JPS59908A - 基板材料 - Google Patents
基板材料Info
- Publication number
- JPS59908A JPS59908A JP57092797A JP9279782A JPS59908A JP S59908 A JPS59908 A JP S59908A JP 57092797 A JP57092797 A JP 57092797A JP 9279782 A JP9279782 A JP 9279782A JP S59908 A JPS59908 A JP S59908A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal magnetic
- film
- magnetic film
- oxide
- base plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/26—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by the substrate or intermediate layers
- H01F10/28—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by the substrate or intermediate layers characterised by the composition of the substrate
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属磁性膜を蒸着するための非磁性基板材料
に関するものである。
に関するものである。
従来、例えば薄膜磁気ヘッド、集積回路素子等を製造す
るに際しては、チタン酸バリウム、チタン゛酸カルシウ
ム、アルミナ、亜鉛フェライト、ガラス等を非磁性基板
材料として用い、該基板材料上に金属磁性膜を形成した
ものが用いられていた。
るに際しては、チタン酸バリウム、チタン゛酸カルシウ
ム、アルミナ、亜鉛フェライト、ガラス等を非磁性基板
材料として用い、該基板材料上に金属磁性膜を形成した
ものが用いられていた。
すなわち、これらの材料を一基板材料どして鏡面仕上げ
加工を施したあと、トリクロールエチレン。
加工を施したあと、トリクロールエチレン。
アセトン等の有機溶媒中で洗浄し、この基板上に真空蒸
着法、スパッタリング法、イＡンプレーアイング法等の
公知の物理蒸着法技術を用いＣ数μ〜数十μｍの膜厚に
、Ｆｅ−Ｎｉ系またはＦｅ −ＡＩ−３ｉ系の金属磁性
膜を形成し、ぞの後、磁気特性改善のため５００〜１０
０℃で真空中加熱による熱処理を実施している。
着法、スパッタリング法、イＡンプレーアイング法等の
公知の物理蒸着法技術を用いＣ数μ〜数十μｍの膜厚に
、Ｆｅ−Ｎｉ系またはＦｅ −ＡＩ−３ｉ系の金属磁性
膜を形成し、ぞの後、磁気特性改善のため５００〜１０
０℃で真空中加熱による熱処理を実施している。
しかしながら、上記従来の基板材料の多くは、その熱膨
張係数が金属磁性膜の熱膨張係数αと大きく異なってい
るため、蒸着した金属磁性膜が剥離しゃずいという欠点
を有していた。また、例えば熱ｆｉ服係数が金属磁性膜
の熱膨張係数と合ったガラスの場合には、蒸着膜の剥離
の問題点はないが、薄膜磁気ヘッドを構成した場合には
、ガラスの硬さが低いために磁気テープとの摺動により
摩耗するという欠点があった。
張係数が金属磁性膜の熱膨張係数αと大きく異なってい
るため、蒸着した金属磁性膜が剥離しゃずいという欠点
を有していた。また、例えば熱ｆｉ服係数が金属磁性膜
の熱膨張係数と合ったガラスの場合には、蒸着膜の剥離
の問題点はないが、薄膜磁気ヘッドを構成した場合には
、ガラスの硬さが低いために磁気テープとの摺動により
摩耗するという欠点があった。
このためＦｅ−Ｎｉ系またはＦｅ −ＡＩ −３ｉ系金
属磁性膜の熱膨張係数α（１２０〜１５０Ｘ１０−７／
′℃）に近い熱膨張係数を有し、しかも硬さは磁気ｊ−
プに含まれる磁性粉の硬さくＨＶ ＝ ５００〜７００
Ｋ Ｏ／ ｎ＋ｍ’）なみの特性を有づる非磁性基板材
料の出現が望まれていた。
属磁性膜の熱膨張係数α（１２０〜１５０Ｘ１０−７／
′℃）に近い熱膨張係数を有し、しかも硬さは磁気ｊ−
プに含まれる磁性粉の硬さくＨＶ ＝ ５００〜７００
Ｋ Ｏ／ ｎ＋ｍ’）なみの特性を有づる非磁性基板材
料の出現が望まれていた。
本発明は上記要望に応えるべくなされたものであり、Ｆ
ｅ−Ｎｉ系またはＦｅ −ＡＩ−８ｉ系金属磁性膜を物
理蒸着法により形成するに最適な非磁性基板材料を提供
することを目的とする。
ｅ−Ｎｉ系またはＦｅ −ＡＩ−８ｉ系金属磁性膜を物
理蒸着法により形成するに最適な非磁性基板材料を提供
することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明は、Ｚｎ工Ｍｎ）Ｎ
１２（−７０２（ただし０≦ｘ ≦０．４． ０．４≦
ｙ ＜−１，０゜０．８≦ｘ＋ｙ≦ １．０）で表わさ
れ岩塩型構造を有する酸化物を金属磁性膜蒸着用非磁性
基板材料として用いたことを特徴とするものである。
１２（−７０２（ただし０≦ｘ ≦０．４． ０．４≦
ｙ ＜−１，０゜０．８≦ｘ＋ｙ≦ １．０）で表わさ
れ岩塩型構造を有する酸化物を金属磁性膜蒸着用非磁性
基板材料として用いたことを特徴とするものである。
上記組成の酸化物は、フェライト磁気ヘッドの製造技術
において、フエライ１−との接合に関連する構造材料と
して、先に本件出願人が提案したことがあるものである
（特開昭５２−１４５７９７号公報参照）。
において、フエライ１−との接合に関連する構造材料と
して、先に本件出願人が提案したことがあるものである
（特開昭５２−１４５７９７号公報参照）。
しかしながら、先に提案したときは磁気ヘッドの構造材
料としての特性に着目したものであり、当該材料が金属
磁性膜蒸着用基板材料として適しているか否かは必ずし
も明確ではなかった。
料としての特性に着目したものであり、当該材料が金属
磁性膜蒸着用基板材料として適しているか否かは必ずし
も明確ではなかった。
本発明者等は、前記従来技術の欠点を解消覆る新規な材
料を実現１べく種々検討した結果、上記組成の非磁性材
料が特にＦｅ−Ｎｉ系またはＦｅ−Ａｌ−３ｉ系金属磁
性膜蒸着用基板材斜どして最適なものであることを見出
し本発明を完成したものである。
料を実現１べく種々検討した結果、上記組成の非磁性材
料が特にＦｅ−Ｎｉ系またはＦｅ−Ａｌ−３ｉ系金属磁
性膜蒸着用基板材斜どして最適なものであることを見出
し本発明を完成したものである。
本発明において０≦Ｘ≦０．４． ０．４≦ｙ≦ １．
０゜０．８≦ｘ＋ｙ≦ １．０としたのは、この組成範
囲では熱膨張係数αが１２０・〜１４０ｘ １０−”
／ ℃程度の特性となり、Ｆｅ−Ｎｉ系またはＦｅ −
ＡＩ −３ｉ系金属磁性膜のαどほぼ同等となるためで
ある。
０゜０．８≦ｘ＋ｙ≦ １．０としたのは、この組成範
囲では熱膨張係数αが１２０・〜１４０ｘ １０−”
／ ℃程度の特性となり、Ｆｅ−Ｎｉ系またはＦｅ −
ＡＩ −３ｉ系金属磁性膜のαどほぼ同等となるためで
ある。
また、本発明において、上記組成を主成分として、ＡＩ
、Ｃｒ 、Ｓｉ 、Ｓｎ 、Ｂａ等の添加物を含有さ
せた場合には、より高密度化出来る利点があるので、α
がＦｅ−Ｎｉ系またはＦｅ −ＡＩ −３ｉ系金属磁性
膜のαどほぼ同等のものであれば同様に本発明の効果を
得ることができる。
、Ｃｒ 、Ｓｉ 、Ｓｎ 、Ｂａ等の添加物を含有さ
せた場合には、より高密度化出来る利点があるので、α
がＦｅ−Ｎｉ系またはＦｅ −ＡＩ −３ｉ系金属磁性
膜のαどほぼ同等のものであれば同様に本発明の効果を
得ることができる。
以下、本発明を実施例に基づき詳述する。
実施例１
組成式Ｚｎ工Ｍ ｎ、 Ｎ ｉ２勺０．で表わされる酸
化物非磁性材料のうちＡ（ｘ＝ Ｏ，ｙ＝ １）、Ｂ（
ｘ＝０．１． ｙ ＝ ０．９） 、 Ｃ（Ｘ ＝ ０
．２５ 、 Ｖ ＝ ０．６５ ）およびＤ （Ｘ ＝
０．４． Ｖ ＝ ０．４） （７）各組成のものに
ライて、各素原料Ｚｅ Ｏ，Ｍｎ Ｃｏ、およびＮ：Ｏ
を秤量し、所望する酸化物をそれぞれ５ｏｏｇ製造した
。混合、粉砕は水またはアルコール、アセトン等の有機
溶媒中ボールミルで１０〜２０ｈ処理した。また、上記
Ａ（Ｘ＝０．Ｖ＝１）の組成のものにＡｌ２Ｏ３を粉砕
時に４重量％添加したものも同様に製造処理した。
化物非磁性材料のうちＡ（ｘ＝ Ｏ，ｙ＝ １）、Ｂ（
ｘ＝０．１． ｙ ＝ ０．９） 、 Ｃ（Ｘ ＝ ０
．２５ 、 Ｖ ＝ ０．６５ ）およびＤ （Ｘ ＝
０．４． Ｖ ＝ ０．４） （７）各組成のものに
ライて、各素原料Ｚｅ Ｏ，Ｍｎ Ｃｏ、およびＮ：Ｏ
を秤量し、所望する酸化物をそれぞれ５ｏｏｇ製造した
。混合、粉砕は水またはアルコール、アセトン等の有機
溶媒中ボールミルで１０〜２０ｈ処理した。また、上記
Ａ（Ｘ＝０．Ｖ＝１）の組成のものにＡｌ２Ｏ３を粉砕
時に４重量％添加したものも同様に製造処理した。
仮焼は７００〜１２００℃で実施し、金型成形後、窒素
ガス中１１５０〜１３００℃の温度範囲で焼結した。得
られた材料についてＸ線解析し、Ｎａ Ｃｌ構造である
ことを確認した。次に、これらの材料より片面を鏡面仕
上げした１０Ｘ ２０Ｘ ２ｔなる形状の基板を加工し
、これらの鏡面仕上げ面上にスパッタリング法にてＦｅ
−Ｎｉ系金属磁性膜（パーマロイ膜）またはＦｅ −Ａ
Ｉ−８ｉ系金属磁性膜（センダスト膜）を約５μｍ厚み
に形成した。こうして得られたものを、真空中６００℃
１０分間保持の炉冷条件で熱処理を施した。イの結果を
第１表に示ず。
ガス中１１５０〜１３００℃の温度範囲で焼結した。得
られた材料についてＸ線解析し、Ｎａ Ｃｌ構造である
ことを確認した。次に、これらの材料より片面を鏡面仕
上げした１０Ｘ ２０Ｘ ２ｔなる形状の基板を加工し
、これらの鏡面仕上げ面上にスパッタリング法にてＦｅ
−Ｎｉ系金属磁性膜（パーマロイ膜）またはＦｅ −Ａ
Ｉ−８ｉ系金属磁性膜（センダスト膜）を約５μｍ厚み
に形成した。こうして得られたものを、真空中６００℃
１０分間保持の炉冷条件で熱処理を施した。イの結果を
第１表に示ず。
また、社較のために、従来材としてチタン酸バリウム系
の基板も上記と同様にして作製処理した。
の基板も上記と同様にして作製処理した。
第１表
Ｏ：はがれ無し、×：はがれあり
Ｅ：ＡＩｏ ４重量％添加材
Ｐ：パーマロイ膜
Ｓ：センダスト膜
第１表より明らかな如く、従来材で生じていた金属磁性
膜の熱処理時の剥離は、本発明の材料では皆無である。
膜の熱処理時の剥離は、本発明の材料では皆無である。
また、副成分としてＡ１□０３ を添加しものもαが
１０７Ｘ １０／ ℃であり、問題なく有効であること
が明らかであり、極めて高い密度を有するという利点と
相俟って有用な基板材料であること明白である。
１０７Ｘ １０／ ℃であり、問題なく有効であること
が明らかであり、極めて高い密度を有するという利点と
相俟って有用な基板材料であること明白である。
以上詳述した如く、本発明非磁性基板材料を用いること
により、金属磁性薄膜形成後に、磁気特性の改善のため
の熱処理を施すことが望ましい金属磁性膜に対して、膜
の剥離を心配することなく任意の熱処理が可能となり、
磁気特性の優れた膜を有づる電子部品素子を生産するこ
とが出来る利点がある。このため本発明の工業的価値は
極めて大なるものがある。
により、金属磁性薄膜形成後に、磁気特性の改善のため
の熱処理を施すことが望ましい金属磁性膜に対して、膜
の剥離を心配することなく任意の熱処理が可能となり、
磁気特性の優れた膜を有づる電子部品素子を生産するこ
とが出来る利点がある。このため本発明の工業的価値は
極めて大なるものがある。
昭和５７年ｆ−１′Ｒ’ｔ−願第 ９８７９７ 号補
正をする者 名 竹 ｆ５０Ｂ＋ 日立金属株式会社代表者河野
典夫 代 理 人 二 居 所 東京都千代田区丸の１杏丁目１番２号補
正の対象 特許庁長官殿 事件の表示 昭和６７年士、Ｙ許願第 １１２７９’７ 号発明の
名称 基板材料 袖１１：をする者 Ｐ、 Ｉｉｌ ｆ５ｏ８１ ［」立金属株式会社
代表者河野 典夫 代 理 人 居 ｉＴｉ 東京都千代田区丸の内２丁目１番
２弓１」立金属株式会社内電話 東京 ２１３４−４６
４２補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄。 □補正の
内容 別紙のとｋＩＩ＋ 補正の内容 載 Ｌ 明細書の「発明の詳細な説明」の簾の配属を下記の
通り訂正する。
正をする者 名 竹 ｆ５０Ｂ＋ 日立金属株式会社代表者河野
典夫 代 理 人 二 居 所 東京都千代田区丸の１杏丁目１番２号補
正の対象 特許庁長官殿 事件の表示 昭和６７年士、Ｙ許願第 １１２７９’７ 号発明の
名称 基板材料 袖１１：をする者 Ｐ、 Ｉｉｌ ｆ５ｏ８１ ［」立金属株式会社
代表者河野 典夫 代 理 人 居 ｉＴｉ 東京都千代田区丸の内２丁目１番
２弓１」立金属株式会社内電話 東京 ２１３４−４６
４２補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄。 □補正の
内容 別紙のとｋＩＩ＋ 補正の内容 載 Ｌ 明細書の「発明の詳細な説明」の簾の配属を下記の
通り訂正する。
記
（１）明細ｉ１第５頁第５行ノｒＺｅＯＪ ｋ ｒＺｎ
ＯＪ ｆｃ訂正する。
ＯＪ ｆｃ訂正する。
（２）回書第６頁＃１１５行の「ＡｌｏＪ′！ｉ−「ム
’２ｏ３Ｊ Ｋ ＃圧する。
’２ｏ３Ｊ Ｋ ＃圧する。
（８）同書第７頁第１行＋７３ ［１ｏｑ ｘ ｘｏ−
７／ｃＪｌ［１ｇ３ｘ１ｏ−７７のに訂正する。
７／ｃＪｌ［１ｇ３ｘ１ｏ−７７のに訂正する。
以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 、 Ｚ ｎ、ＬＭ ｎ、Ｎ ｉ、１：、ｔＯ２（た
だし、０≦ｘ≦０．４゜０．４≦ｙ≦ １．０． ０．
８≦ｘ＋ｙ≦ １．０）で表わされ岩塩型構造を有する
ことを特徴とする金属磁性膜蒸着用非磁性基板材料。 ２、上記金属磁性膜がｌ”ｅ−Ｎｉ系またはＦｅ −Ａ
Ｉ−３ｉ系高透磁率磁性膜であることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の金属磁性膜蒸着用非磁性基板材
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57092797A JPS59908A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | 基板材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57092797A JPS59908A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | 基板材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59908A true JPS59908A (ja) | 1984-01-06 |
| JPS6119094B2 JPS6119094B2 (ja) | 1986-05-15 |
Family
ID=14064407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57092797A Granted JPS59908A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | 基板材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59908A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0119869A2 (en) * | 1983-03-22 | 1984-09-26 | Hitachi Metals, Ltd. | Non-magnetic substrate material |
| US4805059A (en) * | 1985-07-22 | 1989-02-14 | Hitachi Metals, Ltd. | Magnetic head having MnO/NiO-based nonmagnetic substrate |
| US5026614A (en) * | 1988-02-25 | 1991-06-25 | Nippon Mining Co., Ltd. | Magnetic recording medium with a zinc cobalt oxide non-magnetic substrate containing nickel or manganese |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62186014U (ja) * | 1986-05-19 | 1987-11-26 |
-
1982
- 1982-05-31 JP JP57092797A patent/JPS59908A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0119869A2 (en) * | 1983-03-22 | 1984-09-26 | Hitachi Metals, Ltd. | Non-magnetic substrate material |
| US4805059A (en) * | 1985-07-22 | 1989-02-14 | Hitachi Metals, Ltd. | Magnetic head having MnO/NiO-based nonmagnetic substrate |
| US5026614A (en) * | 1988-02-25 | 1991-06-25 | Nippon Mining Co., Ltd. | Magnetic recording medium with a zinc cobalt oxide non-magnetic substrate containing nickel or manganese |
| US5089196A (en) * | 1988-02-25 | 1992-02-18 | Nippon Mining Co., Ltd. | Non-magnetic substrate of magnetic head, magnetic head and method for producing substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6119094B2 (ja) | 1986-05-15 |
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