JPS59172703A - 基板材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属磁性膜を蒸着づるための非磁性基板材料
に関するものである。

従来、例えば′ａ膜磁気ヘッド、集積回路素子等を製造
するに際しては、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウ
ム、アルミゾ。亜鉛フＩライ１〜．ガラス等を非磁性基
板材料として用い、該基板材料上に金属磁性膜を形成し
たものが用いられていた。

すなわち、これらの材料を基板材料として鏡面仕上げ加
工を施したあと、１−リフロールエチレン。

アセ１−ン等の有機溶媒中で洗浄し、この基板上に真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−フインク法等
の公知の物理黒石法技術を用いて数μ〜数十μｍのＩｆ
！ｆ！厚に、Ｆｅ−Ｎｉ系またハＦｅ　−ＡＩ−３ｉ系
の金属磁性膜を形成し、その後、磁気特性改善のため５
００〜１００℃で真空中加熱にょる熱処理を実施してい
る。

しかしながら、上記従来の基板材料の多くは、その・熱
膨服ＩＦｆ、数が金属磁性膜の熱膨張係数αと大さく異
なっているため、蒸着した金属磁性膜が剥離しＦ−９い
という欠点を有していた。また、例えば熱膨張係数が金
属磁性膜の熱膨張係数と合ったガラスの場合には、蒸着
膜の剥離の問題点はないが、薄膜磁気ヘラ・ドを構成し
た場合には、ガラスの硬さが低いために磁気テープとの
摺動により摩耗するという欠点があった。

このため［ｅ’−Ｎｉ系またはＦｅ’−ＡＩ　−８ｉ系
金属磁性膜の熱膨張係数α（１２０−１５０ｘ　１ｏ−
７／′℃）に近い熱膨張係数を有し、しがも硬さは磁気
テープに含まれる磁性粉の硬さく１−１ｖ　＝　５００
〜７００Ｋ　ｇ　／　ｎｖ　）なみの特性を有する非磁
性基板材料の出現が望まれていた。

本発明は上記要望に応えるべくなされたものであり、［
二ｅ−Ｎｉ系またはＦｅ−△１−８ｉ系金属磁性膜を物
理黒石法により形成するに最適な非磁性基板材料を提供
することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明は、ＮｉｘＭｎ２−Ｘ
（たたし、０．０５≦ｘ　＜：：　　１．０）で表わさ
れ岩塩型構造を主どづる酸化物を金属磁り１膜蒸着用非
磁性基板材料として用いたことを特徴とするものである
。

上記と類似した組成の酸化物は、ノＪライ１−磁気ヘツ
トの製造技術において、ノエライ］−との接合に関連す
る構造材料どして、先に木（’ｌ出願人が提案したこと
があるものである（特開昭５２−１４５７９７号公報参
照）。

しかしながら、先に提案したどきはＩ６気ヘッドの構造
材料どしての特性に着目したものであり、当該材料が金
属磁性膜蒸着用基板材料として適しているか否かは必ず
しも明確ではなかった。

本発明者等は、前記従来技術の欠点を解消する新規な材
料を実現すべく種々検討した結果、上記組成範囲外の非
磁性材料が特にＦｅ　　Ｎｉ系またはＦｅ　−ＡＩ−８
ｉ系金属磁性膜蒸着用基板材料どして最適なものである
ことを見出し本発明を完成したものである。

一木発明において０．０５≦ｘ　＜　　１．０としたの
は、この組成範囲では熱膨張係数αが１３０〜１５０ｘ
ｌＯ−７７′℃程度の特性となり、Ｆｅ−Ｎｉ系または
「ｅ−△１−３ｉ系金属磁性膜のαとほぼ同等どなるた
めである。

また、本発明において、上記組成を主成分としＣ，ＡＩ
　、Ｃｒ　、Ｓｉ　、３ｎ　、　Ｂａ等の添加物を含有
さけた場合には、より高密度化出来る利点があるので、
αがＦｅ−Ｎｉ系またはＦｅ　−ＡＩ　−３ｉ系金属磁
性膜のαとほぼ同等のものであれば、同様に本発明の効
果を得ることができる。

以下、本発明を実施例に基づき詳述する。

実施例１ 組成式Ｎ　ｉｘＭ　ＩＩ、−ｘｏ　２で表わされる酸化
物非磁性材料のうちＡ　（Ｘ　＝　　１．０）　、　Ｂ
　（、Ｘ　＝　０．８）　。

Ｃ（ｘ　＝　０．６）およびＤ　（Ｘ　＝　０．０５　
）の各組成のものについて、各素原料Ｚｌｌ　Ｏ，Ｍｌ
ｌ　Ｃｏ、およびＮｉＯを秤量し、所望する酸化物をそ
れぞれ５００ｇ製造した。混合、粉砕は水またはアルニ
°］−ル。

アセトン等の有機溶媒中ボールミルで１０へ、２０ｈ処
理した。また、」−記Ａ、（Ｘ’＝　　１．０）の組成
のものにＡｌ２Ｏ３を粉砕時に４重量％添加したものも
同様に製造処理した。

仮焼は７００〜１２００℃で実施し、金型成形後、窒素
ガス中１１５０〜１３００℃の温度範囲で焼結した。得
られた材料についてＸ線解析し、ＮａＣｌ１Ｍ造が主た
るものであることを確認した。次に、これらの材料より
片面を鏡面什ｔげした１０Ｘ　２０Ｘ　２ｔなる形状の
基板を□加工し、これらの鏡面仕上げ面上にスパッタリ
ング法にてＦｅ−Ｎｉ系金属磁性膜（パーマロイ膜）ま
たはＦｅ　−ＡＩ−８ｉ系金属磁性膜（センタスト膜）
を約５μｍ厚みに形成した。こうして得られたものを、
真空中６００℃１０分間保持の炉冷条件で熱処理を施し
た。（の結果を第１表に示す。

また、比較のために、従来材としてチタン酸バリウム系
の基板も上記と同様にして作製処理した。

第１表 ○：はがれ無し、×：はがれあり Ｅ：Ａ１２０３４重量％添加オオ Ｐ：パーマロイ膜 Ｓ：センダメ１〜膜 第１表より明らかな如く、従来材で生じていた金属磁性
膜の熱処理時の剥離は、本発明の材料では皆無である。

また、副成分としてＡｌ２Ｏ３を添加しものもαが１４
２Ｘ　ＩＱ”／”Ｃであり、問題なく有効であることが
明らかであり、極めて高い密瓜を有するどい）利点と相
俟つで有用な基板材料であること明白で゛ある。

以上群’ｒｌＬ　Ｌだ如く、本発明非磁性基板材料・を
用いることにより、金属磁性薄膜形成後に、磁気特性の
改善のための熱処理を施すことが望ましい金属磁性膜に
対しτ、膜の剥離を心配することなく任意の熱処理が可
能となり、磁気特性の優れた膜を有する電子部品素子を
生産することが出来る利点がある。このため本発明の工
業的１ｉ１１ｉ値は極めて人なるものがある。

手続補正書 昭和′ゝ′年６　月１６□ 昭和５８年　特訂願　第１Ｉ７５９７号光明の名称　基
板材料 補正をする者 事件どの関１系　　特許出願人 １１所　東京都千代田区丸ノ内二丁目１番２号名称　（
５０８）日立金属株式会社 電話　東京０３−２８４−４６４２ 明細代の「発明の詳細な説明１の欄。

補正の内容 明細書第５頁第３行のＩ’７ｎ□」を削除する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　、　Ｎ　ｉＸ、Ｍ　ｎ７−２０２　（ただし、０．
   ０５≦×〈１．０）で表わされ岩塩型構造が主たること
   を特徴とする金属ぼ性膜蒸着用非磁性基板材料。 ２、上記金属磁性膜がＦｅ−Ｎｒ系またはＦｅ　−ＡＩ
   −３ｔ系高透磁率磁性膜であることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の金属磁性膜蒸着用非財性基板材料
   。