JP2760921B2 - 非磁性基板材及び磁気ヘッド - Google Patents
非磁性基板材及び磁気ヘッドInfo
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- JP2760921B2 JP2760921B2 JP4113090A JP11309092A JP2760921B2 JP 2760921 B2 JP2760921 B2 JP 2760921B2 JP 4113090 A JP4113090 A JP 4113090A JP 11309092 A JP11309092 A JP 11309092A JP 2760921 B2 JP2760921 B2 JP 2760921B2
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/105—Mounting of head within housing or assembling of head and housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッド用非磁性基板
材と小型ハードディスク用磁気ヘッドに用いる薄膜磁気
ヘッド及び、コンポジット型浮上式磁気ヘッドに係わ
る。
材と小型ハードディスク用磁気ヘッドに用いる薄膜磁気
ヘッド及び、コンポジット型浮上式磁気ヘッドに係わ
る。
【０００２】
【従来の技術】３.５インチや２.５インチ以下の高密
度、小型磁気ディスク装置に使用される浮上式磁気ヘッ
ドには、更に高密度化が進むにつれて増加する傾向にあ
る図１に示す薄膜型と図２に示す現在主流のコンポジッ
ト型とがある。図１は薄膜型磁気ヘッドの一例を示す斜
視図である。１１は磁気ヘッドであり、１２はスライダ
−、１３はエアベアリング、１４は電磁変換部である。
電磁変換部は、通常非磁性のスライダ−端面にＡｌ2Ｏ3
膜を形成し、その上にリソグラフィ薄膜技術により、ア
モルファス等の薄膜が成膜される。このために製作上、
使用上から熱膨張係数を適正な関係にする必要があり、
スライダ−材にはアルミナ・炭化チタン（ＡＴＣ）を主
原料にした基板材料が一般的に用いられている。薄膜磁
気ヘッドにおいては、アモルファスの磁性薄膜は飽和磁
束密度が８０００〜９０００Ｇ、透磁率が２，０００
（１ＭＨｚ）程度であり、高密度記録化に対応するため
に、飽和磁束密度が１１，０００前後で透磁率が３，０
００（１ＭＨｚ）と、より軟磁気特性の良好なＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉの磁性薄膜が用いられ始めている。Ｆｅ−Ａｌ
−Ｓｉの磁性薄膜の熱膨張係数は１４５×１０-7／℃前
後とアモルファスの１２０〜１３０×１０-7／℃に比較
して大きいために、熱膨張係数の面から、ＭｎＯとＮｉ
Ｏの主組成にＡｌ2Ｏ3等を添加した、熱膨張係数が（１
３５〜１４５）×-7／℃の非磁性基板材でスライダ−を
構成した薄膜磁気ヘッドが用いられてきている。前記非
磁性基板材の一つとして、特開平３−１４６４５６号公
報に開示されている、ＭｎＯ：４０〜７０モル％、Ｎｉ
Ｏ：３０〜６０モル％、特開平２−２９６７６５号公報
に開示されているＭｎＯ：６７〜９０モル％、ＮｉＯ：
１０〜３３モル％の主組成がＭｎＯ，ＮｉＯで岩塩型構
造を有する非磁性基板材がある。この非磁性基板材はビ
ッカ−ス硬度で５５０〜７００kg/mm2と望ましい硬度を
有し、気孔が少なく、精密機械加工が容易でしかも加工
中でのクラック、チッピングの発生が少なく化学的に安
定した非磁性基板材である。図２はコンポジット型の浮
上式磁気ヘッドを示す斜視図である。図２において、２
１はコンポジット型の浮上式磁気ヘッド、２２はセラミ
ックス等の非磁性材料で構成したスライダ−である。磁
気ヘッドコア２３はエアベアリング２４に形成されたス
リット２５にモ−ルドガラス２６により固定保持されて
いる。上記磁気ヘッドコアには熱膨張係数が１００℃〜
４００℃で１２０×１０-7／℃前後のＭｎ−Ｚｎ単結晶
フェライトが適しているが、磁気ヘッドコアをスライダ
−のスリットに組み込んでガラスで固定する際に、スラ
イダ−と磁気ヘッドコアの熱膨張係数に大きな差がある
とガラスにクラックが発生しやすくなる。そのために、
磁気ヘッドコアとスライダ−の熱膨張係数を近似させる
必要がある。こうしたコンポジット型のスライダ−に適
する非磁性基板の一つに、先に本発明者等が特開平２−
２４３５６２号公報で開示したＴｉＯ2−ＢａＯ−Ｃａ
Ｏ系の主組成物に、Ａｌ2Ｏ3，ＮｉＯ，ＳｒＯ，Ｍｇ
Ｏ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2のうち
の少なくとも１種以上を含有させた非磁性基板材があ
る。この非磁性基板材は、熱膨張係数も１１５×１０-7
／℃前後でＭｎ−Ｚｎフェライトに近く、Ａｌ2Ｏ3等の
添加物により結晶粒が微細化され結晶粒間の空孔も少な
く、均一化され、加工性が良くチッピングの発生の少な
い、優れた非磁性基板材である。
度、小型磁気ディスク装置に使用される浮上式磁気ヘッ
ドには、更に高密度化が進むにつれて増加する傾向にあ
る図１に示す薄膜型と図２に示す現在主流のコンポジッ
ト型とがある。図１は薄膜型磁気ヘッドの一例を示す斜
視図である。１１は磁気ヘッドであり、１２はスライダ
−、１３はエアベアリング、１４は電磁変換部である。
電磁変換部は、通常非磁性のスライダ−端面にＡｌ2Ｏ3
膜を形成し、その上にリソグラフィ薄膜技術により、ア
モルファス等の薄膜が成膜される。このために製作上、
使用上から熱膨張係数を適正な関係にする必要があり、
スライダ−材にはアルミナ・炭化チタン（ＡＴＣ）を主
原料にした基板材料が一般的に用いられている。薄膜磁
気ヘッドにおいては、アモルファスの磁性薄膜は飽和磁
束密度が８０００〜９０００Ｇ、透磁率が２，０００
（１ＭＨｚ）程度であり、高密度記録化に対応するため
に、飽和磁束密度が１１，０００前後で透磁率が３，０
００（１ＭＨｚ）と、より軟磁気特性の良好なＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉの磁性薄膜が用いられ始めている。Ｆｅ−Ａｌ
−Ｓｉの磁性薄膜の熱膨張係数は１４５×１０-7／℃前
後とアモルファスの１２０〜１３０×１０-7／℃に比較
して大きいために、熱膨張係数の面から、ＭｎＯとＮｉ
Ｏの主組成にＡｌ2Ｏ3等を添加した、熱膨張係数が（１
３５〜１４５）×-7／℃の非磁性基板材でスライダ−を
構成した薄膜磁気ヘッドが用いられてきている。前記非
磁性基板材の一つとして、特開平３−１４６４５６号公
報に開示されている、ＭｎＯ：４０〜７０モル％、Ｎｉ
Ｏ：３０〜６０モル％、特開平２−２９６７６５号公報
に開示されているＭｎＯ：６７〜９０モル％、ＮｉＯ：
１０〜３３モル％の主組成がＭｎＯ，ＮｉＯで岩塩型構
造を有する非磁性基板材がある。この非磁性基板材はビ
ッカ−ス硬度で５５０〜７００kg/mm2と望ましい硬度を
有し、気孔が少なく、精密機械加工が容易でしかも加工
中でのクラック、チッピングの発生が少なく化学的に安
定した非磁性基板材である。図２はコンポジット型の浮
上式磁気ヘッドを示す斜視図である。図２において、２
１はコンポジット型の浮上式磁気ヘッド、２２はセラミ
ックス等の非磁性材料で構成したスライダ−である。磁
気ヘッドコア２３はエアベアリング２４に形成されたス
リット２５にモ−ルドガラス２６により固定保持されて
いる。上記磁気ヘッドコアには熱膨張係数が１００℃〜
４００℃で１２０×１０-7／℃前後のＭｎ−Ｚｎ単結晶
フェライトが適しているが、磁気ヘッドコアをスライダ
−のスリットに組み込んでガラスで固定する際に、スラ
イダ−と磁気ヘッドコアの熱膨張係数に大きな差がある
とガラスにクラックが発生しやすくなる。そのために、
磁気ヘッドコアとスライダ−の熱膨張係数を近似させる
必要がある。こうしたコンポジット型のスライダ−に適
する非磁性基板の一つに、先に本発明者等が特開平２−
２４３５６２号公報で開示したＴｉＯ2−ＢａＯ−Ｃａ
Ｏ系の主組成物に、Ａｌ2Ｏ3，ＮｉＯ，ＳｒＯ，Ｍｇ
Ｏ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2のうち
の少なくとも１種以上を含有させた非磁性基板材があ
る。この非磁性基板材は、熱膨張係数も１１５×１０-7
／℃前後でＭｎ−Ｚｎフェライトに近く、Ａｌ2Ｏ3等の
添加物により結晶粒が微細化され結晶粒間の空孔も少な
く、均一化され、加工性が良くチッピングの発生の少な
い、優れた非磁性基板材である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】磁気ディスク装置にお
いては、近年の高密度記録化に対応するために、磁気記
録媒体としてのハードディスクは、メッキ法、スパッタ
法を使用して、磁性体をディスク基板に密着させたハー
ドディスクが使用されている。上記のメッキ法及びスパ
ッタ法で作られたディスク表面は、従来の塗布型のもの
に比べて面精度がよく仕上げられており、かつ潤滑材を
オーバーコートしているため、従来あまり問題となって
いなかったヘッドとディスク面とで生じるスティッキン
グ現象が問題となってきている。つまり、磁気記録媒体
との対向面の面精度が高くなると、静止しているディス
クの表面とヘッドのディスク対向面とが粘着（スティッ
ク）するという現象が現われる。そして、このヘッドと
ディスク間の粘着力が過度に強くなると、ディスクを回
転させるモ−タのトルクを越えてしまい装置が動作しに
くくなる。また、同時にＣＳＳ（コンタクト．ストッ
プ．アンド．スタート）動作に対する寿命が短くなる。
特に、浮上高さが０．１μｍ以下が要求される小型磁気
ディスクではより大きな問題となってきている。
いては、近年の高密度記録化に対応するために、磁気記
録媒体としてのハードディスクは、メッキ法、スパッタ
法を使用して、磁性体をディスク基板に密着させたハー
ドディスクが使用されている。上記のメッキ法及びスパ
ッタ法で作られたディスク表面は、従来の塗布型のもの
に比べて面精度がよく仕上げられており、かつ潤滑材を
オーバーコートしているため、従来あまり問題となって
いなかったヘッドとディスク面とで生じるスティッキン
グ現象が問題となってきている。つまり、磁気記録媒体
との対向面の面精度が高くなると、静止しているディス
クの表面とヘッドのディスク対向面とが粘着（スティッ
ク）するという現象が現われる。そして、このヘッドと
ディスク間の粘着力が過度に強くなると、ディスクを回
転させるモ−タのトルクを越えてしまい装置が動作しに
くくなる。また、同時にＣＳＳ（コンタクト．ストッ
プ．アンド．スタート）動作に対する寿命が短くなる。
特に、浮上高さが０．１μｍ以下が要求される小型磁気
ディスクではより大きな問題となってきている。
【０００４】かかるスティッキング現象を緩和するため
に、ヘッドのディスク対向面の面粗さがある程度粗くな
るように処理し、ＣＳＳ特性を向上させることが種々考
えられている。上記課題を解決するための一手段とし
て、特願昭６３−２９５６５２号公報には、多結晶材で
作られた浮動型磁気ヘッドにおいて、図８に示すような
磁気記録媒体と対向するエアベアリング面を、山と谷の
深さの差が平均して５０〜２００Åの面であり、山と谷
の繰り返しピッチが平均５〜２０μｍであり、山と谷と
の間の高さが急激に変化する部分は結晶の粒界に沿って
延在しているように凹凸付けしたことを特徴とする浮動
式磁気ヘッドが開示されている。図８はその一例のモノ
リシック型磁気ヘッドの斜視図である。しかしながら、
モノリシック型の磁気ヘッドは、全体が軟磁性材料のフ
ェライトで構成されており、材料のインダクタンス
（Ｌ）が大きく、高周波での応答が悪く、ノイズが発生
しやすい等の欠点を持っており、今後更に高密度記録化
する磁気ディスク装置には適当ではない。また、特開平
２−２９６７６５号公報に開示されているＭｎＯ：６７
〜９０モル％、ＮｉＯ：１０〜３３モル％で岩塩型構造
を有する非磁性基板材の結晶粒は最大１μｍ程度、特開
平０３−１４６４５６号公報に開示されている、Ｍｎ
Ｏ：４０〜７０モル％、ＮｉＯ：３０〜６０モル％の岩
塩型構造を有する非磁性基板でも３〜４μｍ程度であ
り、山と谷の凹凸付けをしても山と谷の平均深さの差
や、特に山と谷の繰返しの平均ピッチが好ましい状態に
ならず、モノリシック型磁気ヘッド程にはＣＳＳ特性を
向上することが困難である。
に、ヘッドのディスク対向面の面粗さがある程度粗くな
るように処理し、ＣＳＳ特性を向上させることが種々考
えられている。上記課題を解決するための一手段とし
て、特願昭６３−２９５６５２号公報には、多結晶材で
作られた浮動型磁気ヘッドにおいて、図８に示すような
磁気記録媒体と対向するエアベアリング面を、山と谷の
深さの差が平均して５０〜２００Åの面であり、山と谷
の繰り返しピッチが平均５〜２０μｍであり、山と谷と
の間の高さが急激に変化する部分は結晶の粒界に沿って
延在しているように凹凸付けしたことを特徴とする浮動
式磁気ヘッドが開示されている。図８はその一例のモノ
リシック型磁気ヘッドの斜視図である。しかしながら、
モノリシック型の磁気ヘッドは、全体が軟磁性材料のフ
ェライトで構成されており、材料のインダクタンス
（Ｌ）が大きく、高周波での応答が悪く、ノイズが発生
しやすい等の欠点を持っており、今後更に高密度記録化
する磁気ディスク装置には適当ではない。また、特開平
２−２９６７６５号公報に開示されているＭｎＯ：６７
〜９０モル％、ＮｉＯ：１０〜３３モル％で岩塩型構造
を有する非磁性基板材の結晶粒は最大１μｍ程度、特開
平０３−１４６４５６号公報に開示されている、Ｍｎ
Ｏ：４０〜７０モル％、ＮｉＯ：３０〜６０モル％の岩
塩型構造を有する非磁性基板でも３〜４μｍ程度であ
り、山と谷の凹凸付けをしても山と谷の平均深さの差
や、特に山と谷の繰返しの平均ピッチが好ましい状態に
ならず、モノリシック型磁気ヘッド程にはＣＳＳ特性を
向上することが困難である。
【０００５】一方、このＣＳＳ特性の向上の為に磁気デ
ィスクの面からも種々検討がなされており、磁気ディス
クはテクスチャ−と呼ばれる同じように凹凸付けをする
加工がなされる。このティクスチャ−は図９にＨＩＰＯ
ＳＳ（触針式微細形状測定器）で測定したディスク半径
方向の粗さ曲線を示すように、ディスク基板上に、平均
面粗さ１０ｎｍ前後で、山と谷のピッチが１００〜２０
０ｎｍの無数の凹凸付けをする加工であり、その後Ｃｒ
等の下地膜を成膜し、その上にスパッタリング等により
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ等の金属磁性薄膜を形成し、更にカ−
ボン等の保護膜を付けたものが一般的に使用されるよう
になってきた。このテクスチャ−による凹凸により、磁
気ヘッドのエアベアリング面との接触面積を小さくし、
粘着力を適正なものにすることができる。このような磁
気ディスク装置用のコンポジット型ヘッドのスライダ−
に用いられるＴｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物に、
Ａｌ2Ｏ3，ＮｉＯ，ＳｒＯ，ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，Ｍ
ｏＯ3，Ｉｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2うちの少なくとも１種以上を
含有する非磁性基板材は、熱膨張係数や加工性等がスラ
イダ−に適した材料である。しかしながら、ビッカ−ス
硬度が８５０Kg/mm2前後とテクスチャ−加工されたディ
スクに対しては硬度が高く、磁気ヘッドが浮上、着陸時
に保護膜と摺動して、テクスチャ−加工によるディスク
の凹凸の凸部を局部的に損耗し易いという問題点があ
る。また、前記ＭｎＯ，ＮｉＯを主組成とする非磁性基
板材と同様に好ましい凹凸付けをすることが困難であ
る。本発明者等は上記課題に鑑みて、ＭｎＯ，ＮｉＯを
主組成とする非磁性基板材の組成、添加物とその含有
量、製造条件を検討することにより、好ましい凹凸付け
を可能にし、ＣＳＳ特性を向上させた浮上式磁気ヘッド
を得ることができた。
ィスクの面からも種々検討がなされており、磁気ディス
クはテクスチャ−と呼ばれる同じように凹凸付けをする
加工がなされる。このティクスチャ−は図９にＨＩＰＯ
ＳＳ（触針式微細形状測定器）で測定したディスク半径
方向の粗さ曲線を示すように、ディスク基板上に、平均
面粗さ１０ｎｍ前後で、山と谷のピッチが１００〜２０
０ｎｍの無数の凹凸付けをする加工であり、その後Ｃｒ
等の下地膜を成膜し、その上にスパッタリング等により
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ等の金属磁性薄膜を形成し、更にカ−
ボン等の保護膜を付けたものが一般的に使用されるよう
になってきた。このテクスチャ−による凹凸により、磁
気ヘッドのエアベアリング面との接触面積を小さくし、
粘着力を適正なものにすることができる。このような磁
気ディスク装置用のコンポジット型ヘッドのスライダ−
に用いられるＴｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物に、
Ａｌ2Ｏ3，ＮｉＯ，ＳｒＯ，ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，Ｍ
ｏＯ3，Ｉｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2うちの少なくとも１種以上を
含有する非磁性基板材は、熱膨張係数や加工性等がスラ
イダ−に適した材料である。しかしながら、ビッカ−ス
硬度が８５０Kg/mm2前後とテクスチャ−加工されたディ
スクに対しては硬度が高く、磁気ヘッドが浮上、着陸時
に保護膜と摺動して、テクスチャ−加工によるディスク
の凹凸の凸部を局部的に損耗し易いという問題点があ
る。また、前記ＭｎＯ，ＮｉＯを主組成とする非磁性基
板材と同様に好ましい凹凸付けをすることが困難であ
る。本発明者等は上記課題に鑑みて、ＭｎＯ，ＮｉＯを
主組成とする非磁性基板材の組成、添加物とその含有
量、製造条件を検討することにより、好ましい凹凸付け
を可能にし、ＣＳＳ特性を向上させた浮上式磁気ヘッド
を得ることができた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の非磁性基板材
は、主組成のＭｎＯ，ＮｉＯと副組成のＡｌ2Ｏ3を含有
する非磁性基板材であって、その組織が（ＭｎＯ．Ｎｉ
Ｏ）の岩塩型構造と、（ＭｎＯ．ＮｉＯ）Ａｌ2Ｏ3のス
ピネル型構造との２相構造からなり、平均結晶粒径が５
〜１５μｍである磁気ヘッド用非磁性基板材である。ま
た、副組成であるＡｌ2Ｏ3の一部をＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，Ｚ
ｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯの少なくとも一種以上で置換
し、その組織が（ＭｎＯ．ＮｉＯ）の岩塩型構造と、
（ＭｎＯ．ＮｉＯ）Ａｌ2Ｏ3にＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ
2，ＺｎＯ，ＳｒＯの少なくとも一種以上を含むスピネ
ル型構造との２相構造で、平均結晶粒径が５〜１５μｍ
の非磁性基板材とすることも可能である。平均結晶粒径
は好ましい範囲は５〜１５μｍであるが、より好ましい
範囲は８〜１２μｍである。前記非磁性基板材の望まし
い組成範囲は、ＭｎＯ換算でＭｎＯ：２０〜８０ｗｔ
％、ＮｉＯ換算でＮｉＯ：２０〜８０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3
換算でＡｌ2Ｏ3：１〜２０ｗｔ％である。また、Ａｌ2
Ｏ3の一部をＹ2Ｏ3等で置換した場合には、ＭｎＯ換算
でＭｎＯ：２０〜８０ｗｔ％，ＮｉＯ換算でＮｉＯ：２
０〜８０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3換算でＡｌ2Ｏ3：１〜１５％
ｗｔ％、Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯ換算でＹ2Ｏ
3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯ合計が５ｗｔ％以下の組成
範囲が望ましい。このような非磁性基板材でコンポジッ
ト型浮上式磁気ヘッドや浮上式薄膜磁気ヘッドのスライ
ダ−を構成し、スライダ−の記録媒体対向面の浮上面側
のエアベアリング面を構成するスピネル型構造と岩塩型
構造の２相のうちの硬度の低い岩塩型構造の１相を選択
的に除去して、凹凸状の段差を形成して対ＣＳＳ特性の
良好な浮上式磁気ヘッドを得ることができる。
は、主組成のＭｎＯ，ＮｉＯと副組成のＡｌ2Ｏ3を含有
する非磁性基板材であって、その組織が（ＭｎＯ．Ｎｉ
Ｏ）の岩塩型構造と、（ＭｎＯ．ＮｉＯ）Ａｌ2Ｏ3のス
ピネル型構造との２相構造からなり、平均結晶粒径が５
〜１５μｍである磁気ヘッド用非磁性基板材である。ま
た、副組成であるＡｌ2Ｏ3の一部をＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，Ｚ
ｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯの少なくとも一種以上で置換
し、その組織が（ＭｎＯ．ＮｉＯ）の岩塩型構造と、
（ＭｎＯ．ＮｉＯ）Ａｌ2Ｏ3にＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ
2，ＺｎＯ，ＳｒＯの少なくとも一種以上を含むスピネ
ル型構造との２相構造で、平均結晶粒径が５〜１５μｍ
の非磁性基板材とすることも可能である。平均結晶粒径
は好ましい範囲は５〜１５μｍであるが、より好ましい
範囲は８〜１２μｍである。前記非磁性基板材の望まし
い組成範囲は、ＭｎＯ換算でＭｎＯ：２０〜８０ｗｔ
％、ＮｉＯ換算でＮｉＯ：２０〜８０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3
換算でＡｌ2Ｏ3：１〜２０ｗｔ％である。また、Ａｌ2
Ｏ3の一部をＹ2Ｏ3等で置換した場合には、ＭｎＯ換算
でＭｎＯ：２０〜８０ｗｔ％，ＮｉＯ換算でＮｉＯ：２
０〜８０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3換算でＡｌ2Ｏ3：１〜１５％
ｗｔ％、Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯ換算でＹ2Ｏ
3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯ合計が５ｗｔ％以下の組成
範囲が望ましい。このような非磁性基板材でコンポジッ
ト型浮上式磁気ヘッドや浮上式薄膜磁気ヘッドのスライ
ダ−を構成し、スライダ−の記録媒体対向面の浮上面側
のエアベアリング面を構成するスピネル型構造と岩塩型
構造の２相のうちの硬度の低い岩塩型構造の１相を選択
的に除去して、凹凸状の段差を形成して対ＣＳＳ特性の
良好な浮上式磁気ヘッドを得ることができる。
【０００６】このような構成のスライダ−を得るために
は、所定組成の基板材の素材を粗加工したスライダ−に
磁気ヘッドコアを組み込み、更に最終形状に加工してコ
ンポジット型の磁気ヘッドを作製する。また、素材を前
加工し加工面に薄膜技術で磁気回路を作製し、その後磁
気ヘッドの形状に加工して薄膜磁気ヘッドを作製する。
このようにして作製した磁気ヘッドの磁気記録媒体との
対向面エアベアリングに何らかの加工により、凹凸状の
段差が得られるようにすれば良い。このようにして、磁
気ディスクと接触する磁気ヘッドのエアベアリング面に
適度な凹凸状の段差を設け、磁気ディスクと磁気ヘッド
との吸着力を下げることにより、ＣＳＳ特性を向上する
ことができる。図２に示す磁気ヘッド２１が正規の停止
姿勢である時に、エアベアリング面２４のうち静止状態
のディスクと接触するのは、Ａの領域（ヘッドの前縁部
に設けられた傾斜部Ｂ以外の領域）である。本発明では
これらの領域Ａ、Ｂのすべて、または同図Ｃのように一
部を上記特定の面粗さとなるように処理しても良いが、
ＣＳＳ特性からみるとマスキング等を行ない、磁気ヘッ
ドコア部分を除いたＡの領域を処理するのが好ましい。
は、所定組成の基板材の素材を粗加工したスライダ−に
磁気ヘッドコアを組み込み、更に最終形状に加工してコ
ンポジット型の磁気ヘッドを作製する。また、素材を前
加工し加工面に薄膜技術で磁気回路を作製し、その後磁
気ヘッドの形状に加工して薄膜磁気ヘッドを作製する。
このようにして作製した磁気ヘッドの磁気記録媒体との
対向面エアベアリングに何らかの加工により、凹凸状の
段差が得られるようにすれば良い。このようにして、磁
気ディスクと接触する磁気ヘッドのエアベアリング面に
適度な凹凸状の段差を設け、磁気ディスクと磁気ヘッド
との吸着力を下げることにより、ＣＳＳ特性を向上する
ことができる。図２に示す磁気ヘッド２１が正規の停止
姿勢である時に、エアベアリング面２４のうち静止状態
のディスクと接触するのは、Ａの領域（ヘッドの前縁部
に設けられた傾斜部Ｂ以外の領域）である。本発明では
これらの領域Ａ、Ｂのすべて、または同図Ｃのように一
部を上記特定の面粗さとなるように処理しても良いが、
ＣＳＳ特性からみるとマスキング等を行ない、磁気ヘッ
ドコア部分を除いたＡの領域を処理するのが好ましい。
【０００７】
【作用】本発明の非磁性基板材は、主組成のＭｎＯ、Ｎ
ｉＯに副組成のＡｌ2Ｏ3を含有させ、または、Ａｌ2Ｏ3
の一部をＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯの
少なくとも一種以上で置換して、（ＭｎＯ．ＮｉＯ）の
岩塩型構造の第１相と（ＭｎＯ．ＮｉＯ）Ａｌ2Ｏ3のス
ピネル型構造、または、（ＭｎＯ．ＮｉＯ）Ａｌ2Ｏ3に
ＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯ，の少なく
とも一種を含むスピネル型構造の第２相との２相構造に
することができる。そして、一次焼結、ＨＩＰ（熱間静
水圧プレス）の製造条件を検討することにより、結晶粒
径を５〜１５μｍ、より好ましくは８〜１２μｍにする
ことができる。第１相の岩塩型構造の硬度は第２相のス
ピネル型構造の硬度より低い。この岩塩型構造とスピネ
ル型構造の２相を有する非磁性基板材は、この２相間の
硬度差を利用して、表面を逆スパッタ等の加工をする事
により２相の除去量を異なえ、例えば、岩塩型構造の第
１相を凹状、スピネル型構造の第２相を凸状とした凹凸
状の段差を形成し、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの粘着
力を下げ、ＣＳＳ特性を向上させることができる。凹部
と凸部の段差量は余りにも少ないと、段差をつけた効果
が薄れるので、少なくとも３０Å以上が望ましい。凸部
と凹部のピッチは５〜２０μｍ程度に適当に分散されて
いたほうが磁気記録媒体との接触が安定になるので良
い。本発明の非磁性基板材は結晶粒径が５〜１５μｍ、
より好ましい範囲の８〜１２μｍに設定できるので、対
ＣＳＳ特性を向上できる凹凸付け加工が可能である。岩
塩型構造の第１相は、ＭｎＯとＮｉＯの比率により、熱
膨張係数はおよそ１２０〜１５０×１０-7／℃になる。
また、スピネル構造の第２相も、ＭｎＯとＮｉＯの比率
により、熱膨張係数はおよそ７０〜８０×１０-7／℃程
度である。従って、配合比を適切に選択し、その組成や
組織を好適なものにして、コンポジット型磁気ヘッドや
薄膜磁気ヘッド用の望ましい熱膨張係数を有する非磁性
基板材を得ることができる。本発明で主組成のＭｎＯを
２０〜８０ｗｔ％、ＮｉＯを２０〜８０ｗｔ％の範囲に
限定したのは、上記範囲外では焼結性が悪くなること、
また、逆スパッタによりエアベアリング面に凹凸を形成
する際に、その凹凸の比率を適度な２０〜８０％前後に
設定するためである。Ａｌ2Ｏ3はスピネル型構造を生成
し易くし，結晶粒を適度なものにして、気孔率を小さく
するために含有させるものである。Ａｌ2Ｏ3の一部を置
換するＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯも結
晶粒を適度なものにして、気孔率を小さくするのに効果
がある。添加物がＡｌ2Ｏ3単独の場合には、その含有量
は重量％で１〜２０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3の一部をＣａＯ，
Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯ等で置換した場合に
は、Ａｌ2Ｏ3の含有量は１〜１５ｗｔ％、その他の置換
物の合計の含有量は５ｗｔ％以下が焼結性を高め、気孔
率を小さくするのに効果がある。
ｉＯに副組成のＡｌ2Ｏ3を含有させ、または、Ａｌ2Ｏ3
の一部をＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯの
少なくとも一種以上で置換して、（ＭｎＯ．ＮｉＯ）の
岩塩型構造の第１相と（ＭｎＯ．ＮｉＯ）Ａｌ2Ｏ3のス
ピネル型構造、または、（ＭｎＯ．ＮｉＯ）Ａｌ2Ｏ3に
ＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯ，の少なく
とも一種を含むスピネル型構造の第２相との２相構造に
することができる。そして、一次焼結、ＨＩＰ（熱間静
水圧プレス）の製造条件を検討することにより、結晶粒
径を５〜１５μｍ、より好ましくは８〜１２μｍにする
ことができる。第１相の岩塩型構造の硬度は第２相のス
ピネル型構造の硬度より低い。この岩塩型構造とスピネ
ル型構造の２相を有する非磁性基板材は、この２相間の
硬度差を利用して、表面を逆スパッタ等の加工をする事
により２相の除去量を異なえ、例えば、岩塩型構造の第
１相を凹状、スピネル型構造の第２相を凸状とした凹凸
状の段差を形成し、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの粘着
力を下げ、ＣＳＳ特性を向上させることができる。凹部
と凸部の段差量は余りにも少ないと、段差をつけた効果
が薄れるので、少なくとも３０Å以上が望ましい。凸部
と凹部のピッチは５〜２０μｍ程度に適当に分散されて
いたほうが磁気記録媒体との接触が安定になるので良
い。本発明の非磁性基板材は結晶粒径が５〜１５μｍ、
より好ましい範囲の８〜１２μｍに設定できるので、対
ＣＳＳ特性を向上できる凹凸付け加工が可能である。岩
塩型構造の第１相は、ＭｎＯとＮｉＯの比率により、熱
膨張係数はおよそ１２０〜１５０×１０-7／℃になる。
また、スピネル構造の第２相も、ＭｎＯとＮｉＯの比率
により、熱膨張係数はおよそ７０〜８０×１０-7／℃程
度である。従って、配合比を適切に選択し、その組成や
組織を好適なものにして、コンポジット型磁気ヘッドや
薄膜磁気ヘッド用の望ましい熱膨張係数を有する非磁性
基板材を得ることができる。本発明で主組成のＭｎＯを
２０〜８０ｗｔ％、ＮｉＯを２０〜８０ｗｔ％の範囲に
限定したのは、上記範囲外では焼結性が悪くなること、
また、逆スパッタによりエアベアリング面に凹凸を形成
する際に、その凹凸の比率を適度な２０〜８０％前後に
設定するためである。Ａｌ2Ｏ3はスピネル型構造を生成
し易くし，結晶粒を適度なものにして、気孔率を小さく
するために含有させるものである。Ａｌ2Ｏ3の一部を置
換するＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯも結
晶粒を適度なものにして、気孔率を小さくするのに効果
がある。添加物がＡｌ2Ｏ3単独の場合には、その含有量
は重量％で１〜２０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3の一部をＣａＯ，
Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ2，ＺｎＯ，ＳｒＯ等で置換した場合に
は、Ａｌ2Ｏ3の含有量は１〜１５ｗｔ％、その他の置換
物の合計の含有量は５ｗｔ％以下が焼結性を高め、気孔
率を小さくするのに効果がある。
【０００８】
【実施例】以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明す
る。 （実施例１）ＭｎＯとＮｉＯの主組成をＡｌ2Ｏ3、Ｃａ
Ｏ、 Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、ＳｒＯの副組成の含
有量を変えて、基板材における（ ＭｎＯ．ＮｉＯ ）
の岩塩型構造と（ ＭｎＯ．ＮｉＯ ） Ａｌ2Ｏ3にＣ
ａＯ、 Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、ＳｒＯを含むスピ
ネル型構造の２相構造の非磁性基板材を製造した。製造
の工程は次の通りであるが、一次焼結温度かＨＩＰ温度
のどちらかを高くして同じ組成でも粒径を大きくするこ
とに留意した。市販の試薬特級ＭｎＣＯ3、 ＮｉＯと
を秤量し、純水を加えてボールミル中で２４時間粉砕し
た後、Ｎ2雰囲気中で８００〜１０００℃×４Ｈｒの仮
焼を行い、 ＭｎＯとＮｉＯとからなる（ ＭｎＯ．Ｎ
ｉＯ ）を作製した。次いでこの（ ＭｎＯ．ＮｉＯ）
を粉砕し、 Ａｌ2Ｏ3、ＣａＯ、 Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、
ＺｎＯ、ＳｒＯを添加含有させて湿式粉砕を行った。次
にこれを６０×３０×１３（ｍｍ）のブロック状に３ｔ
ｏｎ／ｃｍ2の圧力で成形し、一次焼結（ Ｎ2雰囲気中
で１２５０℃〜１５５０℃×６Ｈｒ ）を行なった後、
１０００ａｔｍでＨＩＰ処理（ Ａｒ雰囲気中で１２５
０℃〜１４５０℃×１Ｈｒ ）を行ない非磁性基板材を
得た。この一次焼結温度の１２５０℃〜１５５０℃、Ｈ
ＩＰ処理温度の１２５０℃〜１４５０℃は、平均結晶粒
径３〜４μｍの非磁性基板材の製造条件一次焼結温度Ｍ
ａｘ．１３００℃、ＨＩＰ処理温度のｍａｘ．１２５０
℃に比較して高い処理温度となっている。図１０に組成
がＭｎＯ：５１ｗｔ％、ＮｉＯ：３６ｗｔ％、Ａｌ
2Ｏ3：１３ｗｔ％の非磁性基板材の結晶粒径に及ぼす一
次焼結温度とＨＩＰ温度の相互の関係を示す。従来の温
度条件では平均結晶粒径は３〜４μｍが限界であるが、
一次焼結温度、または、ＨＩＰ温度のどちらかを従来よ
り高くすることにより、最大平均結晶粒径を１２μｍま
でに大きくすることが可能である。また、 ＭｎＯ：３
９ｗｔ％、ＮｉＯ：５９ｗｔ％、 Ａｌ2Ｏ3：２ｗｔ％
の組成では最大平均結晶粒径を１５μｍにまで成長させ
ることができる。更に処理温度を上げていくことにより
平均結晶粒は大きくできるが、１５μｍを越えると焼結
性が悪くなり、組成が荒れて非磁性基板材としては好ま
しくない。表１に本発明と従来の非磁性基板材の一次焼
結温度とＨＩＰ温度条件の違いによる平均結晶粒径の比
較を示す。どちらかの処理温度を高くする事によって結
晶粒の成長を促進し、同じ組成、添加物の含有量でも粒
径を大きくすることができる。本発明の非磁性基板材
は、この処理温度条件を変えることにより、組成や非磁
性基板材の熱膨張係数、硬度を適宜なものにすることが
容易となる利点も有している。
る。 （実施例１）ＭｎＯとＮｉＯの主組成をＡｌ2Ｏ3、Ｃａ
Ｏ、 Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、ＳｒＯの副組成の含
有量を変えて、基板材における（ ＭｎＯ．ＮｉＯ ）
の岩塩型構造と（ ＭｎＯ．ＮｉＯ ） Ａｌ2Ｏ3にＣ
ａＯ、 Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、ＳｒＯを含むスピ
ネル型構造の２相構造の非磁性基板材を製造した。製造
の工程は次の通りであるが、一次焼結温度かＨＩＰ温度
のどちらかを高くして同じ組成でも粒径を大きくするこ
とに留意した。市販の試薬特級ＭｎＣＯ3、 ＮｉＯと
を秤量し、純水を加えてボールミル中で２４時間粉砕し
た後、Ｎ2雰囲気中で８００〜１０００℃×４Ｈｒの仮
焼を行い、 ＭｎＯとＮｉＯとからなる（ ＭｎＯ．Ｎ
ｉＯ ）を作製した。次いでこの（ ＭｎＯ．ＮｉＯ）
を粉砕し、 Ａｌ2Ｏ3、ＣａＯ、 Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、
ＺｎＯ、ＳｒＯを添加含有させて湿式粉砕を行った。次
にこれを６０×３０×１３（ｍｍ）のブロック状に３ｔ
ｏｎ／ｃｍ2の圧力で成形し、一次焼結（ Ｎ2雰囲気中
で１２５０℃〜１５５０℃×６Ｈｒ ）を行なった後、
１０００ａｔｍでＨＩＰ処理（ Ａｒ雰囲気中で１２５
０℃〜１４５０℃×１Ｈｒ ）を行ない非磁性基板材を
得た。この一次焼結温度の１２５０℃〜１５５０℃、Ｈ
ＩＰ処理温度の１２５０℃〜１４５０℃は、平均結晶粒
径３〜４μｍの非磁性基板材の製造条件一次焼結温度Ｍ
ａｘ．１３００℃、ＨＩＰ処理温度のｍａｘ．１２５０
℃に比較して高い処理温度となっている。図１０に組成
がＭｎＯ：５１ｗｔ％、ＮｉＯ：３６ｗｔ％、Ａｌ
2Ｏ3：１３ｗｔ％の非磁性基板材の結晶粒径に及ぼす一
次焼結温度とＨＩＰ温度の相互の関係を示す。従来の温
度条件では平均結晶粒径は３〜４μｍが限界であるが、
一次焼結温度、または、ＨＩＰ温度のどちらかを従来よ
り高くすることにより、最大平均結晶粒径を１２μｍま
でに大きくすることが可能である。また、 ＭｎＯ：３
９ｗｔ％、ＮｉＯ：５９ｗｔ％、 Ａｌ2Ｏ3：２ｗｔ％
の組成では最大平均結晶粒径を１５μｍにまで成長させ
ることができる。更に処理温度を上げていくことにより
平均結晶粒は大きくできるが、１５μｍを越えると焼結
性が悪くなり、組成が荒れて非磁性基板材としては好ま
しくない。表１に本発明と従来の非磁性基板材の一次焼
結温度とＨＩＰ温度条件の違いによる平均結晶粒径の比
較を示す。どちらかの処理温度を高くする事によって結
晶粒の成長を促進し、同じ組成、添加物の含有量でも粒
径を大きくすることができる。本発明の非磁性基板材
は、この処理温度条件を変えることにより、組成や非磁
性基板材の熱膨張係数、硬度を適宜なものにすることが
容易となる利点も有している。
【表１】 次に主組成のＭｎＯとＮｉＯ組成を変え、副組成のＡｌ
2Ｏ3、及び、Ａｌ2Ｏ3の一部をＣａＯ、 Ｙ2Ｏ3、Ｚｒ
Ｏ2、ＺｎＯ、ＳｒＯで置換したときの、粒径、熱膨張
係数、硬度、焼結状態を確認した。その結果を表２に示
す。尚、Ｃｏ、ＳｉＯ2等の上記以外の成分は１％以下
であれば特性には特に影響を与えないので含んでいても
良い。熱膨張係数から、同表の実施例１〜３はＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ系磁性薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド、実施例６
〜１２はアモルファス磁性薄膜を用いた薄膜磁気ヘッ
ド、及び、コンポジット型磁気ヘッドのスライダーに適
するものである。
2Ｏ3、及び、Ａｌ2Ｏ3の一部をＣａＯ、 Ｙ2Ｏ3、Ｚｒ
Ｏ2、ＺｎＯ、ＳｒＯで置換したときの、粒径、熱膨張
係数、硬度、焼結状態を確認した。その結果を表２に示
す。尚、Ｃｏ、ＳｉＯ2等の上記以外の成分は１％以下
であれば特性には特に影響を与えないので含んでいても
良い。熱膨張係数から、同表の実施例１〜３はＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ系磁性薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド、実施例６
〜１２はアモルファス磁性薄膜を用いた薄膜磁気ヘッ
ド、及び、コンポジット型磁気ヘッドのスライダーに適
するものである。
【表２】 （比較例４：割れ発生、比較例５：気孔多い） また、硬度Hvはいずれも８００ｋｇ／ｍｍ2以下で、ス
ライダー用の非磁性基板材として、適切な硬度を有して
いる。また、平均結晶粒径も５〜１５μｍであり、組織
も顕微鏡により観察したところ主として岩塩型構造とス
ピネル型構造の２相構造を有していることが認められ、
逆スパッタ等により例えば硬度の低い岩塩型構造を除去
して、好ましいピッチの凸凹付けが可能である。しか
し、比較例１〜５に示すように、一次焼結やＨＩＰの処
理温度が適切でないものは結晶粒が小さく、ＭｎＯとＮ
ｉＯが８０ｗｔ％を越え、２０ｗｔ％未満のものは、気
孔が多かったり、割れが発生したりして焼結性が悪く実
用に共し得ないものであった。図１１は逆スパッタ処理
した組織を示す写真である。岩塩型構造が逆スパッタで
より深く除去されて凹状に、スピネル型構造は比較的除
去量が少なく凸状に残っている状況が確認できる。凸凹
の境界は影状の近傍にあり、結晶粒の粒界に沿っている
ものが多い。図３は本発明と比較例の組織を示す顕微鏡
の組織写真である。同図において（ａ）は本発明材の平
均結晶粒径が８〜１２μｍ、（ｂ）は平均結晶粒径が３
〜４μｍの組織写真である。白色の部分が岩塩型、灰色
がスピネル型構造を示す。本発明の非磁性基板材はＪＩ
Ｓ−Ｃ−２５６３に準じて算出したところ、平均粒径は
５〜１５μｍ、より好ましい８〜１２μｍで適切な凹凸
付け処理をするのに適していることが判る。尚、 ＪＩ
Ｓ−Ｃ−２５６３による平均粒径の定義は次式によるも
のである。 Ｄ＝１／Ｎ×Ｌ／ｎ×１０００（μｍ） ここで、Ｄ：平均結晶粒径 Ｎ：顕微鏡の倍率 Ｌ：直線の長さ ｎ：直線により切断される粒子数
ライダー用の非磁性基板材として、適切な硬度を有して
いる。また、平均結晶粒径も５〜１５μｍであり、組織
も顕微鏡により観察したところ主として岩塩型構造とス
ピネル型構造の２相構造を有していることが認められ、
逆スパッタ等により例えば硬度の低い岩塩型構造を除去
して、好ましいピッチの凸凹付けが可能である。しか
し、比較例１〜５に示すように、一次焼結やＨＩＰの処
理温度が適切でないものは結晶粒が小さく、ＭｎＯとＮ
ｉＯが８０ｗｔ％を越え、２０ｗｔ％未満のものは、気
孔が多かったり、割れが発生したりして焼結性が悪く実
用に共し得ないものであった。図１１は逆スパッタ処理
した組織を示す写真である。岩塩型構造が逆スパッタで
より深く除去されて凹状に、スピネル型構造は比較的除
去量が少なく凸状に残っている状況が確認できる。凸凹
の境界は影状の近傍にあり、結晶粒の粒界に沿っている
ものが多い。図３は本発明と比較例の組織を示す顕微鏡
の組織写真である。同図において（ａ）は本発明材の平
均結晶粒径が８〜１２μｍ、（ｂ）は平均結晶粒径が３
〜４μｍの組織写真である。白色の部分が岩塩型、灰色
がスピネル型構造を示す。本発明の非磁性基板材はＪＩ
Ｓ−Ｃ−２５６３に準じて算出したところ、平均粒径は
５〜１５μｍ、より好ましい８〜１２μｍで適切な凹凸
付け処理をするのに適していることが判る。尚、 ＪＩ
Ｓ−Ｃ−２５６３による平均粒径の定義は次式によるも
のである。 Ｄ＝１／Ｎ×Ｌ／ｎ×１０００（μｍ） ここで、Ｄ：平均結晶粒径 Ｎ：顕微鏡の倍率 Ｌ：直線の長さ ｎ：直線により切断される粒子数
【００１０】(実施例２)(ＭｎＯ．ＮｉＯ)の岩塩型構造
と(ＭｎＯ．ＮｉＯ)Ａｌ2Ｏ3にＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ
2，ＺｎＯ，ＳｒＯを含むのスピネル型構造の二つの相
を持つ基板材でスライダ−を構成し、Ｍｎ−Ｚｎ単結晶
フェライトコアにＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系の金属磁性薄膜を
成膜した磁気ヘッドコアをスライダ−に装着しコンポジ
ット型の磁気ヘッドを作製した。図１に示すように逆ス
パッタ法により、その磁気ヘッドのスライダ−のディス
ク対向面のエアベアリングに凹凸状の段差形状を形成し
た。逆スパッタ法は、スパッタ装置による逆スパッタ状
態を用いて加工する方法である。通常のスパッタが不活
性ガス、例えば、所定のガス圧のＡｒガス雰囲気の中
で、高電圧をかけＡｒガスをイオン化して、ターゲット
表面に衝突させ、その際に飛び出したターゲット粒子を
他の基板上に付着させ、膜形成していくのに対し、逆ス
パッタでは磁気ヘッド表面に、イオン化した不活性ガス
を衝突させて、ヘッド表面の原子を除去する。スライダ
−を形成している各相は、イオン化したガスが衝突する
ことで、その表面が除去されてゆくが、各相で原子の結
合エネルギーに差があり、表面を除去するのに必要なエ
ネルギーも異なるため、このような除去過程で、相ごと
に除去量に差を生じ、結果として、各相間で微少な高さ
の段差を作るようになる。また、この加工は原子状態で
の加工で、時間によって微少な段差から比較的大きな段
差まで制御する事が可能な手段でもある。また、逆スパ
ッタ時には、不要箇所をマスクし、必要箇所のみを逆ス
パッタ処理しても良い。また、凹凸状の段差形状を形成
するには、必ずしも逆スパッタに限定されるものではな
く、イオンミ−リングや、化学的エッチング処理を用い
ても良い。
と(ＭｎＯ．ＮｉＯ)Ａｌ2Ｏ3にＣａＯ，Ｙ2Ｏ3，ＺｒＯ
2，ＺｎＯ，ＳｒＯを含むのスピネル型構造の二つの相
を持つ基板材でスライダ−を構成し、Ｍｎ−Ｚｎ単結晶
フェライトコアにＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系の金属磁性薄膜を
成膜した磁気ヘッドコアをスライダ−に装着しコンポジ
ット型の磁気ヘッドを作製した。図１に示すように逆ス
パッタ法により、その磁気ヘッドのスライダ−のディス
ク対向面のエアベアリングに凹凸状の段差形状を形成し
た。逆スパッタ法は、スパッタ装置による逆スパッタ状
態を用いて加工する方法である。通常のスパッタが不活
性ガス、例えば、所定のガス圧のＡｒガス雰囲気の中
で、高電圧をかけＡｒガスをイオン化して、ターゲット
表面に衝突させ、その際に飛び出したターゲット粒子を
他の基板上に付着させ、膜形成していくのに対し、逆ス
パッタでは磁気ヘッド表面に、イオン化した不活性ガス
を衝突させて、ヘッド表面の原子を除去する。スライダ
−を形成している各相は、イオン化したガスが衝突する
ことで、その表面が除去されてゆくが、各相で原子の結
合エネルギーに差があり、表面を除去するのに必要なエ
ネルギーも異なるため、このような除去過程で、相ごと
に除去量に差を生じ、結果として、各相間で微少な高さ
の段差を作るようになる。また、この加工は原子状態で
の加工で、時間によって微少な段差から比較的大きな段
差まで制御する事が可能な手段でもある。また、逆スパ
ッタ時には、不要箇所をマスクし、必要箇所のみを逆ス
パッタ処理しても良い。また、凹凸状の段差形状を形成
するには、必ずしも逆スパッタに限定されるものではな
く、イオンミ−リングや、化学的エッチング処理を用い
ても良い。
【００１１】逆スパッタにより凹凸状の段差形状を形成
したベアリング面ではスピネル構造の凸状の山と岩塩型
構造の凹状の谷とが交互に現れ、かつ山と谷との間は高
さが急激に変化する部分（崖）となっている。この崖の
部分は岩塩型構造の相とスピネル構造の相の境界に沿っ
て延在している。このように山と谷とが適度な段差を有
し、かつ適度なピッチで繰り返されることにより、ヘッ
ドとディスクとのスティッキング（粘着）現象が防止な
いし緩和されるようになる。また、この崖の部分が相境
界に沿って延在する事により、ディスクのＣＳＳ損傷を
防ぐものと考えられる。即ち、崖部分が相境界に沿って
延在するので、この崖の部分では実質的に単相と同等の
性質を有する。このように処理したスライダ−のベアリ
ング面は、略、凸部のみが磁気記録媒体対向面に停止時
（非駆動時）には接触する事になる。摩耗し易い、柔ら
かい相の殆どは凹部を形成し磁気記録媒体に接触しない
ことになる。磁気ヘッドと磁気記録媒体とが起動・停止
（ＣＳＳ）が繰り返される時に、摩耗によるゴミの発生
が減少し、スティッキング防止に役立つものと考えられ
る。図４は本発明の平均結晶粒径が８〜１２μｍ、図５
は平均結晶粒径が５〜７μｍ、図６は比較例の平均結晶
粒が３〜４μｍの非磁性基板材で構成したスライダ−の
逆スパッタしたエアベアリング面をＨＩＰＯＳＳで処理
した粗さ曲線を示す図である。本発明材は比較例に対し
凹凸の山と谷の平均深さの差、山と谷の繰返しの平均ピ
ッチが好ましい状態にあるが、特に平均結晶粒径が８〜
１２μｍのものはとくに良好でディスク面との抵抗が小
さくなる。３〜４μｍのものは細かな傷を付けただけの
状態に類似しており、ＣＳＳ特性の向上には効果がな
い。また、図２に示す磁気ヘッド２１のエアベアリング
面２４がスピネル相のみで構成された場合は、適度な凹
凸状の段差を形成することが困難であり、且つ、磁気記
録媒体に接触する面積が多くなり、ＣＳＳ時の摺動抵抗
（摩擦抵抗）が増加し、装置の寿命に影響を及ぼすこと
になる。磁気ヘッド２のエアベアリング部２４が岩塩型
構造相のみで構成された場合には、スピネル型構造単相
の場合と同様に適度に凹凸状の段差を形成することが困
難であり、磁気記録媒体に接触する面積が多くなり、ス
ピネル相の混合割合が少ないと、ベアリング面２４での
凸部の面積割合が少なく、装置停止時の着地安定性が悪
くなり、停止時に磁気記録媒体と浮動型磁気ヘッドとで
スティッキングをおこし易くなる。このようなことか
ら、岩塩型構造の相が磁気ヘッド２１のエアベアリング
面２４にしめる面積割合は２０〜８０％前後が望まし
い。尚、逆スパッタ法によってベアリング面を処理する
場合、ベアリング面またはその一部分のうねりの振幅
を、触針式粗さ計による粗さ曲面で測定して、５０〜１
５０Å程度になるように仕上げるのが望ましい。図１は
薄膜型磁気ヘッド１１のスライダ−１２のベアアリング
１３に、逆スパッタにより凹凸状の段差を形成した薄膜
型磁気ヘッドの斜視図であり、コンポジット型の磁気ヘ
ッドと同様の好ましい凹凸付けが可能な結果が得られ
た。
したベアリング面ではスピネル構造の凸状の山と岩塩型
構造の凹状の谷とが交互に現れ、かつ山と谷との間は高
さが急激に変化する部分（崖）となっている。この崖の
部分は岩塩型構造の相とスピネル構造の相の境界に沿っ
て延在している。このように山と谷とが適度な段差を有
し、かつ適度なピッチで繰り返されることにより、ヘッ
ドとディスクとのスティッキング（粘着）現象が防止な
いし緩和されるようになる。また、この崖の部分が相境
界に沿って延在する事により、ディスクのＣＳＳ損傷を
防ぐものと考えられる。即ち、崖部分が相境界に沿って
延在するので、この崖の部分では実質的に単相と同等の
性質を有する。このように処理したスライダ−のベアリ
ング面は、略、凸部のみが磁気記録媒体対向面に停止時
（非駆動時）には接触する事になる。摩耗し易い、柔ら
かい相の殆どは凹部を形成し磁気記録媒体に接触しない
ことになる。磁気ヘッドと磁気記録媒体とが起動・停止
（ＣＳＳ）が繰り返される時に、摩耗によるゴミの発生
が減少し、スティッキング防止に役立つものと考えられ
る。図４は本発明の平均結晶粒径が８〜１２μｍ、図５
は平均結晶粒径が５〜７μｍ、図６は比較例の平均結晶
粒が３〜４μｍの非磁性基板材で構成したスライダ−の
逆スパッタしたエアベアリング面をＨＩＰＯＳＳで処理
した粗さ曲線を示す図である。本発明材は比較例に対し
凹凸の山と谷の平均深さの差、山と谷の繰返しの平均ピ
ッチが好ましい状態にあるが、特に平均結晶粒径が８〜
１２μｍのものはとくに良好でディスク面との抵抗が小
さくなる。３〜４μｍのものは細かな傷を付けただけの
状態に類似しており、ＣＳＳ特性の向上には効果がな
い。また、図２に示す磁気ヘッド２１のエアベアリング
面２４がスピネル相のみで構成された場合は、適度な凹
凸状の段差を形成することが困難であり、且つ、磁気記
録媒体に接触する面積が多くなり、ＣＳＳ時の摺動抵抗
（摩擦抵抗）が増加し、装置の寿命に影響を及ぼすこと
になる。磁気ヘッド２のエアベアリング部２４が岩塩型
構造相のみで構成された場合には、スピネル型構造単相
の場合と同様に適度に凹凸状の段差を形成することが困
難であり、磁気記録媒体に接触する面積が多くなり、ス
ピネル相の混合割合が少ないと、ベアリング面２４での
凸部の面積割合が少なく、装置停止時の着地安定性が悪
くなり、停止時に磁気記録媒体と浮動型磁気ヘッドとで
スティッキングをおこし易くなる。このようなことか
ら、岩塩型構造の相が磁気ヘッド２１のエアベアリング
面２４にしめる面積割合は２０〜８０％前後が望まし
い。尚、逆スパッタ法によってベアリング面を処理する
場合、ベアリング面またはその一部分のうねりの振幅
を、触針式粗さ計による粗さ曲面で測定して、５０〜１
５０Å程度になるように仕上げるのが望ましい。図１は
薄膜型磁気ヘッド１１のスライダ−１２のベアアリング
１３に、逆スパッタにより凹凸状の段差を形成した薄膜
型磁気ヘッドの斜視図であり、コンポジット型の磁気ヘ
ッドと同様の好ましい凹凸付けが可能な結果が得られ
た。
【００１２】（実施例３）岩塩型構造とスピネル型構造
の２相構造を有する基板材料用い、逆スパッタ処理を行
ない、エアベアリングに適度な凹凸を設けた磁気ヘッド
を用いてＣＳＳ特性の比較をおこなった。ＣＳＳ特性試
験は、デイスク３．５インチハ−ドディスク（基板：ア
ルミニウム、下地：Ｃｒ、磁性膜：Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａス
パッタ膜、周速９．４ｍ／ｓｅｃの条件でおこなった。
評価は静止した磁気ディスク上に磁気ヘッドをジンバル
で約９．５ｇ−ｆの力で押しつけておき、磁気ディスク
回転を開始するのに要する力（トルク）を測定して、こ
れを摩擦係数に換算しておこなった。摩擦係数は１．０
以下、好ましくは０．７以下が望ましい。その結果を図
７に示す。図７に示すように本発明の２相構造を持ち、
平均結晶粒径が８〜１２μｍ、５〜７μｍ非磁性基板材
の基板材料を用いたＮＯ．１、ＮＯ．２の磁気ヘッド
は、ＣＳＳ回数が８０，０００回を越えてもその摩擦は
０．７以下である。比較例の結晶粒径が３〜４μｍのＮ
Ｏ．３の磁気ヘッドは、ＣＳＳ回数８０，０００回で好
ましい範囲の０．７を越えてしまう。
の２相構造を有する基板材料用い、逆スパッタ処理を行
ない、エアベアリングに適度な凹凸を設けた磁気ヘッド
を用いてＣＳＳ特性の比較をおこなった。ＣＳＳ特性試
験は、デイスク３．５インチハ−ドディスク（基板：ア
ルミニウム、下地：Ｃｒ、磁性膜：Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａス
パッタ膜、周速９．４ｍ／ｓｅｃの条件でおこなった。
評価は静止した磁気ディスク上に磁気ヘッドをジンバル
で約９．５ｇ−ｆの力で押しつけておき、磁気ディスク
回転を開始するのに要する力（トルク）を測定して、こ
れを摩擦係数に換算しておこなった。摩擦係数は１．０
以下、好ましくは０．７以下が望ましい。その結果を図
７に示す。図７に示すように本発明の２相構造を持ち、
平均結晶粒径が８〜１２μｍ、５〜７μｍ非磁性基板材
の基板材料を用いたＮＯ．１、ＮＯ．２の磁気ヘッド
は、ＣＳＳ回数が８０，０００回を越えてもその摩擦は
０．７以下である。比較例の結晶粒径が３〜４μｍのＮ
Ｏ．３の磁気ヘッドは、ＣＳＳ回数８０，０００回で好
ましい範囲の０．７を越えてしまう。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、従来の浮動型磁気ヘッ
ドの最大の課題であったＣＳＳ特性において、２相混合
相で平均結晶粒径が５〜１５μｍの非磁性基板材を用い
てスライダーを作製し、かつ２相のうち１相を選択的に
除去し、磁気記録媒体の磁気ヘッドの対向面であるエア
ベアリング面に凹凸状の段差を形成し、ＣＳＳ特性を大
幅に向上することができた。
ドの最大の課題であったＣＳＳ特性において、２相混合
相で平均結晶粒径が５〜１５μｍの非磁性基板材を用い
てスライダーを作製し、かつ２相のうち１相を選択的に
除去し、磁気記録媒体の磁気ヘッドの対向面であるエア
ベアリング面に凹凸状の段差を形成し、ＣＳＳ特性を大
幅に向上することができた。
【図１】本発明の一例である浮上式薄膜磁気ヘッドを示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図２】本発明の一例であるコンポジット型浮上式磁気
ヘッドを示す斜視図である。
ヘッドを示す斜視図である。
【図３】本発明と比較例のセラミックス材料の組織写真
である。
である。
【図４】本発明の平均粒径が８〜１２μｍの基板材を用
いたスライダ−の逆スパッタしたエアベアリングをＨＩ
ＰＯＳＳで測定した粗さ曲線を示す図である。
いたスライダ−の逆スパッタしたエアベアリングをＨＩ
ＰＯＳＳで測定した粗さ曲線を示す図である。
【図５】本発明の平均粒径が５〜７μｍの基板材を用い
たスライダ−の逆スパッタしたエアベアリングをＨＩＰ
ＯＳＳで測定した粗さ曲線を示す図である。
たスライダ−の逆スパッタしたエアベアリングをＨＩＰ
ＯＳＳで測定した粗さ曲線を示す図である。
【図６】従来の平均粒径が３〜４μｍの基板材を用いた
スライダ−の逆スパッタしたエアベアリングをＨＩＰＯ
ＳＳで測定した粗さ曲線を示す図である。
スライダ−の逆スパッタしたエアベアリングをＨＩＰＯ
ＳＳで測定した粗さ曲線を示す図である。
【図７】本発明と比較例のＣＳＳ特性試験結果を示す図
である。
である。
【図８】モノリシック型の浮上式磁気ヘッドを示す斜視
図である。
図である。
【図９】テクスチャ−加工した磁気ディスクをＨＩＰＯ
ＳＳで測定した粗さ曲線を示す図である。
ＳＳで測定した粗さ曲線を示す図である。
【図１０】一次焼結温度とＨＩＰ温度と平均結晶粒径の
関係を示す図である。
関係を示す図である。
【図１１】逆スパッタ処理した本発明の２相構造のセラ
ミックス材料の組織写真である。
ミックス材料の組織写真である。
１１ 薄膜磁気ヘッド １２ スライダ− １３ エアベアリング １４ 電磁変換部 ２１ コンポジット型浮上式磁気ヘッド ２２ スライダ− ２３ 磁気ヘッドコア ２４ エアベアリング ２５ スリット ２６ モ−ルドガラス
Claims (9)
- 【請求項１】 主組成のＭｎＯ、ＮｉＯと副組成のＡｌ
2Ｏ3を含有する非磁性基板材であって、その組織が、 （ＭｎＯ．ＮｉＯ）の岩塩型構造と（Ｍｎ
Ｏ．ＮｉＯ）Ａｌ2Ｏ3のスピネル型構造との２相構造か
らなり、平均結晶粒径が５〜１５μｍである磁気ヘッド
用非磁性基板材。 - 【請求項２】 副組成のＡｌ2Ｏ3の一部をＣａＯ、Ｙ2
Ｏ3、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、ＳｒＯの少なくとも一種以上で
置換した非磁性基板材であって、その組織が、（Ｍｎ
Ｏ．ＮｉＯ）の岩塩型構造と（ＭｎＯ．ＮｉＯ）Ａｌ2
Ｏ3にＣａＯ、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、ＳｒＯの少な
くとも一種以上を含むスピネル型構造との２相構造から
なり、平均結晶粒径が５〜１５μｍである磁気ヘッド用
非磁性基板材。 - 【請求項３】 平均結晶粒径が８〜１２μｍである請求
項１、または、２に記載の磁気ヘッド用非磁性基板材。 - 【請求項４】 ＭｎＯ換算でＭｎＯ：２０〜８０ｗｔ
％、ＮｉＯ換算でＮｉＯ：２０〜８０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3
換算でＡｌ2Ｏ3：１〜２０ｗｔ％、であり、全てを加え
て１００ｗｔ％である請求項１、または、３記載の非磁
性基板材。 - 【請求項５】 ＭｎＯ換算でＭｎＯ：２０〜８０ｗｔ
％、ＮｉＯ換算でＮｉＯ：２０〜８０ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ3
換算でＡｌ2Ｏ3：１〜１５ｗｔ％、 Ｙ2Ｏ3、Ｚｒ
Ｏ2、ＺｎＯ、ＳｒＯ換算でＹ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＺｎＯ、
ＳｒＯ合計が５ｗｔ％以下であり、全てを加えて１００
ｗｔ％である請求項２、または、３記載の非磁性基板
材。 - 【請求項６】 請求項１ないし５の何れかに記載の磁気
ヘッド用非磁性基板材をスライダーに用いたコンポジッ
ト型浮上式磁気ヘッド。 - 【請求項７】 請求項１ないし５の何れかに記載の磁気
ヘッド用非磁性基板材をスライダーに用いた浮上式薄膜
磁気ヘッド。 - 【請求項８】 スライダーの記録媒体対向面の浮上面側
のエアベアリング面を構成する２相のうちの１相が選択
的に除去され、凹凸状の段差を有するスライダーを用い
た請求項６に記載のコンポジット型浮上式磁気ヘッド。 - 【請求項９】 スライダーの記録媒体対向面の浮上面側
のエアベアリング面を構成する２相のうちの１相が選択
的に除去され、凹凸状の段差を有するスライダーを用い
た請求項７に記載の浮上式薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4113090A JP2760921B2 (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 非磁性基板材及び磁気ヘッド |
| US08/041,056 US5347412A (en) | 1992-04-06 | 1993-03-31 | Floating magnetic head |
| GB9307200A GB2265999B (en) | 1992-04-06 | 1993-04-06 | Floating magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4113090A JP2760921B2 (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 非磁性基板材及び磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05290347A JPH05290347A (ja) | 1993-11-05 |
| JP2760921B2 true JP2760921B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=14603231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4113090A Expired - Lifetime JP2760921B2 (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 非磁性基板材及び磁気ヘッド |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JP2760921B2 (ja) |
| GB (1) | GB2265999B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2500479B2 (ja) * | 1993-04-22 | 1996-05-29 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 |
| US6330131B1 (en) * | 1993-09-17 | 2001-12-11 | Read-Rite Corporation | Reduced stiction air bearing slider |
| US5476691A (en) * | 1994-01-21 | 1995-12-19 | International Business Machines, Inc. | Surface treatment of magnetic recording heads |
| WO1995019884A1 (en) * | 1994-01-21 | 1995-07-27 | The Regents Of The Universtiy Of California | Surface treatment of ceramic articles |
| US5757591A (en) | 1996-11-25 | 1998-05-26 | International Business Machines Corporation | Magnetoresistive read/inductive write magnetic head assembly fabricated with silicon on hard insulator for improved durability and electrostatic discharge protection and method for manufacturing same |
| JPH10172125A (ja) * | 1996-12-09 | 1998-06-26 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘッド、この磁気ヘッドを備えた磁気記録再生装置および磁気ヘッドの製造方法 |
| US5967880A (en) * | 1997-01-03 | 1999-10-19 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for ultrasonically texturing ABS of magnetic head of hard disk drive |
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| CN1267897C (zh) | 2000-10-13 | 2006-08-02 | 西加特技术有限责任公司 | 具有带纹理的垫片的磁盘驱动器浮动块 |
| US6785083B2 (en) | 2001-04-23 | 2004-08-31 | Seagate Technology Llc | Application of reduced bias levels to disc drive read elements during periods of inactivity |
| US6836389B2 (en) * | 2002-09-27 | 2004-12-28 | Seagate Technology Llc | Slider basecoat for thermal PTR reduction |
| JP2004334995A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| US20110007423A1 (en) * | 2009-07-13 | 2011-01-13 | Seagate Technology Llc | Supplemental Layer to Reduce Damage from Recording Head to Recording Media Contact |
| US9165584B2 (en) * | 2013-07-09 | 2015-10-20 | Seagate Technology Llc | Air bearing surface having temperature/humidity compensation feature |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6222411A (ja) * | 1985-07-22 | 1987-01-30 | Hitachi Metals Ltd | 非磁性基板材料及び磁気ヘツド |
| JPH0719459B2 (ja) * | 1987-12-03 | 1995-03-06 | 日立金属株式会社 | 浮動型磁気ヘッド |
| JPH0775207B2 (ja) * | 1988-03-15 | 1995-08-09 | 松下電器産業株式会社 | 磁気ヘッド用基板材料 |
| JPH02187915A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-24 | Fujitsu Ltd | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
| JPH07108811B2 (ja) * | 1989-03-17 | 1995-11-22 | 日立金属株式会社 | 磁気ヘッド用非磁性セラミックス材料 |
| JPH02296765A (ja) * | 1989-05-12 | 1990-12-07 | Hitachi Metals Ltd | 非磁性基板材料 |
| JPH03146456A (ja) * | 1989-10-30 | 1991-06-21 | Hitachi Metals Ltd | 非磁性基板材料 |
| US5168407A (en) * | 1990-03-26 | 1992-12-01 | Nippon Mining Company, Ltd. | Flying magnetic head |
-
1992
- 1992-04-06 JP JP4113090A patent/JP2760921B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-03-31 US US08/041,056 patent/US5347412A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-04-06 GB GB9307200A patent/GB2265999B/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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|---|---|
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| GB2265999B (en) | 1995-08-30 |
| JPH05290347A (ja) | 1993-11-05 |
| GB2265999A (en) | 1993-10-13 |
| US5347412A (en) | 1994-09-13 |
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