JPS6222411A - 非磁性基板材料及び磁気ヘツド - Google Patents

非磁性基板材料及び磁気ヘツド

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JPS6222411A
JPS6222411A JP60161660A JP16166085A JPS6222411A JP S6222411 A JPS6222411 A JP S6222411A JP 60161660 A JP60161660 A JP 60161660A JP 16166085 A JP16166085 A JP 16166085A JP S6222411 A JPS6222411 A JP S6222411A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、非磁性基板及び磁気ヘッドに関するものであ
る。
[従来の技術] コンピュータ記録再生用磁気ヘッド、VTR・テープの
位置決め用磁気センサ、PCM録音チー   ゛プ用ヘ
ッド、電子カメラ用ヘッドなどの高密度記録用磁気ヘッ
ドとして従来のフェライト及びセンダストを使用したヘ
ッドに変わって薄膜磁気ヘッドが注目されている。薄膜
磁気ヘッド用基板に要求される特性として下記の項目が
挙げられる。
(イ) 熱膨張係数が、基板上に真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンブレーティング法等の公知の物理蒸着
法技術を用いて付けられる金属磁性膜の熱膨張係数と同
等である。
(ロ) 表面が平坦で気孔が少ない。
(ハ) 精密機械加工が容易でしかも加工中にクラック
、チッピングが生じない。
(ニ) 化学的に安定である。
ところで、従来、例えば薄膜磁気ヘッド、集積回路素子
等を製造するに際しては、チタン酸バリウム、チタン酸
カルシウム、アルミナ、亜鉛フェライト、ガラス等を非
磁性基板材料として用い、該基板材料上に金属磁性膜を
形成したものが用いられている。
また、本出願人より、改良された非磁性材料が特公昭5
6−21732及び特開昭59−908にて、公知とさ
れている。これらの非磁性基板材料は、基板材料として
鏡面仕上げ加工が施された後、トリクロールエチレン、
アセトン等の有機溶媒中で洗浄される0次いで、この基
板上に公知の物理蒸着技術を用いて数p〜数+gmの膜
厚に。
Fe−Ni系、Fe−An−5i系、またはC。
−Nb−Zr系などの合金磁性膜を形成し、その後、磁
気特性改善のため熱処理を実施している。
[発明が解決しようとする問題点J 上記従来の基板材料の多くは(本出願人の提案した上記
のものを除いて)、その熱膨張係数が金属磁性膜の熱膨
張係数と大きく異なっているため、蒸着した金属磁性膜
が剥離し易いという欠点を有していた。また、例えば熱
膨張係数が金属磁性膜の熱膨張係数と合ったガラスの場
合には、蒸着膜の!!離の問題点はないが、薄膜ヘッド
を構成した場合には、ガラスの硬度が低いため磁気記録
媒体との摺動により摩耗し易いという欠点があった。
しかして、本出願人より提案された上記の材料によれば
、かかる問題点は解決されるのであるが1本発明者がさ
らに研究を重ねたところ、硬度が高いため精密機械加工
時に、ブレード摩耗が激しく、加工中にクラック、チッ
ピングが生じ易くなるおそれの存在することが知見され
た。
このため、金属磁性膜の熱膨張係数(12O3、V2O
5、BaO、Y2O〜150XlO−’/”0)に近い
熱膨張係数を有し、しかも精密機械加工時にブレード摩
耗が少なく、加工中にクラック、チッピングが生じにく
い、非磁性基板材料が望まれている。
本発明は上記要望に答えるものであり、金属磁性膜を物
理蒸着法により形成するに極めて好適な非磁性基板及び
それを用いた磁気ヘッドを提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] 本発明の非磁性基板材料はM n 067〜90モル%
、NfO10〜33モル%を含み、岩塩型結晶構造を有
することを特徴とする非磁性基板材料である。
また、本発明の磁気ヘッドは、かかる材質の非磁性基板
を有し、その上に磁性合金薄膜を形成したものである。
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
本発明の非磁性材料は、MnOを67〜90モル%(以
下1%は特にことわらぬ限リモル%を示す、)、NiO
を10〜33%含み、さらに必要に応じ、CaO,Z 
ro2.Al2O2、V2O3、V2O5、BaO、Y
2Os 、B aO,Y2O3、V2O5、BaO、Y
2O3及びCuoc7) 1種又は2種以上を10%以
下含む。
本発明において、主成分たるM n Oの含有率を67
%以上とした理由は、この範囲において材料の硬度が十
分に低くなり、研削性、切削性が優れたものになるから
である。(具体的には、後述のように、研削用ブレード
の摩耗や、研削抵抗が相当に小さくなる。)また、Mn
O含有率を90%以下とした理由は、M n O含有量
が90%を超えると、材料の焼結性が低下し、気孔量が
増加するからである。
Cab、Z r02.A22O3、V2O5、BaO、
Y2O3 、V2O3、V2O5、BaO、Y2OS、
BaO1Y、2O3、V2O5、BaO、Y2O3. 
Cuo (以下、CaO等ということがある。
)は、いずれも材料の焼結性を高め、気孔量を減少させ
る作用を有する。また。
BaOは切削性を高める作用を有する。
しかして、CaO等の含有量が10%よりも多くなると
、材料の硬度を高め、研削性、切削性を低下させるので
、CaO等を添加する場合は10%以下、とりわけ6%
以下とするのが好ましい。
CaO等は1種類だけ加えても、2種類以上加えても良
い。
1種類だけ用いる場合は、■硬度増大作用がそれ程大き
くない、■焼結促進作用が高い、■水に不溶性である、
■切削時に粒子脱落のおそれが極めて小さい、等の理由
からCaOが最も好ましい。
2種類用いる場合では、CaOとZ r 02とを加え
るのが、CaO単独、ZrO2単独で加える場合よりも
、材料の硬度を増大させる度合が小さく、さらに焼結性
が高まり気孔量が減少するので好ましい。
これらの組成範囲にある本発明の材料は、Fe−Ni系
またはFe−A1−5i系合金磁性薄膜の熱膨張係数(
12O3、V2O5、BaO、Y2O〜150XlO−
’)とほぼ近似した熱膨張係数を有する。また、実質的
に非磁性である。
なお1本発明において、結晶構造を岩塩型としたのは1
次の理由による。即ち、本発明の組成に係る材料はスピ
ネル型結晶構造をもとリラるのであるが、岩塩型とする
ことにより、 ■ 熱膨張係数が磁性合金薄膜に近似する。
■ 気孔が減少する。
ようになるからである。
本発明の非磁性材料は1通常の方法によって製造し得る
0例えば、酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、アルコ
ラード等の原料を所定比で秤量した後、水、アルコール
、アセトン等の適宜の溶媒を添加してボールミル等を用
いてよく混合した後、乾燥、仮焼する0次いで、粉砕し
た後、成形し、焼結させるものである。焼成は、真空、
窒素、アルゴン等の非酸化性雰囲気とするのが好ましい
、また、十分に緻密な焼結体とするために、熱間静水圧
プレス(HIP)処理するのが好ましい。
次に本発明に係る磁気ヘッドの構成について説明する。
第1図は本発明の磁気ヘッドの一実施例の概略図である
。磁気ヘッドlは非磁性スライダー2とチップ3とから
なり、チップ3はスライダー2の2木の空気ベアリング
面4.5の一方の面4に形成されたスリット6中に、ガ
ラス等でモールド固定されている。
チップ3の一例の詳細な構造を第2図に示す。
第2図において、非磁性基板10上にスパッタ膜が形成
されており、このスパッタ膜は、磁性合金層11−13
.14〜16と絶縁層17〜18.19〜2O3、V2
O5、BaO、Y2Oとが交互に積層した構造となって
いる。一対のチップ部材は、ギャップ21を有するよう
に、磁性合金M13と16との面でガラス接合されてい
る。22はガラス接合部を示す、巻線窓23に所定の巻
線が施される。
なお、非磁性基板10は1本発明に係る非磁性材料製の
ものであり、その組成等は前記した通りである。
スパッタ薄膜の組成は、特に限定されるものではなく、
従来から用いられている各種組成のものを採用し得る。
好ましい組成の一例として、特願昭60−40876号
で本出願人より提案されている、原子%でA13〜7%
、Si7〜11%及びFe82〜90%のもの、あるい
は、高透磁率を得る目的でA文4.5〜6.5%、Si
9.8〜10.5%、Fe83〜87%の組成のものが
挙げられる。
スパッタFjj膜の電気抵抗は数ル〜数百ルΩ・Cm程
度の小さな値であるため、膜の厚さをある程度薄くして
おかないと渦電流損により透磁率が低下する。従って表
皮深さよりも薄くするのが好ましい、しかし逆に余り薄
くなり過ぎると、金属膜の体積と層間絶縁の中間層の体
積の比が小さ  □くなり、全体としての透磁率が低下
し好ましくない0以上の観点から、スパッタtJHaの
好ましい厚さは0.5〜30JLm、とりわけ3〜15
ILmである。
透磁率の周波数特性を向上するために、スパッタ薄膜は
多層とするのが望ましい、この場合、各磁性合金層間に
酸化珪素等の絶縁層を介在させる。また、磁性合金層の
厚さは0.5〜lOILm、好ましくは3〜1071m
である。絶縁層が磁性合金層の172O3、V2O5、
BaO、Y2O以下であれば磁気抵抗は十分に小さく、
また0、021Lm以上であれば十分な絶縁が得られる
。一般に絶縁層の厚さは0.02〜1.opm、好まし
くは0 、2〜0.7用mである。第2図は3層の磁性
合金層を有するスパッタ薄膜を示しているが、2層、4
R又はそれ以上のものも必要に応じ使用するこができる
なお、スパー、夕薄膜は通常のスパッタ条件で形成する
ことができる。
ターゲツト材とスパッタ膜とでは、組成が僅かに異なる
が、この組成の差はアルゴン圧や電極間の距離等のスパ
ッタ条件によっても変化する。
従って所望の組成のスパッタ膜はターゲットの組成やス
パッタ条件を変えることで容易に得ることができる。
スパッタにより磁性合金薄膜を形成した磁気ヘッドに、
透磁率を向上させるために、熱処理を施こすのが好まし
い、熱処理は真空中または不活性ガス中で好ましくは4
00〜900℃、特に好ましくは500〜700℃の温
度で0.3時間〜2時間、好ましくは0.5〜1時間行
う、熱処理をガラス接合と同時に行ってもよい、かかる
熱処理により、磁性合金薄膜の結晶粒は成長する。結晶
粒は0.3gm以上であると透磁率は向上するが、1.
0gmより大きくなると透磁率は向上するものの加工時
に膜の!!離やクラックを生じ、精密加工に耐えないと
いう欠点が生ずる。従って、結晶粒の大きさは0.3〜
1.OILmが適切である。
実施例1 市販の試薬特級のM n CO3及びNiOを、MnO
:NiO(モル比)が100:0,90:10.80:
2O3、V2O5、BaO、Y2O,70:30及び6
0 : 40となるように秤量し、純水を加えボールミ
ル中で24時間粉砕した後、N2雰囲気中にて900℃
X4Hrの仮焼を行った。
これを33 m m X 40mmX 14mmのブロ
ック形状に3tOn/Ctrl’の圧力で成形し、1次
焼成(N2雰囲気中、1330℃X6Hr)を行った後
、too。
atmにて12O3、V2O5、BaO、Y2O0℃X
IHrのHIP処理を行った(雰囲気Ar)。
得られた焼結体のX線回折結果より、いずれも岩塩型結
晶構造を有していることが認められた。
また、気孔率及び熱膨張係数の測定結果をぞれぞれ第3
図及び第4図に示す、なお、気孔率は、焼結体表面を鏡
面仕上げし、走査型電子顕微鏡(倍率2O3、V2O5
、BaO、Y2O00倍)にて写真撮影し、気孔の直径
と数とを測定することにより求めた。
第3図より、M n Oが90%を超えると、気孔含有
率が顕著に増大し、Mn066〜90%では緻密な焼結
体となっていることが認められる。
また、第4図より、熱膨張係数は130〜140 X 
10 ”’の間にあり、磁性合金膜とほぼ一致した値で
あることが認められる。
なお、第4図には、後述するMn0−NiO−CaO系
の材料(Ca02%添加)の熱膨張係数の測定結果をも
示しである。
実施例2 Mn0 : N i O: Caoc7)モル比が70
 : 30:(2,4又は6)となるように、市販の試
薬特級Ca COzをさらに原料に加えたこと以外は実
施例1と同様にして焼結体を得た。第5図に、この焼結
体の気孔率の測定結果を示す。
実施例3 Ca CO3ノ代わりに、Zr、AM、■、Ba及びC
uの酸化物を用いたこと以外は実施例2と同様にして焼
結体を得た。その気孔率の測定結果を第5図に示す。
第5図より、CaO1Z ro2.AQ 2O3、V2
O5、BaO、Y2O3 。
V2 ()5.Bao及びCuOは、M n O−N 
i O系酸化物の焼結を促進させることが認められる。
実施例4 CaC03(7)代わりにCaCO3とZr02(7)
等モル混合物を用いたこと以外は実施例2同様にして焼
結体を得た。その気孔率を測定したところ、CaCO3
だけを添加した実施例2より気孔率が減少していること
が認められた。
また、Ca CO3を添加して得た焼結体(実施例2)
及びCa C03とZ ro2の等モル混合物を添加し
て得た焼結体(実施例4)について、ビアカース硬度を
測定した。その結果を第6因に示す。
第6図より、CaO又はCaO+Zr02c7)含有率
が増大するとビッカース硬度が増大し、切削加工しに〈
〈なり、とりわけ10モル%を超えると、ビッカース硬
度がかなり顕著に増大することが認められる。また、C
aO+ZrO2は、CaO単独のものに比べ、ビッカー
ス硬度を増大させる作用は、少ないことが認められる。
さらに、CaO単独添加の場合は、6%以下ならばそれ
程ビッカース硬度は、増大しないことも認められる。
実施例5 実施例1〜4において1寸法を10mmX210mmX
2O3、V2O5、BaO、Y2Oとしたこと以外は同
様にして焼結体を得た0次に、この焼結体の片面を鏡面
仕上げし、これらの鏡面仕上げ面上にスパッタリング法
にてFe−Ni系金属磁性膜(パーマロイ膜)又はFe
−A!L−5i系金属磁性膜(センダスト膜)を約5J
Lm厚みに形成した。こうして得られたものを、真空中
600℃10分間保持後、炉冷する条件で熱処理を施し
た。
また、比較のために、従来材としてチタン酸バリウム系
の基板も上記と同様にして作製処理した。その結果、従
来材ではパーマロイ膜及びセンダスト膜のいずれも熱処
理時に剥離が生じたが。
本発明の材料では、剥離は全く生じなかった。
実施例6 M n O: N i O: Ca Oがモル比で60
:40:2(比較例)、70:30:2,80:2O3
、V2O5、BaO、Y2O:2.90: lo:2,
100:O:2 (比較例)である焼結体を上記各実施
例と同様にして得、ダイヤモンド砥石を用いてこれらの
焼結体を研削したときの研削抵抗及びブレード摩耗量を
第7図に示す、なお、研削条件は次の通りである。
ブレード:レジンポンドのダイヤモンド砥石(粒度#1
000、厚さ0.2mm。
直径50mm)              1ブレ一
ド回転速度: 2500 rpm切込深さ:0.3mm 切込長さ二合計600 mm(2O3、V2O5、Ba
O、Y2Ommを30回)第7図にはビー2力−ス硬度
の測定結果を併せて示す。
第7図より、M n O含有量の増加に伴ってビッカー
ス硬度が低くなり、研削抵抗及びブレード研磨量のいず
れもが小さくなることが認められる。
なお、上記各実施例に係る本発明材料の磁場1000e
での飽和磁化を測定したところ、いずれも実質的に非磁
性であることが認められた。下記の■〜■の材料の飽和
磁化の測定結果を次に示す、(単位G、比率はモル比を
示す、)■ MnO: N 1o=70 : 30の材
料■ MnO:NiO:Ca0 =ro : 30 : 2の材料 ■ MnO: NfO:CaO:Zr02=70:30
:2:2の材料 飽和磁化の測定結果: ■ 0.8G ■ 2.5G ■ 0.5G [効果] 以上より明らかな通り、本発明に係る非磁性基板は、熱
膨張係数が合金磁性8IWIJと近似しており、かつ気
孔のない均質な焼結体であって、切削、研削加工性も優
れている。
また、本発明の磁気ヘッドは、製造工程の切削、研削を
迅速に行え、製造が容易であると共に、熱処理時に1合
金磁性膜の剥離のおそれがないから、適切な熱処理を経
た磁気特性の優れたものとなし得る。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例に係る磁気ヘッドの斜視図、第2図は第
1図の部分拡大図、第3図〜第7図の各図は実施例にお
ける測定結果を示すグラフである。 代 理 人  弁理士  重 野  剛第  1wl 1’−−−−−、る11気へ・・ト” 2−−−−−スラ4り− 3−−−−−h電気へ1.ド・干、v7゜4・5−一一
空威へ′アリン2゛狛 6−−−−−又り%y ト 第  2  図 10−−−−−・幕岑尽 11〜.16−−−=t、ンタ゛スト層17〜2O3、
V2O5、BaO、Y2O−−−−絶縁121−−−−
−A“ヤ1,7°                 
き22−−−−−−“かラス掴ト惨令P 23−−−−一も線認。 第  3  図 手続補正書 昭和60年12月13日

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)MnO67〜90モル%、NiO10〜33モル
    %を含み、岩塩型結晶構造を有することを特徴とする非
    磁性基板材料。
  2. (2)CaO、ZrO_2、Al_2O_3、V_2O
    _5、BaO、Y_2O_3及びCuOの1種又は2種
    以上を10モル%以下含むことを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の非磁性基板材料。
  3. (3)磁性合金薄膜を非磁性基板上に有する磁気ヘッド
    において、該非磁性基板はMnO67〜90モル%、N
    iO10〜33モル%を含み、岩塩型結晶構造を有する
    ことを特徴とする磁気ヘッド。
  4. (4)非磁性基板はCaO、ZrO_2、 Al_2O_3、V_2O_5、BaO、Y_2O_3
    及びCuOの1種又は2種以上を10モル%以下含むこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載の磁気ヘッ
    ド。
JP60161660A 1985-07-22 1985-07-22 非磁性基板材料及び磁気ヘツド Granted JPS6222411A (ja)

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US07/244,292 US5057374A (en) 1985-07-22 1988-09-15 Mno/nio-based nonmagnetic substrate material

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0330121A2 (en) * 1988-02-25 1989-08-30 Japan Energy Corporation Non-magnetic substrate of magnetic head, magnetic head and method for producing substrate

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01189020A (ja) * 1988-01-22 1989-07-28 Hitachi Metals Ltd 浮上型複合磁気ヘッド
US5060098A (en) * 1988-04-18 1991-10-22 Hitachi, Ltd. Magnetic recorder provided with a magnetic head slider having a non-magnetic oxide of spinel structure
US4870521A (en) * 1988-06-23 1989-09-26 Kyocera Corporation Floating magnetic head
JP3106210B2 (ja) * 1991-03-29 2000-11-06 ミネベア株式会社 浮動型磁気ヘッドスライダ
US5508863A (en) * 1991-04-10 1996-04-16 Hitachi Metals, Ltd. Flying-type magnetic head comprising a slider/gimbal connection which suppresses slider height differences
JPH0814884B2 (ja) * 1991-04-25 1996-02-14 日本電気株式会社 磁気ヘッド
JP2760921B2 (ja) * 1992-04-06 1998-06-04 日立金属株式会社 非磁性基板材及び磁気ヘッド
US5536585A (en) * 1993-03-10 1996-07-16 Hitachi, Ltd. Magnetic recording medium and fabrication method therefor
JP3089530B2 (ja) 1994-06-28 2000-09-18 ソニー株式会社 磁気ヘッド用非磁性材料及びそれを用いた磁気ヘッド

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4264939A (en) * 1978-05-30 1981-04-28 Victor Company Of Japan, Limited Magnetic erasing head
US4402787A (en) * 1979-05-31 1983-09-06 Ngk Insulators, Ltd. Method for producing a single crystal
JPS5860423A (ja) * 1981-10-07 1983-04-09 Hitachi Metals Ltd 磁気ヘツド装置
JPS59908A (ja) * 1982-05-31 1984-01-06 Hitachi Metals Ltd 基板材料
JPS5921732A (ja) * 1982-07-28 1984-02-03 ユニチカ株式会社 強撚糸調特殊複合糸の製造方法
JPS59172703A (ja) * 1983-03-22 1984-09-29 Hitachi Metals Ltd 基板材料
JPS60200853A (ja) * 1984-03-23 1985-10-11 ティーディーケイ株式会社 磁気ヘツド用セラミツク基板材料
JPS60200854A (ja) * 1984-03-23 1985-10-11 ティーディーケイ株式会社 磁気ヘツド用セラミツク基板材料
JPS60231308A (ja) * 1984-05-01 1985-11-16 Sumitomo Special Metals Co Ltd アルミナ系磁気ヘッド用基板材料及びその製造方法
US4521323A (en) * 1984-06-27 1985-06-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Polycrystalline ferrite and a magnetic head using the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0330121A2 (en) * 1988-02-25 1989-08-30 Japan Energy Corporation Non-magnetic substrate of magnetic head, magnetic head and method for producing substrate

Also Published As

Publication number Publication date
US4805059A (en) 1989-02-14
JPH0332202B2 (ja) 1991-05-10
US5057374A (en) 1991-10-15

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