JPH01189020A - 浮上型複合磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ディスク装置において記録媒体表面よりご
く僅かに浮上させて用いる浮上型複合磁気ヘッドに関し
、特に記録再生特性に優れ、かつ平面度の良好な浮上型
複合磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術及び問題点〕

磁気ディスク装置での情報の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドとしては例えば米国特許３８２３４１
６　号及び特公昭５７−５６９　号に示されているよう
な浮上型ヘッドが多く使用されている。この浮上型ヘッ
ドにおいてはスライダーの後端部に磁気変換ギャップを
設け、全体は高透磁率の酸化物磁性材料で構成されてい
る。

浮上型磁気ヘッドは、磁気ディスクが静止している時に
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触しているが
、磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表
面の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用
し、磁気ディスクから浮上する。一方磁気ディスクの回
転を開始する時および止める時には、磁気ヘッドは磁気
ディスク上を摺動する。磁気ディスクの回転を止める時
の接触の状況を説明すると、回転数を落してきた時にそ
の表面の空気の流れも次第に遅くなる。そして磁気ヘッ
ドの浮力が失われた時磁気ヘッドはディスク面に衡突す
るとともにその反動でとび上り、またディスク面に落ち
る。このような運動を何度か繰り返した上で、磁気ヘッ
ドはディスク上を′引きずられるようにして停止する。

このような起動、停止時の衝撃に磁気ヘッドは耐える必
要があり、その性能をＣＳＳ性（Ｃｏｎｔａｃｔ　５ｔ
ａｒｔ　Ｓｔ。

ｐ）と呼ぶことが多い。

上記高透磁率酸化物磁性材料であるフェライトで構成さ
れた浮上型磁気ヘッドは比較的良好な耐Ｃ８Ｓ性を示す
が、飽和磁束密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対し
て充分に記録出来ないという欠点がある。すなわち比較
的飽和磁束密度Ｂｓの高いＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライト
でもＢｓは高々５，０００Ｇ程度である。

そこでＢｓが８．０００　Ｇ以上となるように金属磁性
薄膜を磁気ギャップ部に配置した構造の磁気ヘッドとす
るのが望ましいことがわかった。この例として特開昭５
８．１４３１１号に開示されているように、フェライト
で構成された浮上型磁気へラドの磁気変換ギャップ部に
のみ高飽和磁束密度の金属磁性膜を設けた磁気ヘッドが
提案されている。しかし、この例では磁気変換部に所定
の巻線を施した後のインダクタンスが大きく、そのため
共振周波数が低下し、高周波での記録再生が不利になる
という欠点がある。ここでインダクタンスが大きいのは
磁気ヘッド全体が磁性体で構成されていることに基づく
。従って低インダクタンスとするために磁気回路を小さ
く構成する必要がある。

このような観点から全体を磁性材料で構成せず、磁気コ
アを非磁性のスライダー中に埋設固着した構成の浮上型
複合磁気ヘッドが米国特許３．５６２．４４４号に開示
された。また本発明者等は特開昭６１−１９９２１９号
にて磁気コアを非磁性スライダー中に埋設した磁気ヘッ
ドの望ましい形状について提案した。

以上の点から高保磁力の媒体に対して充分に記録可能で
かつインダクタンスの小さな浮上型複合磁気ヘッドを得
るには、飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ−Ｚｎフェライト
を基板としてギャップ部に高Ｂｓの薄膜磁性材を成膜し
た磁気コアを非磁性スライダー中に埋設したものが優れ
ていることがわかった。このような複合磁気ヘッドの例
として本発明者等により特開昭６０−１５４３１０号に
開示されたものがある。

さらに埋設される磁気コアのギャップ部の構造としてＸ
型に斜交したものが特開昭６１−１９９２１７号にて提
案された。しかしながらこのＸ型構造では後に詳述する
ように再生出力が低いという問題点がある。この再生出
力が低い原因について種々検討の結果、後に詳述するよ
うにガラスボンディング時に高Ｂｓ磁性膜に著しい歪が
生じ、特性が劣化していることに起因することが判明し
た。

高Ｂｓ磁性膜に生じる内部応力を緩和する問題は薄膜磁
性材の膜厚を薄くすることで解決できると考えられるが
、ギャップ部の構造として特開昭６１−１９９２１７号
に提案した構造ではトラック幅と膜厚を任意に独立して
選定することができない。従って定められたトラック幅
を得るにはある程度膜厚を厚くしておかねばらならない
という制約がある。

かかる欠点を解消するギャップ部の構造としてギャップ
線と平行に高Ｂｓ膜を設け、比較的膜厚を薄くする構造
とすることが考えられる。

しかしながらこのような構造においては、磁性薄膜とフ
ェライト基板の接合面が磁気ギャップと平行になってい
るため、いわゆる擬似ギャップ効果により再生出力の周
波数特性にうねりが生じ、好ましくない。この擬似ギャ
ップ効果によるうねり現象を防ぐには単純にギャップ線
と平行に高ＢＳ膜を設けた構造では不可能であり、さら
には製造上の種々の要因が関連するため、いまだうねり
現象の完全な防止は実現されなかった。

従って磁気ディスク用の磁気ヘッドとして望ましい特性
は、１）高保磁力の媒体に対して充分な記録が可能で、
２）低インダクタンスであり、３）高Ｂｓ磁性膜に極度
の歪を生じずに高再生出力を示し、４）耐Ｃ３Ｓ性に優
れるということである。これらの点を満たすには、特開
昭６０−１５４３１０号に開示された非磁性スライダー
中に磁気コアを埋設し、耐Ｃ８Ｓ性を向上し、インダク
タンスを小さくし、かつ磁性膜に著しい応力を生じない
ように膜厚を薄くできる構造で、かつ擬似ギャップ効果
を生じないように構成する必要があった。

また優れた性能の浮上型複合磁気ヘッドを得るには磁気
ディスクの回転時に安定した浮上量をいかに保つかとい
う問題もある。

磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表面
の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用す
る。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディスク
から離れている。この離れた間隔は浮上量と呼ばれるが
、磁気ディスク装置の高密度化のため浮上量は年々低下
しており、Ｄａｔａｑｕｅｓｔ社発行のＣｏｍｐｕｔｅ
ｒ　Ｓｔｒａｇｅ　Ｉｎｄｕｓｔｒｙ　５ｅｒｖｉｃｅ
　（Ｒｉｇｉｄ　Ｄｉｓｋ　Ｄｒｉｖｅ編”）１９８４
年版２．２−６頁の記載によると、浮上量は１０マイク
ロインチ（０，２５μｍ）にまでなっている。かかるサ
ブミクロンの浮上量を磁気ディスクの回転中安定して保
つためには、特に磁気ヘッドの空気ベアリング面の平面
度を良好に保つ必要がある。磁気ヘッドの浮上は、磁気
ヘッドの浮上面と記録媒体との極めて僅かな隙間に流れ
込む空気流により達成されるのであるから、浮上面の平
面度が悪いと安定した浮上を実現し得なくなるからであ
る。

上記米国特許３８２３４１６号に記載されたような磁気
ヘッドの場合、浮上を司どる空気ベアリング面はＮｉ−
ＺｎフェライトあるいはＭｎ−Ｚｎフェライトのような
単一部材で形成されているので、良好な平面度を容易に
得ることができる。しかしながら、非磁性のスライダー
に設けられたスリット中に磁気コアを埋設し、ガラスを
用いてその磁気コアを固着した後に空気ベアリング面を
研磨することにより得られる複合磁気ヘッドにおいては
、平面度を良好にするために格別の工夫が必要であるこ
とがわかった。この格別な事情は磁気コア、固着ガラス
および空気ベアリング面を完全に同一平面内にあるよう
に研磨することが著しく困難であることに起因する。

要約すると、（１）高保磁力の記録媒体に対して充分な
記録が可能であり、（２）低インダクタンスであり、（
３）高再生出力を有し、かつ（４）耐Ｃ８Ｓ性に優れた
磁気ヘッドを得ようとする場合、磁気ギャップに平行に
薄膜磁性体が被着された部分を有する台形状の構造の磁
気コアにおいて生じる擬似ギャップ効果による再生出力
の波打ち現象が第１の問題点である。また磁気コアを非
磁性スライダー中のスリットに埋設ガラスで固着し空気
ベアリング面を研磨する場合に生じる平面度の劣化が第
２の問題点である。

従って本発明の目的は上記問題点を解決した構造の浮上
型複合磁気ヘッドを提供することである。

特に本発明の目的は磁気ギャップに高Ｂｓ膜を有する複
合型の磁気ヘッドとしての特徴を有するとともに、空気
ベアリング面の平面度が良好であり、かつ再生出力のう
ねり現象を実質的に防止した浮上型複合磁気ヘッドを提
供することである。

〔問題点を解決するための手段〕

これらの問題点を解決するため鋭意研究の結果、本発明
者は対向面がそれぞれ台形状の一対のコア片により磁気
コアを構成し、かつ磁気コアの両側に十分な厚さのガラ
ス層を設けて非磁性スライダーのスリット部に固着する
ことにより、再生うねり現象を防止できるとともに、磁
気コア周辺の平面度を著しく向上することができること
を発見し、本発明に想到した。

すなわち、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは両側にサイ
ドレール部を有する非磁性セラミックスからなるスライ
ダーと、前記サイドレール部の一方に設けられたスリッ
ト部と、前記スリット部内にガラスにより固定された一
対のコア片からなる磁気コアとを有し、（ａ）前記一対
のコア片の対向面がそれぞれ台形状であり、前記対向面
の少くとも一方にＦｅ−Ａｌ１−Ｓｉ薄膜が形成されて
いるとともに、台形状の両対向面の先端平行部により磁
気ギャップが形成されており、わ）前記磁気コアの両側
がガラスにより前記スリット部に固着されていることを
特徴とする。

〔実施例〕

本発明を添付図面を参照して以下に詳細に説明する。

第１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
の全体構成を示す斜視図であり、１１は非磁性スライダ
ー、１２はスライダー１１の一方のサイドレールに設け
られたスリット部、１３はスリット部１２に埋設された
磁気コア、１４はその磁気コア１３を固着するガラス層
である。スライダー１１のサイドレール１５，１６の片
側く図では１５）の端部に磁気コア１３が固着されてい
るので、安定した浮上を実現するためには磁気コア１３
が埋設固着されている部分の平面度を良好に加工するこ
とが重要である。なおスライダー１１としては熱膨張係
数１０５〜１１５　Ｘ　１０−７／℃、空孔率０．５％
以下のＣａＴ＋Ｏｓからなる非磁性セラミックを用いる
のが好ましい。

第２図は磁気コア１３の拡大斜視図である。２１．２２
はそれぞれＭｎ−ＺｎフェライトからなるＣ型および１
型コア片と称される磁性体であり、２３は■型コア片上
に被着されたＦｅ−Ａｆｌ−３１薄膜であり、２４はＣ
型コア片２１およびＩ型コア片２２を接合する第一のガ
ラス層である。

第３図は磁気コア１３の空気ベアリング面（磁気ディス
ク上に浮上する面）の拡大図である。Ｍｎ−Ｚｎフェラ
イトのＣ型コア片２１及びＩ型コア片２２はそれぞれ台
形状の対向面を有する。この実施例においては■型コア
片２２上にＦｅ−ＡＩｔ−Ｓｉ薄膜２３が形成されてい
る。またＣ型コア片２１及び■型コア片２２の対向面の
平行部には、スパッタリング等により被着されたＳｉＯ
２等のギャップ規制膜２５が形成されており、それが磁
気ギャップ２６となる。磁気ギャップ２６はギャップ長
さＧβ及びトラック幅Ｔｗを有する。

高密度記録を達成する上でギャップ長さＧＩｌ及びトラ
ック幅ＴＷは小さくなる傾向にあり、リジッド・ディス
ク・ドライブ用としては現在１μｍ以下のＧβ、及び２
０μｍ以下のＴｗのものが用いられている。一方磁気コ
ア１３の幅ｔは０．１〜Ｑ、　　２ｍｍ程度である。従
って磁気ギャップ２６の両側は磁気コア１３の両側より
相当内側に引っ込んだ状態になっているので、両コア片
の対向面により形成される三角形の空間には多量のガラ
スが充填されることになる。このガラスによる層は、磁
気コア１３をスライダーのスリット部に固着するガラス
層と区別するために、ここで第一のガラス層と呼ぶこと
にする。第一のガラス層は第２図においては２４で示さ
れる。

この磁気ヘッドは以下のプロセスにより製造することが
できる。第４図はその概略を示すプロセス図である。４
１．４３はそれぞれＩ型コア片及びＣ型コア片を構成す
べきフェライト材料のブロックである。このフェライト
材料としては高Ｂｓでかつ高周波での透磁率が極力大き
いＭｎ−Ｚｎフェライトが望ましい。またガラス接合時
のガラス中に生じる気泡（ｖｏｉｄ）を減らすために、
熱間静水圧プレス（Ｈｏｔ　１ｓｏｓｔａｔｉｃ　Ｐｒ
ｅｓｓ）法により高密度化されたものを用いるのが好ま
しい。特にＢ＋ｏ＝４７００〜５４００ＧＳＨｃ　＝　
０．１〜０．２０ｅ、５ＭＨｚに於る透磁率８００〜１
３００、空孔率０．５％以下、熱膨張係数１０５〜１２
０　Ｘ　１０−７／ｌ：のＭｎ−Ｚｎ多結晶フェライト
を用いるのが好ましいが、多結晶フェライトの代りに単
結晶材を用いても良い。

第４図（ａ）の基板半対（Ｉ型コアブロック）および他
の半対（Ｃ型コアブロック）にＷ形状の溝４２．４４を
ダイシング加工する。この後（ａ）図のＩ型コアブロッ
ク４１を点線ｘ−ｘ’で示す面まで研削し、研磨加工を
施す。この加工により所定のトラック幅Ｔｗが得られる
（工程（Ｃ））。次に（社）図に示すように、トラック
幅加工を施したＩ型コアブロック上にＦｅ−Ａ１−Ｓｉ
膜４５をスパッタリングで被着する。スパッタの条件と
しては安定な放電を維持するため５〜１２　ｍＴｏｒｒ
のＡｒガス圧が望ましい。また電力は合金ターゲットの
温度上昇による割れを防ぐとともに、８００Ａ／分程度
の膜生成速度を得るために、６００〜１２００Ｗ（直径
１５０ｍｍのターゲットの例）が望ましい。Ｆｅ−Ａｒ
−Ｓｉ膜の組成としては高透磁率を得るため、重量基準
で８３〜８６％のＦｅ、５〜８％のＡＩｔ、８〜１１％
のＳｉが好ましい。特に磁歪定数を小さくする目的で、
重量基準で８３゜５〜８５％のＦｅ、５〜７％のＡｊ２
．９〜１０゜５％の５１のものが望ましい。Ｆｅ−Ａｒ
−５ｉ膜には耐食性を向上させる目的で微量の添加物を
加えてもよい。この場合、２重量％以下のＴｉ１Ｒｕ、
Ｃｒ等を単独あるいは複合添加するのが望ましい。

一方、Ｆｅ−Ａ１！−Ｓｉ膜を被着していないＣ型コア
ブロック４３には同様に溝４４がダシング加工されてお
り、（Ｃ）と同様に所定のトラック幅を得るまで研削加
工する。この後面ブロック４１．４３を各々のトラック
幅が一致するように組み合わせ、巻線窓４７中に置いた
ガラス棒４８を加熱流入させることにより接合する（工
程（ｅ））。この場合、好ましいガラスとしては、後に
述べるスライダーへの固着の際の擬似ギャップ効果によ
る再生うねりを防ぐために、軟化点５４０〜６３０　ｔ
：、熱　　−膨張係数９４〜１０３　Ｘ　１０−７／℃
のものが適している。このような物性を示すガラス組成
としては、例えば５４ＰｂＯ１３５，９ＳｔＯ２１０，
ＩＫ２０（重量％）カ適する。このようなガラスを用い
７００〜７６０ｔ’で接合を行う。この接合ブロックを
切断し、磁気コアを得ることができる。磁気コアの磁気
ディスり対向面（空気ベアリング面）は（ｆ）に示すよ
うに台形状である。

この磁気コアのスライダーのスリット部への固着は次の
ようにして行う。第５図は接合した磁気コア５３をスラ
イダー５２のスリット部内に設置するとともに、ガラス
棒５１をスライダー５２の上面に乗せた状態を示す斜視
図である。磁気コア５３の上部において、スライダーの
スリット部の内面との間に隙間５４．５５を設ける。磁
気コア５３の固定はバネ材（図示せず）による仮固定で
一容易に達成される。ガラス棒５１は第二のガラス層を
構成するものであり、かかる第二のガラスとしては熱膨
張係数８７〜９６　Ｘ　１０−７／℃、軟化点３７０〜
４８０℃程度のものが好ましい。これを５００〜５８０
℃の温度に加熱して、隙間５４゜５５内に流入させるの
が望ましい。

第６図は第５図のように配置された試料を電気炉中で流
入させた後で空気ベアリング面を研摩した状態を示す図
であり、磁気コア６１とスライダー６２．６３との間の
隙間６４．６５に第二〇ガラスが流入した状態を示す。

空気ベアリング面６６は研削後研摩加工され磁気ヘッド
が完成する。

第６図に明確に示されるように、磁気コア６１とスライ
ダーのスリット部の一方の内面との隙間は、磁気コア６
１の下部においては零であるが（すなわちスライダーの
スリット部の一方の内面に磁気コア６１が接触している
が）、上部にお、いては６４で示されるように十分な幅
となっている。

これにより磁気コア６１は両側に設けられた第二のガラ
ス層６４．６５によりスリット部内に強固に固着される
ことになる。

これに対して、特開昭６１−１９９２１７号に開示され
た従来の高Ｂｓ膜を被着した磁気コアでは高性能が得ら
れないことを以下に詳述する。なお特開昭６１−１９９
２１７号の磁気コアの構造は以下の通りである。

第７図は特開昭６１−１９９２１７号に開示された磁気
コアの概略図である。８１．８２は高Ｂｓ膜、８３．８
４はそれぞれＭ　ｎ　’　Ｚ　ｎフェライトよりなるＣ
型コア片及び■型コア片で、８５は接合ガラス部である
。この磁気コアのギャップ部の構造は第８図に示す通り
である。この従来例で注目すべきはＦｅ−Ａｌ−５ｉ膜
を被着したＭｎ−ＺＴ１７エライトのコアの対向面の中
央部（先端部）８６が鋭い鋭角を有する点である。さら
にＦｅ−Ａｆ−Ｓｉ膜の膜厚１．　　Ｓ　１２　とトラ
ック幅Ｔｗの寸法関係が独立でなく相互に関連しあう。

すなわち、ｔ２　が極度に小さくなれば鋭角部分では実
質的にＦｅ−Ａｆ−５ｉ膜が被着されていないのと同じ
になるため、ある程度のｔ、を維持するには全体の膜厚
ｔ２を厚くせねばならないことになる。例えばＴＷ＝１
５／Ｊｍ、角度θ；６０°、ｔ＋＝５μｍとするとｔ２
　は１７μｍと実にｔｌ　の３倍以上としなければなら
ない。このようにｔ２を厚くせねばならない点が磁気ヘ
ッドの性能劣化に結びつく。

一方、本発明による磁気ヘッドは低インダクタンスで高
性能を示すが、再生波形のうねりを生じる恐れがある。

本発明の第一の目的はこれを防止することである。

まず本発明のように第一のガラスを用い磁気コアの接合
を行った後、第二のガラスを用いＣａＴ１０、からなる
非磁性スライダーへ固着し磁気ヘッドを製造するプロセ
スにおいては、通常の磁気ヘッドの場合と異なる格別な
事情が存在する。すなわち第二のガラスを用いスライダ
ーへ固着する場合に、第一および第二のガラスの軟化点
が近接しすぎると、固着時に接合を完了した第一のガラ
スの粘性が低下し、ギ寺ツブ部の寸法が著しく変化する
。これは通常の光学顕微鏡でも観察される１００μｍ以
上にもおよぶ著しいずれである。本発明者による検討の
結果、第一、第二のガラスの軟化点の差が１００℃以上
であればこの好ましくない現象は防止できることが判明
した。例えば第一のガラスとして軟化点５９０ｔ、熱膨
張係数９７　Ｘ　１０−７／ｌのものを用い、第二のガ
ラスとして軟化点４５０℃、熱膨張係数９０　Ｘ　１０
−７／℃：のものを用いれば、上記ずれは充分に防止し
得る。

なおスライダーへの固着時に、第一および第二のガラス
として適切なものを選定しても、第一のガラスは多少軟
化し、１０７〜１０９ｐｏｉｓｅ程度の粘度を示すよう
になる。従って剛体でなく僅かではあるが液体状の性質
を示すようになり、固着時に磁気コアに加わる力により
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜とＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライトコア
片との間Ｋ２Ｏ０〜３００Ａ程度のずれを生じるおそれ
がある。しかし本発明の磁気コアの構造ではガラスの量
が多いので、実質的にずれを生じない。

次に擬似ギャップ効果によるうねりについては、Ｆｅ−
Ａｌ−Ｓｉ膜とＭｎ−Ｚｎフェライトのコア片の先端部
との境界面が磁気ギャップと平行であるために生ずる。

これは極めてミクロな変化に起因するものであり、この
ミクロな現象を防止するには以下に詳述するように本発
明のヘッド構造とすることが必要である。

また磁気コアの接合用ガラス（第一のガラス）としては
ＰｂＯ−ＳｉＯ□を主成分とし、他に種々の元素を加え
た多くの組合せが考えられるけれども、本発明者による
実験の結果ではｐｂｏ−ｓｉ０２にアルカリ金属酸化物
（Ｋ２Ｏ、Ｌｉ、０１ＮａｚＯ等）を加えた系、又はＰ
ｂＯ−Ｓｉ○２Ｂ２０ｓ　　Ａ　Ｌ　Ｏ３にアルカリ金
属酸化物を加えた系が適している。このような系での好
ましい組成範囲は重量基準で、２８〜４９％のＳｉＯ２
，４４〜５９％のＰｂＯ、７〜１３％のアルカリ金属酸
化物からなる組成、又は２８〜４９％の３１０２．５〜
１０％のＢ２０ｓ　、７〜１３％のアルカリ金属酸化物
、残部ｐｂ○からなる組成である。また後者の系には５
〜１２％のＡｌ２Ｏ３を添加してもよい。この第一のガ
ラスの特に好ましい一例として重量基準で３５ＰｂＯ−
４５ＳｉＯｚ−８８２０ｉ〜７Ｍ　２０３−５　Ｋ　２
０の組成のものく軟化点５８０℃、熱膨張係数９５　ｘ
　１０−”／ｌ）が挙げられる。このガラスを使用し接
合を行った磁気コアの接合強度は５　ｋｇ　／　ｍ　ｍ
’であり申し分なく、またＦｅ−Ａ１−Ｓｉ膜の浸食も
認められない。

なおり２０３　は高湿度下でのガラスの腐食を防止する
作用を有する。しかし逆に８２０３　が多すぎるとＦｅ
−Ａｌ−Ｓｉあるいはフェライトとの濡れ性が悪くなり
、接合強度が保てない。Ａｌ２Ｏ３は高温度下でのガラ
スの変色を防止するが、逆に多すぎると軟化点が高くな
り接合できなくなる。アルカリ類はさらにガラスの流動
性を調節する効果を担っている。

このような接合ガラスで接合された磁気コアをスライダ
ーに固着する場合には、軟化点、熱膨張係数が望ましい
範囲のものであることが必要である。ＣａＴｉＯｓ　ス
ライダーの熱膨張係数は１０５〜１１５　Ｘ　１０−”
／℃、Ｍｎ　　Ｚｎ７エライトのそれは１０５〜１２０
　Ｘ　１０−７／ｌである。そこで特公昭３５−８７８
５号に開示されたように「接合されるべき基材の熱膨張
係数に対して±５％の差以下のガラスを用いないと接合
ができない」という理念に基づくと、例えば１１５　Ｘ
　１０−７／℃：の熱膨張係数を有するＭｎ−Ｚｎフェ
ライトに対して、１１０　Ｘ、１０−’／’Ｃの熱膨張
係数のガラスを用いないと良好な接合ができないことに
なる。しかし本発明者の実験によると、さらに小さい熱
膨張係数のガラスが望ましいことが判明した。このガラ
スの一例として７８ＰｂＯ−８ＡＩ！２［］ｚ−１Ｏ５
＊０２〜４８２０゜（重量％）がある。このガラスの熱
膨張係数は９１　Ｘ　１０−１／ｌ：であり軟化点は４
４０℃である。

このガラスを用いて例えば５３０℃で固着すれば、クラ
ックのない接合を行うことができる。さらに詳細に調べ
た結果、熱膨張係数としては８７〜９６　Ｘ　１０−７
／℃：が望しく、またすでに述べたように接合ガラス（
第一のガラス）を極度に軟化させない程度の温度、すな
わち５００〜５８０℃で固着できるようにするには、軟
化点としては３７０〜４８０℃が好ましい。このような
性質を示す組゛成としては、重量基準で７０〜８３％の
ＰｂＯ１３〜１０％のＡｌ２Ｏ３，６〜１３％のＳｉＯ
２、４〜１０％の８２０３のものがある。

次に磁気コアを固着した磁気ヘッドの空気ベアリング面
（記録媒体対向面）の平面度の重要性について説明する
。

第１１図は第２図に示した磁気コア１４１を従来法で第
二のガラス１４２を用いて固着した後、空気ベアリング
面１４３を研磨加工した後の状態を示す図である。１４
４は巻線を施すためのスライダーの窓である。なお空気
ベアリング面の研磨はＳｎ定盤を用い、ダイヤモンドの
砥粒を用いて行われる。研磨された面の平滑度を向上さ
せるため、１μｍないしは０．５μｍの粒径のダイヤモ
ンド砥粒が適している。

第１２図は第１１図の磁気ヘッドを製造するために、磁
気コア１４１をスライダーのスリット部１４７内に第二
のガラスにより固着する様子を示す。磁気コア１４１の
埋設固着に際しては磁気ギャップ１４５を所定の位置に
配置しなければならないため、磁気コア１４１はスライ
ダーの片端部１４６に押し付けられ、板バネ１５８等を
用いて仮固定される。仮固定した磁気コア１４１の上部
にガラス棒１５２を置き、電気炉中でガラスを流入させ
て固着が完了する。固着機不要な分のガラスは除去され
、空気ベアリング面の平面度を良好なものとするために
研磨仕上げが施される。

しかしながらこのような従来の構造の磁気ヘッドでは、
いかに研磨を良好に行っても記録媒体対向面１４３の平
面度が十分に向上しないことが判明した。これは第１２
図に示すように、磁気コア１４１とスリット部１４７と
の間に板バネ１５８を挿入することにより磁気コア１４
１をスリット部１４７内に仮固定しているので、第二の
ガラスによる固着が行われた場合、磁気コア１４１の一
方の側のみ第二のガラス層が形成され、他方（図中１４
６側）ではガラスによる固着は実質的に行われない。こ
のような状態で研磨が行われると、スライダーの片端部
１４６は片持ちばりのような構造であるので、研磨中に
変形するが、研磨後反発して元の位置に戻る。このため
、第１１図の線分Ｘ−Ｙに沿って、スライダーの内側か
ら外側に向けて、特に磁気コア１４１と片端部１４６と
の境界から急激に平面度が低下することになる。

これに対して本発明の磁気ヘッドでは記録媒体対向面の
平面度は著しく改善されている。

第１３図は本発明の一実施例を示す図であり、磁気コア
１５１はスライダーの下端部１５８へ押しつけられる。

スライダーの上部１５６ではスリット部の内面が拡張し
ていて、空間部１５７が設けである。第１２図と同様に
ガラス棒を乗せ電気炉中で加熱することにより、スライ
ダーと磁気コア１５１の隙間にガラス１５２が流入する
。スライダーの下部１５８には空間部１５７に対応する
切り欠きを設けていないので、磁気コア１５１の仮固定
には何ら支障を来たさない。このような構造の磁気ヘッ
ドでは磁気コア１５１の両側にスリット部の内壁との十
分な間隔があるので、その空間部に十分な厚さの第二の
ガラス層１５２が形成され、磁気コア１５１がスリット
部内に強固に固定される。切欠き幅としては２〜３μｍ
程度以上あればよいが、実用上５μｍ以上程度が好まし
い。

これにより磁気ヘッドの記録媒体対向面の平面度が著し
く向上する。

第１４図は本発明の他の実施例による磁気ヘッドを示す
ものであり、磁気コア１６１はスライダーの下端１６８
に押し付けられるが、スライダーの上端１６６には斜め
の切り欠き１６７が設けられている。この切り欠きは、
磁気コア１６１と平行でなく、下端１６９では磁気コア
１６１と接触し、上方に向うに従って切り欠き１６７は
連続的に大きくなっている。その他の部分は実質的に第
１３図の実施例と同じである。

第１５図はスライダーに追加工を加えず、磁気コア１７
１の上部に切り欠き１７７を設けたものを示す。その他
の部分は第１１図のものと同じである。切り欠きの幅は
前記実施例と同様に５μｍ以上であれば差し支えない。

逆に大きすぎるとトラック幅を縮小することになり、ま
た磁気コアの磁気抵抗を増大させ再生出力を小さくする
ことになるので好ましくない。磁気コアの厚さを１５０
μｍとすると磁気コア上部に設ける切り欠きの幅は、５
０μｍ以下であることが望ましい。

以上の通り磁気コアの両側を十分な厚さの第二のガラス
層でスリット部内に固着することにより、磁気ヘッドの
空気ベアリング面の平面度を著しく改善することができ
るが、それとともに再生うねり現象の防止にも役立つこ
とが判明した。この理由は以下の通りであると考えられ
る。すなわち、再生うねり現象は磁気ギャップ部におい
て高Ｂｓ薄膜とコア片との界面にふける剥離が生じるこ
とにより発生するが、十分な厚さの第二のガラス層によ
る固定により高Ｂｓ薄膜とコア片との界面にかかる応力
が低下し、剥離が起こりにくくなるためである。従って
良好な平面度を有するとともに再生うねり現象のない浮
上型複合磁気ヘッドが得られる。

本発明をさらに以下の具体的な実施例により詳細に説明
する。

実施例１ 第２図に示す構造の磁気コアをいずれもＭｎ　−Ｚｎ多
結晶フェライトからなるＣ型コア片及びＩ型コア片から
作成した。Ｍｎ−Ｚｎフェライトは熱間静水圧プレス法
により高密度化されたもので、空孔率が０，１％であり
、磁気特性としてはＢ＋ｏ＝５１００ＧＳＨｃ　＝０．
１５０　ｅ　、　５　ＭＨｚにおける透磁率＝９５０で
あり、また熱膨張係数は１１５Ｘ１０−７／℃であった
。またＴ型コア片上にスパッタリングにより形成したＦ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ薄膜は重量基準で８４．７％のＦｅ、５
．９％のＡｌ及び９．４％のＳｉからなる組成を有し、
厚さは３μｍであった。この膜の特性はＢ　ｓ　＝１１
．００００ＳＨｃ　＝　０　。

３〜０．５０ｅ、５ＭＨｚにおける透磁率＝１．ＯＯＯ
〜２，０００　、磁歪定数＝−＋４Ｘ１０−６であった
。

さらにＣ型コア片とＩ型コア片を接合した第一のガラス
の組成は以下の通りであった。

ＰｂＯ５４重量％ Ｓｉ０．３５．９” Ｋ、０　　　１０．１” この第一のガラスの軟化点は５９０℃、熱膨張係数は９
７　Ｘ　１０−’／’ｌ：であった。第一のガラスによ
るコア片の接合は７００〜７６０℃に加熱することによ
り行った。

このようにして得られた磁気コアの構造は以下の通りで
ある。

磁気コアの幅　　　　０．１５ｍｍ トラック幅　　　　　　　１３μｍ ギャップ長さ　　　　　　０．８μｍ ギャップ深さ　　　　　５〜１０μｍ 次に熱膨張係数が１０８　Ｘ　１０−７／℃’、空孔率
　　−が０．１５％のＣａＴｉ○３セラミックからなる
スライダーの一方のサイドレールの端部に、長さｉ、３
ｍｍ、幅２２０μｍのスリット部を形成し、その中に上
記磁気コアを板ばねにより固定して、下記組成の第二の
ガラスにより固着した。

ＰｂＯ７８重量％ ＡｌＯ３７” ＳｉＯ□　　　　　　８　″ Ｂ２０３　　　　　　７　　” 第二のガラスの熱膨張係数は９０　Ｘ　Ｉ　Ｏ−’／″
ｃ１軟化点は４５０℃であり、５４０〜５６０℃の温度
に加熱することによりスリット部と磁気コアとの間隙に
流入させた。このようにして得た磁気ヘッドの空気ベア
リング面を研削、研磨し、本発明の浮上型複合磁気ヘッ
ドとした。なおスリット部の内面と磁気コアの両側部と
の間隔はそれぞれ５０μｍ１２０μｍであった。

このようにして得られた磁気ヘッドに巻線を施し、イン
ダクタンスを測定した結果を第１６図に示す。比較とし
て従来より広く用いられてきたモノリシック型の磁気ヘ
ッドの場合を示した。比較したモノリシック型磁気ヘッ
ドではトラック幅１８μｍ１ギャップ深さ２０μｍであ
った。第１６図から本実施例の磁気ヘッド（１）は比較
例（２）に比ベインダクタンスが小さく、高周波での記
録再生、特にデータの転送速度（Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｒ
ａｔｅ）を大きくするに好都合であることがわかる。

実施例２ 本実施例ではθ＝６０℃として第７図及び第８図に示す
従来の磁気コア、および第２図及び第３図に示す本発明
の磁気コアを作製し、ＣａＴｉＯ３スライダー中に固着
し、所定加工を施した後の特性を比較した。接合用の第
一のガラスおよび固着用の第二のガラスは実施例１と同
一のものを用いた。

磁気ヘッドのギャップ長さは０．８μｍ、）ラック幅は
１３〜１５μｍで、２１ターンの巻数で記録し、４２タ
ーンの巻数で再生した。測定にはＨｃが７０００ｅのＣ
ｏ−Ｎｉスパー／９デイスクを用い、回転数３．６００
ｒｐｍ、浮上量０，３μｍ１測定デイスフ位置；半径３
２ｍｍで行った。第１表に結果を示す。

乙８と 第１表から明らかにわかるように、本発明の磁気ヘッド
は従来例に比べ高い再生出力を示す。この原因について
発明者は種々検討の結果熱膨張係数の著しい差に起因す
る応力の影響であることが判明した。

従来例及び本発明の磁気コアそのものはいずれも複雑な
形状であるため、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜に加えられた応力
そのものを測定することは困難であるが、Ｍｎ−Ｚｎフ
ェライトに発生する結晶粒の脱落の様子から推測できる
。第９図は従来例の磁気コアの接合→コア切断後に認め
られるＭｎ−Ｚｎフェライトの結晶粒の脱落の様子を図
式的に表したものである。コア片８３．８４のＦｅ−Ａ
２−８１膜８１．８２との境界部に発生した黒色部８６
が脱落を示しており、この試料では著しい応力が加わっ
ていることが判る。−志木実施例で用いたＭｎ−Ｚｎフ
ェライトコアの熱膨張係数は１１５　Ｘ　１０−７／ｌ
なのに対し、Ｆｅ−Ａｌ−３１膜のそれは１５６　Ｘ　
１０−７／℃：程度と著しい差がある。そこでこれらの
部材をガラスで接合しようとしても、ガラスの熱膨張係
数や接合温度を選定するだけでは脱落を失くすことがで
きなかった。

従って高再生出力を得るためには、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜
に加わった応力を軽減することが必要であり、このため
にはＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜厚を薄くする必要がある。第１
表かられかるように、膜厚は１０μｍ以下とするのが良
い。本発明では台形状のギャップ構造を採用しているこ
とからトラック幅と独立に膜厚を設定できる。しかし従
来例ではトラック幅と膜厚は独立の関係になく、特に膜
厚ｔ２　が厚くならざるを得ず、応力によるＦｅ−Ａｌ
−Ｓｉ膜およびＭ　ｎ−Ｚ　ｎフェライトの磁気特性の
劣化を生じ、高再生出力の実現が望めない。

このように本発明による磁気ヘッドは高い性能を有する
。

実施例３ 第１０図はトラック幅ＴＷとＦｅ−Ａｊ２−Ｓｉ膜厚を
独立に変えることのできる磁気コアの構造を示す。１１
１．１１２はそれぞれＭｎ−Ｚｎ７エライトのＣ型コア
片、Ｉ型コア片、１１３はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜であり、
１１４は接合ガラスである。かかる磁気コアのトラック
幅Ｔｗは接合後にコアの一部に切り欠き１１５を設ける
ことにより得られ、トラック幅と膜厚が独立の関係にあ
る。

しかしながら第１０図よりわかるように１１１．１１２
０両コア片を接合している第１のガラス１１４は図中斜
線で示した巻線窓の部分にしか存在していない。−志木
発明の磁気コアでは、はるかに多くの量のガラスで接合
されている。

これらの磁気コアを実施例２と同じ方法によりスライダ
ー中に固着し、同一の方法で特性を比較した。結果を第
１７図に示す。図中Ａは本発明、Ｂは比較例を示す。従
来の磁気ヘッドでは再生出力のうねりが認められるが、
本発明の磁気ヘッドではこの現象は認められない。この
理由は本発明の磁気コアは第一のガラスで固着される部
分が多いことに基いているためであると考えられる。

第１８図は各磁気ヘッドの媒体対向面におけるＭ　ｎ　
−Ｚ　ｎ　７　ｓライトとＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜との境界
部のＳＥＭ写真である。従来例ではＭｎＺｎ　７　ｓラ
イト１３１とＦｅ−Ａｌ２−Ｓｉ膜１３２の境界部Ｋ２
Ｏ０〜３００Ａ程度の僅かな隙間１３３が見られるが、
本発明の磁気ヘッドでは認められない。このような僅か
な隙間はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜とＭｎ−Ｚｎフェライトの
接合部が磁気的な不連続性を実質的に示し、これがうね
りの現象を引き起す原因となる。

実施例４ 磁気ヘッドの作製に当ってはガラスの組成を適当に選択
することが必要である。本実施例では重量基準で５４％
のＰｂＯ、３５．９％の５ｉＣｈ　、１０．１％のＫ２
Ｏのガラスを用いたが、３１０２量を適切に選ばないと
、Ｆｅ−Ａｌ−５ｉ膜との反応を生じたり、あるいは軟
化点が高すぎて接合が行えないという欠点が生じる。第
２表は５ｉ０２量を変えた組成のガラスを用い接合した
後の状態を観察した結果を示す。

このように５ｉＣｈ　が２８．０重量％より少ないとＦ
ｅ−Ａｌ−５ｉ膜を接合ガラスが浸食し、Ｆｅ−Ａｌ２
−Ｓｉ膜の磁気特性が著しく損われる。

また４９．０重量％より多いと軟化点が高すぎて接合が
できず、Ｃ型コア片とＩ型コア片が剥離した。

実施例５ 第１１図に示す構造の磁気ヘッドについて、線分ｘ−Ｙ
に沿った平面度を触針式表面粗さ計（Ｒａｎｋ　Ｔａｙ
ｌｏｒ　Ｈｏｂｓｏｎ社製Ｔａ１ｙｓｔｅｐ　）を用い
測定した。

結果を第１９図に示す。この結果より明らかな様に、空
気ベアリング面の（図の左か（ｂ）ＣａＴｉＯ□→固着
用のガラス−Ｍｎ−Ｚｎフェライトへ向っての平面度は
良好である。しかしＭｎ−ＺｎフェライトとＣａＴｉ０
ｚ　の境界を境目として急激に平面度が悪くなっている
ことが判る。

同様にして本発明の磁気ヘッドとして第１３図のものの
平面度を測定した。切欠き幅は２０μｍであった。結果
を第２０図に示す。第１９図と第２０図との比較から明
らかなように、本発明の構　　−造の磁気ヘッドとする
ことにより、平面度が著しく改善されていることがわか
る。

また第１４図に示す構造の磁気ヘッド（切り欠き部の空
気ベアリング面における幅は４０μｍ）について、同様
に平面度を測定した。結果を第２１図に示す。

さらに第１５図に示す構造の磁気ヘッド（切欠き幅３５
μｍ）について、同様に平面度を測定した。結果を第２
２図に示す。

第１４図及び第１５図の実施例のものも同様に空気ベア
リング面の平面度が著しく改善されていることがわかる
。

実施例６ 本実施例において、良好な平面度を有する磁気ヘッドが
良好な耐Ｃ８Ｓ性を示すことを示す。Ｃ３Ｓの測定とし
ては５．２５インチ径のＣｏ−Ｎ１スパッタディスクを
用いた。磁性層であるＣｏ−Ｎｉ膜膜体体Ｃ８Ｓ性は悪
いので、表面は約３００への厚さのカーボンのスパッタ
膜で被着されていた。第２３図はＣ３Ｓのサイクルタイ
ムを示す図であり、ディスクの回転開始に伴って、磁気
ヘッドは浮上を始め、３．６００ｒｐｍの回転時には磁
気ヘッドとディスクの間隔を０．３μｍとなる様に調整
した。ディスクの回転停止に伴って磁気ヘッドは下降し
約１５ｓｅｃの間ディスクと磁気ヘッドは接触し、この
様な動作を繰り返す。かかる繰り返し回数をＣ８Ｓ回数
と呼ぶ。

磁気ヘッドとして第１１図の従来構造のものおよび第１
３．１４．１５図の本実施例の構造のものの４種を用い
た。Ｃ３Ｓを３０．０００回行った時の結果を第３表に
示す。

従来例では７．２００回目のＣ３Ｓで磁気ヘッドとディ
スクが粘着（ｓｔｉｃｋｉｎｇ）を起し、摩擦係数が０
．９５へと著しく増大していた。このため、これ以上デ
ィスクを回そうとしても、著しい粘着のためディスクが
回転せず試験はストップした。本発明の３実施例におい
てはこのような現象はδ忍められず、３０．０００回の
試験後もほぼ初期の状態から変化しなかった。粘着を起
した従来の磁気ヘッドの表面を観察した所、Ｍ　ｎ　−
Ｚ　ｎフェライトとＣａＴｌＯ２スライダー境界部より
段差を生じた空気ベアリング面を起点として、カーボン
膜が磁気ヘッドに付着しており、このため著しい粘着を
生じたと考えられる。

以上の実施例で詳細に説明したように、本発明による磁
気ヘッドは磁気ディスク用磁気ヘッドとして低インダク
タンスであり、優れた記録再生性能（低再生うねり）及
び耐Ｃ８Ｓ性を有し、工業上の利用価値が大であること
がわかる。

なお実施例としては、ｒ型コア片にのみＦｅ−Ａｌ−８
１膜を被着させたが、磁気ギャップを境とした他方のコ
ア片すなわちＣ型コア片にＦｅ−Ａ１−Ｓｉ膜を被着さ
せても同一の効果が得られる。またガラス、接合温度等
を適当に変更するのみで、同様の性能を有する磁気ヘッ
ドが得られる。

〔発明の効果〕

以上に説明したように、本発明の浮上型複合磁気ヘッド
は、スライダーの一方のサイドレールに設けられたスリ
ット部内に両側に十分な厚さのガラス層を介して磁気コ
アが固着されているので、空気ベアリング面が良好な平
面度を有するのみならず、再生うねりを防止することが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
を示す斜視図であり、 第２図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドに組み込まれる
磁気コアの一例を示す斜視図であり、第３図は第２図の
磁気コアの空気ベアリング面における拡大図であり、 第４図は第２図の磁気カアを製造するプロセスを示す図
であり、 第５図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドを製造するため
に第二のガラスを充填するための工程を示す図であり、 第６図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
の要部を示す拡大斜視図であり、第７図は従来の磁気コ
アを示す斜視図であり、第８図は第７図の磁気コアの空
気ベアリング面における要部拡大図であり、 第９図は第７図の磁気コアにおいてコアの結晶粒が脱落
した状態を図式的に示す斜視図であり、第１０図はトラ
ック幅ＴＷとギャップ長さＧβとの種々の組合せを実現
するための磁気コアを示す斜視図であり、 第１１図は従来の構造の浮上型複合磁気ヘッドの要部を
示す斜視図であり、 第１２図は第１１図の浮上型複合磁気ヘッドを製造する
様子を示す斜視図であり、 第１３図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッ
ドの要部を示す斜視図であり、第１４図は本発明の他の
実施例による浮上型複合磁気ヘッドの要部を示す斜視図
であり、第１５図は本発明のさらに他の実施例による浮
上型複合磁気ヘッドの要部を示す斜視図であり、第１６
図はインダクタンスとコイル巻数との関係を示すグラフ
であり、 第１７図は相対再生出力と周波数との関係を示すグラフ
であり、 第１８図は磁気コアのＦｅ−Ａｌ１−Ｓｉ薄膜とＭｎ−
Ｚｎフェライトコアとの境界部における薄膜の剥離状態
を示すＳＥＭ写真であり、第１９図は第１１図の浮上型
複合磁気ヘッドの空気ベアリング面における線分Ｘ−Ｙ
に沿った平面度を示すグラフであり、　″ 第２０図は第１３図の浮上型複合磁気ヘッドの空気ベア
リング面における線分Ｘ−Ｙに沿った平面度を示すグラ
フであり、 第２１図は第１４図の浮上型複合磁気ヘッドの空気ベア
リング面における線分Ｘ−Ｙに沿った平面度を示すグラ
フであり、 第２２図は第１５図の浮上型複合磁気ヘッドの空気ベア
リング面における線分Ｘ−Ｙに沿った平面度を示すグラ
フであり、 第２３図はＣ８Ｓ試験のサイクルを示す図である。 １１　・・・　スライダー １２　・・・　スリット部 １３　・・・　磁気コア １４　・・・　ガラス １５．１６　・・・　サイドレール ２１　・・・　Ｃ型コア片 ２２　・・・　Ｉ型コア片 ２３　　・＝　　Ｆｅ−Ａｊ２−Ｓｉ薄膜２４　・・・
　接合ガラス層 ２５　　・・・　ＳｉＯ□層 ２６　・・・　磁気ギャップ Ｔｗ　　・・・　トラック幅 Ｇβ　・・・　ギャップ長さ 第３図 第５図 第１１図 第１２図 第１３図 第１５図 周ア数（ＭＨｚ） 第１７図 ｊＸＱＯ，り？６ｊノ 窮旧図 第１９図 第２０図 第２１図

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. （１）両側にサイドレール部を有する非磁性セラミック
   スからなるスライダーと、前記サイドレール部の一方に
   設けられたスリット部と、前記スリット部内にガラスに
   より固定された一対のコア片からなる磁気コアとを有す
   る浮上型複合磁気ヘッドにおいて、 （ａ）前記一対のコア片の対向面がそれぞれ台形状であ
   り、前記対向面の少くとも一方にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ薄膜
   が形成されているとともに、台形状の両対向面の先端平
   行部により磁気ギャップが形成されており、 （ｂ）前記磁気コアの両側がガラスにより前記スリット
   部に固着されている ことを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。
2. （２）特許請求の範囲第１項に記載の浮上型複合磁気ヘ
   ッドにおいて、前記スライダーがＣａＴｉＯ＿３からな
   ることを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。
3. （３）特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の浮上型
   複合磁気ヘッドにおいて、前記Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ薄膜の
   膜厚が１０μｍ以下であることを特徴とする浮上型複合
   磁気ヘッド。
4. （４）特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記
   載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コアがＭ
   ｎ−Ｚｎフェライトからなることを特徴とする浮上型複
   合磁気ヘッド。
5. （５）特許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれかに記
   載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コアがＣ
   型コア片とＩ型コア片からなり、前記Ｃ型コア片と前記
   Ｉ型コア片の対向面はそれぞれ台形状であり、前記台形
   状の対向面により形成された空間に充填された第一のガ
   ラス層により前記Ｃ型コア片と前記Ｉ型コア片が接合さ
   れ、かつ前記第一のガラス層及び前記磁気コアの両側は
   第二のガラス層を介して前記スリット部に固着されてい
   ることを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。
6. （６）特許請求の範囲第５項に記載の浮上型複合磁気ヘ
   ッドにおいて、前記磁気コアの両側部と前記スリット部
   の両内側面との間にある第二のガラス層の厚さが５〜１
   ００μｍであることを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド
   。
7. （７）特許請求の範囲第５項又は第６項に記載の浮上型
   複合磁気ヘッドにおいて、前記一対のコア片を接合する
   第一のガラス層が２８〜４９重量％のＳｉＯ＿２を含有
   することを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。
8. （８）特許請求の範囲第７項に記載の浮上型複合磁気ヘ
   ッドにおいて、前記第一のガラス層が実質的に４４〜５
   ９重量％のＰｂＯ、２８〜４９重量％のＳｉＯ＿２及び
   ７〜１３重量％のＫ＿２Ｏからなることを特徴とする浮
   上型複合磁気ヘッド。
9. （９）特許請求の範囲第７項に記載の浮上型複合磁気ヘ
   ッドにおいて、前記第一のガラス層が２８〜４９重量％
   のＳｉＯ＿２、５〜１０重量％のＢ＿２Ｏ＿３、５〜１
   ２重量％のＡｌ＿２Ｏ＿３、７〜１３重量％のアルカリ
   金属酸化物及び残部が実質的にＰｂＯからなることを特
   徴とする浮上型複合磁気ヘッド。
10. （１０）特許請求の範囲第５項乃至第９項のいずれかに
    記載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コアを
    前記スライダーのスリット部に固着する第二のガラス層
    が８７〜９６×１０＾−＾７／℃の熱膨張係数及び３７
    ０〜４８０℃の軟化点を有し、かつ前記スライダーが１
    ０５〜１１５×１０＾−＾７／℃の熱膨張係数を有する
    ＣａＴｉＯ＿３からなることを特徴とする浮上型複合磁
    気ヘッド。
11. （１１）特許請求の範囲第１０項に記載の浮上型複合磁
    気ヘッドにおいて、前記第二のガラス層が実質的に７０
    〜８３重量％のＰｂＯ、３〜１０重量％のＡｌ＿２Ｏ＿
    ３、６〜１３重量％のＳｉＯ＿２、４〜１０重量％のＢ
    ＿２Ｏ＿３からなることを特徴とする浮上型複合磁気ヘ
    ッド。