スライダー１１のサイドレール１５，１６の片側
（図では１５）の端部に磁気コア１３が固着されている
ので、安定した浮上を実現するためには磁気コアＩ３が
埋設固着されている部分の平面度を良好に加工すること
が重要である。なおスライダー１１としては熱膨張係数
１０５〜１１５ Ｘ １０−７／℃、空孔率０．５％以
下のＣａＴｉＯｓからなる非磁性セラミックを用いるの
が好ましい。
の全体構成を示す斜視図である。１１は非磁性スライダ
ー、１２はスライダー１１の一方のサイドレールに設け
られたスリット部、１３はスリット部１２に埋設された
磁気コア、１４はその磁気コア１３を固着するガラスで
ある。スライダー１１のサイドレール１５，１６の片側
（図では１５）の端部に磁気コア１３が固着されている
ので、安定した浮上を実現するためには磁気コアＩ３が
埋設固着されている部分の平面度を良好に加工すること
が重要である。なおスライダー１１としては熱膨張係数
１０５〜１１５ Ｘ １０−７／℃、空孔率０．５％以
下のＣａＴｉＯｓからなる非磁性セラミックを用いるの
が好ましい。
第２図は磁気コアＩ３の拡大斜視図である。２１．２２
はそれぞれＭｎ−ＺｎフェライトからなるＣ型およびＩ
型コア片と称される磁性体であり、２３は■型コア片上
に被着されたＦｅ−Ａβ−３１薄膜である。２４はＣ型
コア片２１とＩ型コア片２２との間に形成された巻線用
の空間であり、その上部にＣ型コア、片２１と■型コア
片２２を接合するガラス部２５が設けられている。
はそれぞれＭｎ−ＺｎフェライトからなるＣ型およびＩ
型コア片と称される磁性体であり、２３は■型コア片上
に被着されたＦｅ−Ａβ−３１薄膜である。２４はＣ型
コア片２１とＩ型コア片２２との間に形成された巻線用
の空間であり、その上部にＣ型コア、片２１と■型コア
片２２を接合するガラス部２５が設けられている。
磁気コア１３のトラック面にはトラック幅を規制する切
り欠き２６が形成されている。切り欠き２６は磁気コア
Ｉ３の長手方向に延在する。これにより磁気ギャップ２
７のトラック幅Ｔｗは任意に設定することができる。な
お磁気ギャップ２７はスパッタリング等により被着され
たＳｉＯ□等のギャップ規制膜により形成されている。
り欠き２６が形成されている。切り欠き２６は磁気コア
Ｉ３の長手方向に延在する。これにより磁気ギャップ２
７のトラック幅Ｔｗは任意に設定することができる。な
お磁気ギャップ２７はスパッタリング等により被着され
たＳｉＯ□等のギャップ規制膜により形成されている。
本発明の磁気コア１３において、切り欠き２６の深さＤ
と磁気ギャップ２７の深さＧｄとの間、及び接合ガラス
部２５の残りの厚さＧｗと磁気コアの厚さＣｗとの間に
はそれぞれ実質的に次の関係が満たされている必要があ
る。
と磁気ギャップ２７の深さＧｄとの間、及び接合ガラス
部２５の残りの厚さＧｗと磁気コアの厚さＣｗとの間に
はそれぞれ実質的に次の関係が満たされている必要があ
る。
Ｄ≧Ｇｄ・・・（１）
Ｇｗ≧Ｃｗ・・・（２）
式（１）について、切り欠き２６の深さＤがギャップ深
さＧｄより小さいとトラック幅Ｔｗの規制の効果が不満
足となる。すなわちヘッド先端の磁気抵抗が小さくなり
すぎ、ギャップ先端よりもれる磁界が減少するために、
記録の効率が低下する。
さＧｄより小さいとトラック幅Ｔｗの規制の効果が不満
足となる。すなわちヘッド先端の磁気抵抗が小さくなり
すぎ、ギャップ先端よりもれる磁界が減少するために、
記録の効率が低下する。
また式（２）について、接合ガラス部２５の残りの厚さ
Ｇｗが磁気コアの厚さＣｗより小さいと、磁気コアの加
工時にガラス部２５に亀裂が入ったり、磁気コア１３を
スライダーのスリット部内に固着する際に両コア片の接
合が不安定となるという問題が生ずる。
Ｇｗが磁気コアの厚さＣｗより小さいと、磁気コアの加
工時にガラス部２５に亀裂が入ったり、磁気コア１３を
スライダーのスリット部内に固着する際に両コア片の接
合が不安定となるという問題が生ずる。
高密度記録を達成する上でギャップ長さＧで及びトラッ
ク幅Ｔｗは小さくなる傾向にあり、リジラド・ディスク
・ドライブ用としては現在１μｍ以下のＧＩ！、及び２
０μｍ以下のＴＷのものが用いられている。一方磁気コ
ア１３の幅Ｃｗは０゜１〜０．２ｍｍ程度である。この
ような寸法の磁気コアにおいて、上記条件（１）及び（
２）を実質的に満たすことを前提として、一般的にギャ
ップ深さＧｄは２〜２０．ｕｍ、切り欠き深さＤは２０
〜２００ ｐ ｍ 。
ク幅Ｔｗは小さくなる傾向にあり、リジラド・ディスク
・ドライブ用としては現在１μｍ以下のＧＩ！、及び２
０μｍ以下のＴＷのものが用いられている。一方磁気コ
ア１３の幅Ｃｗは０゜１〜０．２ｍｍ程度である。この
ような寸法の磁気コアにおいて、上記条件（１）及び（
２）を実質的に満たすことを前提として、一般的にギャ
ップ深さＧｄは２〜２０．ｕｍ、切り欠き深さＤは２０
〜２００ ｐ ｍ 。
接合ガラス部の厚さＧｗは１５０〜７００ μｍとする
のが好ましい。
のが好ましい。
この磁気ヘッドは以下のプロセスにより製造することが
できる。まず■型コア片及びＣ型コア片を構成すべきフ
ェライト材料のブロックを準備する。このフェライト材
料としては高Ｂｓでかつ高周波での透磁率が極力大きい
Ｍｎ−Ｚｎフェライトが望ましい。またガラス接合時に
ガラス中に生じる気泡（ｖｏｉｄ）を減らすために、熱
間静水圧プレス（Ｈｏｔ ｌ５ｏｓｔａｔｉｃ Ｐｒｅ
ｓｓ）法により高密度化されたものを用いるのが好まし
い。特にＢ１ｏ＝４７００〜５４００Ｇ、 Ｈｃ ＝
０．１〜０．２０ｅ、５ Ｍ Ｈｚに於る透磁率８００
〜１３００、空孔率０．５％以下、熱膨張係数１０５〜
１２０ Ｘ １０−’／ｌのＭｎ−Ｚｎ多結晶フェライ
トを用いるのが好ましいが、多結晶フェライトの代りに
単結晶材を用いても良い。
できる。まず■型コア片及びＣ型コア片を構成すべきフ
ェライト材料のブロックを準備する。このフェライト材
料としては高Ｂｓでかつ高周波での透磁率が極力大きい
Ｍｎ−Ｚｎフェライトが望ましい。またガラス接合時に
ガラス中に生じる気泡（ｖｏｉｄ）を減らすために、熱
間静水圧プレス（Ｈｏｔ ｌ５ｏｓｔａｔｉｃ Ｐｒｅ
ｓｓ）法により高密度化されたものを用いるのが好まし
い。特にＢ１ｏ＝４７００〜５４００Ｇ、 Ｈｃ ＝
０．１〜０．２０ｅ、５ Ｍ Ｈｚに於る透磁率８００
〜１３００、空孔率０．５％以下、熱膨張係数１０５〜
１２０ Ｘ １０−’／ｌのＭｎ−Ｚｎ多結晶フェライ
トを用いるのが好ましいが、多結晶フェライトの代りに
単結晶材を用いても良い。
■型コアブロック上にはＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜をスパッタ
リングで被着する。スパッタの条件としては安定な放電
を維持するため５〜１２ ｍＴｏｒｒのＡｒガス圧が望
ましい。また電力は合金ターゲットの温度上昇による割
れを防ぐとともに、８００Ａ／分程度の膜生成速度を得
るために、６００〜１２００Ｗ（直径１５０ｍｍのター
ゲラトノ例）が望ましい。Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜の組成と
しては高透磁率を得るため、重量基準で８３〜８６％の
Ｆｅ、５〜８９６のＡ１．８〜１１％のＳｉが好ましい
。特に磁歪定数を小さくする目的で、重量基準で８３．
５〜８５％のＦｅ、５〜７％のＡｆ、９〜１Ｏ０５％の
Ｓｉのものが望ましい。Ｆｅ−Ａｌ−５ｉ膜には耐食性
を向上させる目的で微量の添加物を加えてもよい。この
場合、２重量％以下のＴｉ、Ｒｕ、Ｃｒ等を単独あるい
は複合添加するのが望ましい。
リングで被着する。スパッタの条件としては安定な放電
を維持するため５〜１２ ｍＴｏｒｒのＡｒガス圧が望
ましい。また電力は合金ターゲットの温度上昇による割
れを防ぐとともに、８００Ａ／分程度の膜生成速度を得
るために、６００〜１２００Ｗ（直径１５０ｍｍのター
ゲラトノ例）が望ましい。Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜の組成と
しては高透磁率を得るため、重量基準で８３〜８６％の
Ｆｅ、５〜８９６のＡ１．８〜１１％のＳｉが好ましい
。特に磁歪定数を小さくする目的で、重量基準で８３．
５〜８５％のＦｅ、５〜７％のＡｆ、９〜１Ｏ０５％の
Ｓｉのものが望ましい。Ｆｅ−Ａｌ−５ｉ膜には耐食性
を向上させる目的で微量の添加物を加えてもよい。この
場合、２重量％以下のＴｉ、Ｒｕ、Ｃｒ等を単独あるい
は複合添加するのが望ましい。
次に第３図に示すように、Ｆｅ−Ａｌ−５ｉ膜３３を被
着したＩ型コア片３２にＣ型コアブロック３１を接触さ
せ、巻線窓３４中に置いたガラス棒３５を加熱流入させ
ることにより接合する。この場合、好ましい接合ガラス
は軟化点５４０〜６３０℃、熱膨張係数９４〜１０３
Ｘ １０−７／℃のものである。
着したＩ型コア片３２にＣ型コアブロック３１を接触さ
せ、巻線窓３４中に置いたガラス棒３５を加熱流入させ
ることにより接合する。この場合、好ましい接合ガラス
は軟化点５４０〜６３０℃、熱膨張係数９４〜１０３
Ｘ １０−７／℃のものである。
このような物性を示す接合用ガラス（第一のガラス）と
してはＰ ｂ Ｏ−Ｓ ｉ ０２ を主成分とし、他に
種々の元素を加えた多くの組合せが考えられるけれども
、本発明者による実験の結果ではＰｂＯ−５ｉｎ２にア
ルカリ金属酸化物（Ｋ２０、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ、○等）を
加えた系、又はＰｂＯ−Ｓｉ０２ Ｂ２０３ ＡＩ
！ｚ Ｏ３にアルカリ金属酸化物を加えた系が適してい
る。このような系での好ましい組成範囲は重量基準で、
２８〜４９％のＳｉｏ２．４４〜５９％のＰｂＯ１７〜
１３％のアルカリ金属酸化物からなる組成、又は２８〜
４９％のＳｉＯ３、５〜１０％のＢ２Ｏ３．７〜１３％
のアルカリ金属酸化物、残部ＰｂＯからなる組成である
。また後者の系には５〜１２％のＡｌｘＯ３を添加して
もよい。この第一のガラスの特に好ましい一例として重
量基準で３５Ｐｂロー４５ＳｉＯ，−３Ｂ、０．−７
Ａ３２０．−５に、０の組成のものく軟化点５８０℃、
熱膨張係数９５Ｘ１０−’／ｌ）が挙げられる。このガ
ラスを使用し接合を行った磁気コアの接合強度は５ ｋ
ｇ ／ ｍ ｍ”であり申し分なく、またＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ膜の浸食も認められない。
してはＰ ｂ Ｏ−Ｓ ｉ ０２ を主成分とし、他に
種々の元素を加えた多くの組合せが考えられるけれども
、本発明者による実験の結果ではＰｂＯ−５ｉｎ２にア
ルカリ金属酸化物（Ｋ２０、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ、○等）を
加えた系、又はＰｂＯ−Ｓｉ０２ Ｂ２０３ ＡＩ
！ｚ Ｏ３にアルカリ金属酸化物を加えた系が適してい
る。このような系での好ましい組成範囲は重量基準で、
２８〜４９％のＳｉｏ２．４４〜５９％のＰｂＯ１７〜
１３％のアルカリ金属酸化物からなる組成、又は２８〜
４９％のＳｉＯ３、５〜１０％のＢ２Ｏ３．７〜１３％
のアルカリ金属酸化物、残部ＰｂＯからなる組成である
。また後者の系には５〜１２％のＡｌｘＯ３を添加して
もよい。この第一のガラスの特に好ましい一例として重
量基準で３５Ｐｂロー４５ＳｉＯ，−３Ｂ、０．−７
Ａ３２０．−５に、０の組成のものく軟化点５８０℃、
熱膨張係数９５Ｘ１０−’／ｌ）が挙げられる。このガ
ラスを使用し接合を行った磁気コアの接合強度は５ ｋ
ｇ ／ ｍ ｍ”であり申し分なく、またＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉ膜の浸食も認められない。
なおり２０．は高湿度下でのガラスの腐食を防止する作
用を有する。しかし逆にＢ２Ｏ．が多すぎるとＦｅ−Ａ
ｌ！−Ｓｉ膜あるいはＭｎ−Ｚｎ７エライトとの濡れ性
が悪くなり、接合強度が保てない。Ａｌ１ｒｏｓ は高
温度下でのガラスの変色を防止するが、逆に多すぎると
軟化点が高くなり接合できなくなる。アルカリ金属酸化
物類はさらにガラスの流動性を調節する効果を担ってい
る。
用を有する。しかし逆にＢ２Ｏ．が多すぎるとＦｅ−Ａ
ｌ！−Ｓｉ膜あるいはＭｎ−Ｚｎ７エライトとの濡れ性
が悪くなり、接合強度が保てない。Ａｌ１ｒｏｓ は高
温度下でのガラスの変色を防止するが、逆に多すぎると
軟化点が高くなり接合できなくなる。アルカリ金属酸化
物類はさらにガラスの流動性を調節する効果を担ってい
る。
このようなガラスを用い７００〜７６０℃で接合を行う
。この接合ブロックを切断し、磁気コアを得ることがで
きる。
。この接合ブロックを切断し、磁気コアを得ることがで
きる。
この磁気コアのスライダーのスリット部への固着は次の
ようにして行う。第４図は接合した磁気コア４３をスラ
イダー４１のスリット部４２内に設置するとともに、ガ
ラス棒４８をスライダー４１の上面に乗せた状態を示す
斜視図である。磁気コア４３の切り欠き４５はスライダ
ーの片端部４４に向けられているので、磁気コア４３が
片端部４４に押し付けられていても、スリット部の内面
との間に隙間４７．４９が形成される。磁気コア４３の
固定はバネ材４６による仮固定で容易に達成される。ガ
ラス棒４８は第二のガラスとして磁気コア４３をスリッ
ト部４２に固着するものであり、かかる第二のガラスと
しては熱膨張係数８７〜９６Ｘ ｌ Ｏ−’／℃、軟化
点３７０〜４８０ ℃程度のものが好ましい。このよう
な性質を示す組成としては、重量基準で７０〜８３％の
ＰｂＯ，３〜１０％のＡｆ１２０３ ６〜１３％の５ｉ
０２ ４〜１０％のＢ２Ｏ３のものがあり、特に好まし
い一例として７８ＰｂＯ−８Ｍ ２０３−１ ＯＳ Ｉ
Ｏ□−４Ｂ２Ｏ，（重量％）がある。このガラスの熱膨
張係数は９１ Ｘ １０−７／℃であり軟化点は４４０
℃である。このガラスを用いて例えば５３０℃で固着す
れば、クラックのない接合を行うことができる。
ようにして行う。第４図は接合した磁気コア４３をスラ
イダー４１のスリット部４２内に設置するとともに、ガ
ラス棒４８をスライダー４１の上面に乗せた状態を示す
斜視図である。磁気コア４３の切り欠き４５はスライダ
ーの片端部４４に向けられているので、磁気コア４３が
片端部４４に押し付けられていても、スリット部の内面
との間に隙間４７．４９が形成される。磁気コア４３の
固定はバネ材４６による仮固定で容易に達成される。ガ
ラス棒４８は第二のガラスとして磁気コア４３をスリッ
ト部４２に固着するものであり、かかる第二のガラスと
しては熱膨張係数８７〜９６Ｘ ｌ Ｏ−’／℃、軟化
点３７０〜４８０ ℃程度のものが好ましい。このよう
な性質を示す組成としては、重量基準で７０〜８３％の
ＰｂＯ，３〜１０％のＡｆ１２０３ ６〜１３％の５ｉ
０２ ４〜１０％のＢ２Ｏ３のものがあり、特に好まし
い一例として７８ＰｂＯ−８Ｍ ２０３−１ ＯＳ Ｉ
Ｏ□−４Ｂ２Ｏ，（重量％）がある。このガラスの熱膨
張係数は９１ Ｘ １０−７／℃であり軟化点は４４０
℃である。このガラスを用いて例えば５３０℃で固着す
れば、クラックのない接合を行うことができる。
以上のような第二のガラスによる磁気コアのスリット部
への固着には、一般に第二のガラスを５００〜５８０
℃に加熱して磁気コアの両側の隙間に流入させる。その
後磁気ヘッドの空気ベアリング面を研削機研磨加工し、
磁気ヘッドを完成する。
への固着には、一般に第二のガラスを５００〜５８０
℃に加熱して磁気コアの両側の隙間に流入させる。その
後磁気ヘッドの空気ベアリング面を研削機研磨加工し、
磁気ヘッドを完成する。
第４図に明確に示されるように、磁気コア４３とスライ
ダーのスリット部４２の一方の内面との隙間は、磁気コ
ア４３の下部においては零であるが（すなわちスライダ
ーのスリット部の一方の内面に磁気コア４３が接触して
いるが）、上部においては４９で示されるように十分な
幅となっている。これにより磁気コア４３は両側に設け
られた第二のガラス層によりスリットｉ内に強面に固さ
れることになる。
ダーのスリット部４２の一方の内面との隙間は、磁気コ
ア４３の下部においては零であるが（すなわちスライダ
ーのスリット部の一方の内面に磁気コア４３が接触して
いるが）、上部においては４９で示されるように十分な
幅となっている。これにより磁気コア４３は両側に設け
られた第二のガラス層によりスリットｉ内に強面に固さ
れることになる。
本発明をさらに以下の具体的な実施例により詳細に説明
する。
する。
実施例１
第２図に示す構造の磁気コアを形成するためにＭｎ−Ｚ
ｎ多結晶フェライトからなるＣ型コア片及びＩ型コア片
を作成した。Ｍｎ−Ｚｎ多結晶フェライトは熱間静水圧
プレス法により高密度化されたもので、空孔率が０．１
％であり、磁気特性としてはＢ、。＝５１００Ｇ、 Ｈ
ｃ ＝０．１５０ ｅ、 ５ ＭＨｚにおける透磁率＝
９５０ であり、また熱膨張係数は１１５ ｘ １０−
７／ ｔであった。
ｎ多結晶フェライトからなるＣ型コア片及びＩ型コア片
を作成した。Ｍｎ−Ｚｎ多結晶フェライトは熱間静水圧
プレス法により高密度化されたもので、空孔率が０．１
％であり、磁気特性としてはＢ、。＝５１００Ｇ、 Ｈ
ｃ ＝０．１５０ ｅ、 ５ ＭＨｚにおける透磁率＝
９５０ であり、また熱膨張係数は１１５ ｘ １０−
７／ ｔであった。
各Ｃ型コアブロック及び■型コアブロックは外周スライ
サーにより成形し、平面研削盤で研削後ラップ機により
研磨したものである。研磨後クロロセン煮沸を行い、ク
ロロセン中、アセトン中及びアルコール中でそれぞれ超
音波洗浄を行った後、フレオン煮沸を行い、最後にフレ
オン蒸気で洗浄した。
サーにより成形し、平面研削盤で研削後ラップ機により
研磨したものである。研磨後クロロセン煮沸を行い、ク
ロロセン中、アセトン中及びアルコール中でそれぞれ超
音波洗浄を行った後、フレオン煮沸を行い、最後にフレ
オン蒸気で洗浄した。
またＩ型コアブロック上にマグネトロンスパッタ装置に
よりＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ薄膜を形成した。
よりＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ薄膜を形成した。
マグネトロンスパッタ装置の投入電力はＱ、 ｇｋｗ
。
。
アルゴン圧は３ｍＴｏｒｒ、基板温度は２００℃であっ
た。
た。
またＦｅ−Ａｆ−Ｓｉ薄膜は重量基準で８５％のＦｅ、
６％のＡＮ及び９％の８１からなる組成を有し、厚さは
２．９μｍであった。この膜の特性はＢｓ＝１１，０Ｏ
ＯＧＳＨｃ＝０．３〜０．５０ｅ、５ＭＨｚにおける透
磁率＝１，０００〜３、０００ 、磁歪定数＝＋ｌＸ１
０−’であった。
６％のＡＮ及び９％の８１からなる組成を有し、厚さは
２．９μｍであった。この膜の特性はＢｓ＝１１，０Ｏ
ＯＧＳＨｃ＝０．３〜０．５０ｅ、５ＭＨｚにおける透
磁率＝１，０００〜３、０００ 、磁歪定数＝＋ｌＸ１
０−’であった。
次にＦｅ−Ａｊ２−Ｓｉ薄膜を形成したＩ型コアブロッ
ク上にＲＦスパッタ装置を用いて、０．３ｋＷの投入電
力、５ｍＴｏｒｒのアルゴン圧、１５０℃の基板温度で
０．５μｍの膜厚の５ｉｎ２ギヤツプ規制膜を形成した
。
ク上にＲＦスパッタ装置を用いて、０．３ｋＷの投入電
力、５ｍＴｏｒｒのアルゴン圧、１５０℃の基板温度で
０．５μｍの膜厚の５ｉｎ２ギヤツプ規制膜を形成した
。
さらにＣ型コアブロックとＩ型コアブロックを接合した
第一のガラスの組成は以下の通りであった。
第一のガラスの組成は以下の通りであった。
ＰｂＯ５４重量％
５Ｉ０２ ３５．９ ”
Ｎ２０ １０．１
この第一のガラスの軟化点は５９７℃、熱膨張係数は９
６ Ｘ １０−７／℃であった。第一のガラスによるコ
アブロックの接合は電気炉によりＮ２ ガス中で３００
℃／時間の昇温速度で加熱し、７６０℃に３０分間保持
することにより行った。
６ Ｘ １０−７／℃であった。第一のガラスによるコ
アブロックの接合は電気炉によりＮ２ ガス中で３００
℃／時間の昇温速度で加熱し、７６０℃に３０分間保持
することにより行った。
このようにして接合したコアブロックを平面研削盤及び
ラップ機を用いて研削、研磨し、ワイヤ−ソーにより厚
さ１５２μｍに切断した。
ラップ機を用いて研削、研磨し、ワイヤ−ソーにより厚
さ１５２μｍに切断した。
次に各磁気コアのトラック幅を規定するために、高剛性
グイサーにより幅１３８．５μｍ１深さ２００ μｍの
切り欠きを形成した。
グイサーにより幅１３８．５μｍ１深さ２００ μｍの
切り欠きを形成した。
このようにして得られた磁気コアの構造は以下の通りで
ある。
ある。
磁気コアの幅Ｃｗ １５２μｍ
トラック幅 ＴＶ １３．！ｌｌＪｍギャップ長さ
Ｇｊ！ ０．５５μｍギャップ深さＧｄ
４μｍ接合ガラスの厚さＧｗ 約２００μｍ次
に熱膨張係数が１０８ Ｘ ｌ Ｏ−７℃、空孔率が０
．１５％のＣａ Ｔ ｉ ０３ セラミックからなるス
ライダーの一方のサイドレールの端部に、長さ１゜５
ｍｍ、幅２２０μｍのスリット部を形成し、その中に上
記磁気コアを板ばねにより固定して、下記組成の第二の
ガラスにより固着した。
Ｇｊ！ ０．５５μｍギャップ深さＧｄ
４μｍ接合ガラスの厚さＧｗ 約２００μｍ次
に熱膨張係数が１０８ Ｘ ｌ Ｏ−７℃、空孔率が０
．１５％のＣａ Ｔ ｉ ０３ セラミックからなるス
ライダーの一方のサイドレールの端部に、長さ１゜５
ｍｍ、幅２２０μｍのスリット部を形成し、その中に上
記磁気コアを板ばねにより固定して、下記組成の第二の
ガラスにより固着した。
ＰｂＯ７９，０重量％
５１０２ ９．０”
Ａｉｏｓ ６．０”
Ｂ２ ０３ ６． Ｏ”
第二のガラスの熱膨張係数は９１ Ｘ １０−’／ｌ、
軟化点は４４７℃、転移点は３７９℃、屈伏点は４０６
℃であった。これを電気炉でＮ２ 中３００℃／時間の
昇温速度で加熱し、５４０℃の温度に３０分間保持する
ことによりスリット部と磁気コアとの間隙に流入させた
。このようにして得た磁気ヘッドの空気ベアリング面を
鏡面研削盤及びラップ機により研削、研磨し、本発明の
浮上型複合磁気ヘッドとした。これにより切り欠き深さ
Ｄは７５μｍとなった。なおスリット部の内面と磁気コ
アの両側部との間隔はそれぞれ６８μｍ、１３８．５
μｍであった。
軟化点は４４７℃、転移点は３７９℃、屈伏点は４０６
℃であった。これを電気炉でＮ２ 中３００℃／時間の
昇温速度で加熱し、５４０℃の温度に３０分間保持する
ことによりスリット部と磁気コアとの間隙に流入させた
。このようにして得た磁気ヘッドの空気ベアリング面を
鏡面研削盤及びラップ機により研削、研磨し、本発明の
浮上型複合磁気ヘッドとした。これにより切り欠き深さ
Ｄは７５μｍとなった。なおスリット部の内面と磁気コ
アの両側部との間隔はそれぞれ６８μｍ、１３８．５
μｍであった。
この磁気ヘッドを用い、Ｃｏ−Ｎｉスパッタ記録媒体（
Ｈｃ ＝１１５００ ｅ ）を有する５、２５インチの
磁気ディスクに対して浮上量０．３μｍ１周速１２．１
ｍ／秒で２．５ＭＨｚにおける再生出力特性その他のヘ
ッド特性を測定した。また比較のためにＦｅ−ＡＲ−Ｓ
ｉ薄膜を有さない従来の複合磁気ヘッドについても、同
じ測定を行った。結果を第１表に示す。
Ｈｃ ＝１１５００ ｅ ）を有する５、２５インチの
磁気ディスクに対して浮上量０．３μｍ１周速１２．１
ｍ／秒で２．５ＭＨｚにおける再生出力特性その他のヘ
ッド特性を測定した。また比較のためにＦｅ−ＡＲ−Ｓ
ｉ薄膜を有さない従来の複合磁気ヘッドについても、同
じ測定を行った。結果を第１表に示す。
また本発明の磁気ヘッド（Ａ） 及び従来例の磁気ヘ
ッド（Ｂ） を用いて、上記磁気ディスクに対する書
き込み電流と再生出力との関係を求めた。結果を第５図
に示す。
ッド（Ｂ） を用いて、上記磁気ディスクに対する書
き込み電流と再生出力との関係を求めた。結果を第５図
に示す。
以上の比較から、本発明の磁気ヘッドは優れた再生出力
特性及びヘッド特性を有することがわかる。
特性及びヘッド特性を有することがわかる。
実施例２
実施例１の磁気コアにおいて接合ガラスの厚さを種々変
更し、切り欠き形成時における接合ガラスの亀裂の発生
状況を調べた。結果を第２表に示す。
更し、切り欠き形成時における接合ガラスの亀裂の発生
状況を調べた。結果を第２表に示す。
以上の結果から、接合ガラスの厚さが８０〜１００μｍ
の場合（コア厚より実質的に小さい場合）、切り欠き形
成によるトラック幅出し加工時に接合ガラス内に亀裂が
発生し、製品歩留りが低下することがわかる。
の場合（コア厚より実質的に小さい場合）、切り欠き形
成によるトラック幅出し加工時に接合ガラス内に亀裂が
発生し、製品歩留りが低下することがわかる。
実施例３
実施例１において■型コアに被着するＦｅ−Ａ１−Ｓｉ
薄膜の厚さを３．８．１２μｍと変化させ、それ以外は
同じ方法により磁気コアを作成し、加工時のＦｅ−Ａβ
−Ｓｉ薄膜の剥離及び磁気コアの脱粒について調べた。
薄膜の厚さを３．８．１２μｍと変化させ、それ以外は
同じ方法により磁気コアを作成し、加工時のＦｅ−Ａβ
−Ｓｉ薄膜の剥離及び磁気コアの脱粒について調べた。
またその磁気コアを用いて各磁気ヘッドを作成し、実施
例１と同じ磁気ディスクにより再生出力特性を測定した
。結果を第３表に示す。
例１と同じ磁気ディスクにより再生出力特性を測定した
。結果を第３表に示す。
以上の結果から明らかな通り、Ｆｅ−Ａｌ！−Ｓｉ薄膜
の膜厚が３μｍ及び８μｍの場合、磁気コアの加工時に
問題がないのみならず、磁気ヘッドの特性も良好である
が、１２μｍとなると加工時に膜剥離やコアの脱粒等が
起こり、かつ得られる磁気ヘッドの再生出力特性も低い
。これはＦｅ−Ａ１−Ｓｉ薄膜が厚すぎるために、コア
基板と膜との界面に熱膨張係数の差による大きな応力が
かかり、膜の剥離やコア基板の脱粒が発生するためであ
る。
の膜厚が３μｍ及び８μｍの場合、磁気コアの加工時に
問題がないのみならず、磁気ヘッドの特性も良好である
が、１２μｍとなると加工時に膜剥離やコアの脱粒等が
起こり、かつ得られる磁気ヘッドの再生出力特性も低い
。これはＦｅ−Ａ１−Ｓｉ薄膜が厚すぎるために、コア
基板と膜との界面に熱膨張係数の差による大きな応力が
かかり、膜の剥離やコア基板の脱粒が発生するためであ
る。
実施例４
実施例１と同様にして磁気コアを作成し、これに２通り
の深さのトラック幅規制用の切り欠きを形成した。切り
欠きの深さはそれぞれ２μｍ及び１６５μｍであった。
の深さのトラック幅規制用の切り欠きを形成した。切り
欠きの深さはそれぞれ２μｍ及び１６５μｍであった。
これらの磁気コアを用い、実施例１と同様にして磁気ヘ
ッドを作成した。得られた磁気ヘッドの諸元は以下の通
りであった。
ッドを作成した。得られた磁気ヘッドの諸元は以下の通
りであった。
磁気コアの幅Ｃｗ １５２μｍトラック幅Ｔ
Ｖ １３．５μｍギャップ長さＧｌ
Ｏ，５５μｍギャップ深さＧｄ
５μｍＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜厚 ２．９μｍ接合ガラ
スの厚さ 約２００μｍ巻き数Ｎ
４２ターンこれらの磁気ヘッドを用いて、実施例
１と同じ磁気ディスクによりヘッド特性を測定した。結
果を第４表に示す。
Ｖ １３．５μｍギャップ長さＧｌ
Ｏ，５５μｍギャップ深さＧｄ
５μｍＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜厚 ２．９μｍ接合ガラ
スの厚さ 約２００μｍ巻き数Ｎ
４２ターンこれらの磁気ヘッドを用いて、実施例
１と同じ磁気ディスクによりヘッド特性を測定した。結
果を第４表に示す。
以上の結果から、切り欠き深さＤがギャップ深さＧｄよ
り小さいと再生出力が小さく、その他のヘッド特性も劣
っていることがわかる。これは切り欠きが浅すぎるため
にヘッド先端の磁気抵抗が小さくなりすぎ、ギャップ先
端よりもれる磁界が減少し、記録効率が低下するためで
ある。これに対して切り欠き深さＤが十分に大きいと（
コア幅より大）優れた磁気特性が得られることがわかる
。
り小さいと再生出力が小さく、その他のヘッド特性も劣
っていることがわかる。これは切り欠きが浅すぎるため
にヘッド先端の磁気抵抗が小さくなりすぎ、ギャップ先
端よりもれる磁界が減少し、記録効率が低下するためで
ある。これに対して切り欠き深さＤが十分に大きいと（
コア幅より大）優れた磁気特性が得られることがわかる
。
以上に詳述した通り、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは
いわゆる平行型であるとともにトラック面にトラック幅
を規制する切り欠きを有し、かつ前記切り欠きの深さが
ギャップ深さ以上であるとともに接合ガラスの残り厚さ
が磁気コアの幅量上であり、かつ磁気コアが両側のガラ
ス層により非磁性スライダーのスリット部内に固着され
る構造を有するので、良好なヘッド特性を有するのみな
らず、簡単に加工精度良く作製することができるという
利点を有する。また磁気コアの両側がガラス層を介して
スライダーのスリット部に固着されているので、磁気ヘ
ッドの空気ベアリング面の平面度が良好であるという利
点も有する。
いわゆる平行型であるとともにトラック面にトラック幅
を規制する切り欠きを有し、かつ前記切り欠きの深さが
ギャップ深さ以上であるとともに接合ガラスの残り厚さ
が磁気コアの幅量上であり、かつ磁気コアが両側のガラ
ス層により非磁性スライダーのスリット部内に固着され
る構造を有するので、良好なヘッド特性を有するのみな
らず、簡単に加工精度良く作製することができるという
利点を有する。また磁気コアの両側がガラス層を介して
スライダーのスリット部に固着されているので、磁気ヘ
ッドの空気ベアリング面の平面度が良好であるという利
点も有する。
第１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
を示す斜視図であり、 第２図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドに組み込まれる
磁気コアの一例を示す斜視図であり、第３図は両コア片
を組み合わせた後接合用ガラス棒を巻線用窓内に挿入し
た状態を示す斜視図であり、 第４図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドを製造するため
に第二のガラスを充填するための工程を示す図であり、 第５図は書き込み電流と再生出力との関係を示すグラフ
である。 １１ ・・・ スライダー １２ ・・・ スリット部 １３ ・・・ 磁気コア １４ ・・・ 接合ガラス １５．１６ ・・・ サイドレール ０ｗ ＧＩ！ ｄ ０ｗ ０ｗ Ｃ型コア片 Ｉ型コア片 Ｆｅ−Ａβ−Ｓｉ薄膜 巻線用窓 接合ガラス部 切り欠き 磁気ギャップ トラック幅 ギャップ長さ ギャップ深さ 接合ガラス部の残りの厚さ 切り欠き深さ 磁気コア幅
を示す斜視図であり、 第２図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドに組み込まれる
磁気コアの一例を示す斜視図であり、第３図は両コア片
を組み合わせた後接合用ガラス棒を巻線用窓内に挿入し
た状態を示す斜視図であり、 第４図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドを製造するため
に第二のガラスを充填するための工程を示す図であり、 第５図は書き込み電流と再生出力との関係を示すグラフ
である。 １１ ・・・ スライダー １２ ・・・ スリット部 １３ ・・・ 磁気コア １４ ・・・ 接合ガラス １５．１６ ・・・ サイドレール ０ｗ ＧＩ！ ｄ ０ｗ ０ｗ Ｃ型コア片 Ｉ型コア片 Ｆｅ−Ａβ−Ｓｉ薄膜 巻線用窓 接合ガラス部 切り欠き 磁気ギャップ トラック幅 ギャップ長さ ギャップ深さ 接合ガラス部の残りの厚さ 切り欠き深さ 磁気コア幅
Claims (13)
- （１）両側にサイドレール部を有する非磁性セラミック
スからなるスライダーと、前記サイドレール部の一方に
設けられたスリット部と、前記スリット部内にガラスに
より固定された一対のコア片からなる磁気コアとを有す
る浮上型複合磁気ヘッドにおいて、 （ａ）前記一対のコア片の平坦な対向面が平行に配置さ
れて磁気ギャップを形成しているとともに、前記対向面
の少くとも一方にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ薄膜が形成されてお
り、 （ｂ）前記磁気コアのトラック面にトラック幅を規制す
る切り欠きが設けられており、前記切り欠きの深さが前
記磁気ギャップの深さ以上であるとともに前記磁気コア
の接合ガラス部の残りの厚さが前記磁気コアの厚さ以上
であり、 （ｃ）前記磁気コアの両側がガラスにより前記スリット
部に固着されている ことを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。 - （２）特許請求の範囲第１項に記載の浮上型複合磁気ヘ
ッドにおいて、前記スライダーがＣａＴｉＯ＿３からな
ることを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。 - （３）特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の浮上型
複合磁気ヘッドにおいて、前記Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ薄膜の
膜厚が１０μｍ以下であることを特徴とする浮上型複合
磁気ヘッド。 - （４）特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記
載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コアがＭ
ｎ−Ｚｎフェライトからなることを特徴とする浮上型複
合磁気ヘッド。 - （５）特許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれかに記
載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記切り欠きの深
さが前記磁気コアの厚さ以下であることを特徴とする浮
上型複合磁気ヘッド。 - （６）特許請求の範囲第１項乃至第５項のいずれかに記
載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コアがＣ
型コア片とＩ型コア片からなり、前記Ｃ型コア片と前記
Ｉ型コア片を接合するガラス部の切り欠き方向における
厚さが前記磁気コアの厚さ以上であることを特徴とする
浮上型複合磁気ヘッド。 - （７）特許請求の範囲第１項乃至第６項のいずれかに記
載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コアのト
ラック幅が３〜２０μｍであることを特徴とする浮上型
複合磁気ヘッド。 - （８）特許請求の範囲第１項乃至第７項のいずれかに記
載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コアの幅
が１００〜２００μｍであることを特徴とする浮上型複
合磁気ヘッド。 - （９）特許請求の範囲第１項乃至第８項のいずれかに記
載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記一対のコア片
を接合するガラスが２８〜４９重量％のＳｉＯ＿２を含
有することを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。 - （１０）特許請求の範囲第９項に記載の浮上型複合磁気
ヘッドにおいて、前記接合ガラスが実質的に４４〜５９
重量％のＰｂＯ、２８〜４９重量％のＳｉＯ＿２及び７
〜１３重量％のＫ＿２Ｏからなることを特徴とする浮上
型複合磁気ヘッド。 - （１１）特許請求の範囲第９項に記載の浮上型複合磁気
ヘッドにおいて、前記接合ガラスが２８〜４９重量％の
ＳｉＯ＿２、５〜１０重量％のＢ＿２Ｏ＿３、５〜１２
重量％のＡｌ＿２Ｏ＿３、７〜１３重量％のアルカリ金
属酸化物及び残部が実質的にＰｂＯからなることを特徴
とする浮上型複合磁気ヘッド。 - （１２）特許請求の範囲第１項乃至第１１項のいずれか
に記載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コア
を前記スライダーのスリット部に固着するガラスが８７
〜９６×１０＾−＾７／℃の熱膨張係数及び３７０〜４
８０℃の軟化点を有し、かつ前記スライダーが１０５〜
１１５×１０＾−＾７／℃の熱膨張係数を有するＣａＴ
ｉＯ＿３からなることを特徴とする浮上型複合磁気ヘッ
ド。 - （１３）特許請求の範囲第１２項に記載の浮上型複合磁
気ヘッドにおいて、前記固着ガラスが実質的に７０〜８
３重量％のＰｂＯ、３〜１０重量％のＡｌ＿２Ｏ＿３、
６〜１３重量％のＳｉＯ＿２、４〜１０重量％のＢ＿２
Ｏ＿３からなることを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド
。。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63018382A JPH06101090B2 (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | 浮上型複合磁気ヘッド |
| EP89101367A EP0326140B1 (en) | 1988-01-28 | 1989-01-26 | Flying-type composite magnetic head |
| DE68923010T DE68923010T2 (de) | 1988-01-28 | 1989-01-26 | Schwebender Verbundmagnetkopf. |
| US07/302,419 US5010431A (en) | 1988-01-28 | 1989-01-27 | Flying-type composite magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63018382A JPH06101090B2 (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | 浮上型複合磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0256709A true JPH0256709A (ja) | 1990-02-26 |
| JPH06101090B2 JPH06101090B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=11970164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63018382A Expired - Lifetime JPH06101090B2 (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | 浮上型複合磁気ヘッド |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5010431A (ja) |
| EP (1) | EP0326140B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06101090B2 (ja) |
| DE (1) | DE68923010T2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2217508B (en) * | 1988-03-29 | 1992-08-19 | Hitachi Metals Ltd | Flying-type magnetic head |
| EP0451871B1 (en) * | 1990-04-13 | 1996-06-26 | Hitachi Metals, Ltd. | Flying-type composite magnetic head |
| JPH04176007A (ja) * | 1990-07-23 | 1992-06-23 | Hitachi Metals Ltd | 浮上型磁気ヘッドの製造方法 |
| EP0468740A3 (en) * | 1990-07-23 | 1992-05-27 | Hitachi Metals, Ltd. | Floating magnetic head and method of production thereof |
| US5157567A (en) * | 1990-12-05 | 1992-10-20 | Seagate Technology, Inc. | Composite disk drive head assembly having an improved core-to-slider bond |
| US20020057531A1 (en) * | 2000-11-15 | 2002-05-16 | Seagate Technology Llc | HGA ballbond assembly with wafer process assembly features |
| US6756287B2 (en) | 2001-07-16 | 2004-06-29 | Seagate Technology Llc | Laser-assisted slicing of notched wafer |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3562444A (en) * | 1968-02-29 | 1971-02-09 | Ibm | Recording head assembly |
| US3823416A (en) * | 1973-03-01 | 1974-07-09 | Ibm | Flying magnetic transducer assembly having three rails |
| GB2154359A (en) * | 1984-02-17 | 1985-09-04 | Hitachi Metals Ltd | Magnetic head |
| US4819113A (en) * | 1984-03-29 | 1989-04-04 | Sony Corporation | Magnetic transducer head with inclined magnetic gap |
| JPS61278005A (ja) * | 1985-06-04 | 1986-12-08 | Alps Electric Co Ltd | 浮動式磁気ヘッド |
| JPS61295278A (ja) * | 1985-06-24 | 1986-12-26 | 日立金属株式会社 | セラミツク部品のガラス接合方法 |
| JPS6370912A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-03-31 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツドギヤツプ接合用ガラス |
| JPH01189020A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-07-28 | Hitachi Metals Ltd | 浮上型複合磁気ヘッド |
-
1988
- 1988-01-28 JP JP63018382A patent/JPH06101090B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-01-26 DE DE68923010T patent/DE68923010T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-01-26 EP EP89101367A patent/EP0326140B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-01-27 US US07/302,419 patent/US5010431A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE68923010T2 (de) | 1996-02-08 |
| JPH06101090B2 (ja) | 1994-12-12 |
| US5010431A (en) | 1991-04-23 |
| EP0326140B1 (en) | 1995-06-14 |
| DE68923010D1 (de) | 1995-07-20 |
| EP0326140A3 (en) | 1991-02-20 |
| EP0326140A2 (en) | 1989-08-02 |
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