JPS60200854A - 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 - Google Patents

磁気ヘツド用セラミツク基板材料

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JPS60200854A
JPS60200854A JP59055798A JP5579884A JPS60200854A JP S60200854 A JPS60200854 A JP S60200854A JP 59055798 A JP59055798 A JP 59055798A JP 5579884 A JP5579884 A JP 5579884A JP S60200854 A JPS60200854 A JP S60200854A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate material
ceramic substrate
magnetic head
thermal expansion
coefficient
Prior art date
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Pending
Application number
JP59055798A
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English (en)
Inventor
小山 昭雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は金属磁性薄膜を蒸着あるいはスパッタリング等
をするための薄膜磁気ヘッド用の非磁性セラミック基板
材料に関するものである。
〔従来技術〕
磁気ヘッドはV T R(VidgOTape Rle
corder ) 。
コンピュータ、オーディオ機器の心臓部品として近年需
要が急拡大している。
VTRやコンピュータ等の高密度記録が一段と進むにつ
れ、次世代の磁気ヘッドとして薄膜で構成する薄膜磁気
ヘッドの研究が最近活発に行われている。
薄膜ヘッドは記録、再生機能をパーマロイ(F、−Ni
 ) 、センダスト(’ Ft −At−Si)等の金
属磁性薄膜に持たせ、耐摩耗性等の摺動性能を非磁性基
板に持たせる複合ヘッドであり、基板自体にも重要な特
性が要求される。
従来、この種の非磁性セラミック基板としては、ガラス
あるいはチタン酸カルシウムCa、T、:0. 、アル
ミナ・炭化チタンAZ、O3・TiO等のセラミック材
料が提案されていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところがこのような材料で構成されたセラミック基板に
は次の如き問題があった。
すなわち、金属磁性薄膜の特性を引き出すための蒸着、
スパッタリング等の膜形成の際およびその後の熱処理や
、ギャップ部のガラスボンディング時に後述するように
基板との熱膨張率の相異から薄膜か剥離するという難点
かあった。。
また従来提案されていた前記セラミック基板はその熱膨
張係数が高々l0XIO’−’/℃程度と小さく、又熱
膨張率が金属磁性薄膜と一致するカラスの場合には硬度
が低く磁気テープとの摺動時の摩耗が大きい欠点かあっ
た。
このためパーマロイ等の金属磁性薄膜の熱膨張率12〜
15X10″′6/℃に合致し、フェライト並みの耐摩
耗性を有する非磁性基板の出現が強く要望されていた。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者は、かかる点に鑑み鋭意研究を進め、Cαイオ
ン、MrLイオン及びNtlイオンはM、イオンの少な
くとも1種を含む特定組成の複合酸化物がかかる目的に
合致することを見出したが、さらにその改良を進めた結
果Cαイオン、 Mnイオン及びNiイオン又はMtl
イオン少なくとも1種を含む複合酸化物とアルミナ、シ
リカ又はクロミアの少なくとも1種よりなるセラミック
基板がさらに好ましい耐摩耗性を有することを見出し、
本発明をなすに至った。
即ち本発明は前記各イオンかCaO9MrLρ、 、N
ip。
MpO酸化物換算で である複合酸化物とアルミナ、シリカ又はクロミアの少
なくとも1種よりなる磁気ヘッド用の非磁性セラミック
基板材料を提供するものである。
本発明の磁気ヘッド用セラミック基板材料で形成された
非磁性基板の特徴は、Cαイオン、M、lイオン及びN
iイオン又はMfイオンの少なくとも1種を含む特定組
成の複合酸化物とアルミナ、シリカ又はクロミアの少な
くとも1種より成る点にあり、熱膨張率が13X10−
’/℃以上と金属磁性膜の熱膨張率に合致し、フェライ
ト以上の耐摩耗性を有する点にある。
本発明の基板材料において、CαHMn r Nt +
M2各イオンの含有量はCcLO、Mn、01. Nt
O、MfO酸化物換算で か60重量襲以下であることが必要である。
量チ未満では複合酸化物の過剰のCαイオンの存在によ
るものと思われる耐摩耗性の低下をきたし、75重量%
を超えると熱膨張率か小さくなる。又超えると摩耗量が
大きくなる。
又、アルミナ、シリカ又はクロミアの少なくとも1種の
含有は耐摩耗性の向上に有効で、基板材料全量に対して
0.1重量%以上あればその目的を達成することか出来
るが、増量に従い熱膨張率は低下するため、10重量%
以下が好ましい。
〔実施例〕
本発明の磁気ヘッド用セラミック基板材料によりセラミ
ック基板を製造する方法について1例を示す。
は焼成によりこれらの酸化物に変換しつる化合物をボー
ルミル等の混合機を用いて充分混合したのち、この混合
物を800〜1200℃の温度で仮焼する。次にこの仮
焼粉末に酸化ニッケル又は酸化マグネシウムの少なくと
も1種の粉末あるいは焼成により酸化物に変換しつる化
合物とアルミナ、シリカ又はクロミアの少なくとも1種
の粉末をボールミル等の混合機を用いて充分に混合した
のちこの混合粉末を乾燥後プレスバインダーを混ぜて成
形し、1250〜1400℃の温度範囲で焼成する。
この場合、各原料を独立粉末として用いてもよいし、あ
るいは共沈法やコロイド添加法等の公知の手段によって
調製した複合酸化物粉末として用いてもよい。又、成形
後の焼成においては、常圧焼結法以外に、ホットプレス
法などの高密度化焼成法を利用してもよい、。
次に具体的な実施例により本発明をさらに詳しく説明す
る。
なお熱膨張率はJiS法に準じ室温より500℃におけ
る平均線膨張よりめた。又、耐摩耗性は、ピン−円板式
摩耗試験機を使用し、荷重501v/i、周速150 
cm / etcの条件で100時間運転し、試験片の
長さの変化によりめた。なおピンにサンプル、円板には
鉄を用いた。
実施例 1 炭酸カルシウムおよび炭酸マンガンの比率を表1に示す
如く変え、ボールミルで24時時間式混合し、乾燥後大
気中で1000℃で焼成し、各種の仮焼粉末を作成した
次に得られた各種仮焼粉末に一定量の酸化ニラびアルミ
ナ粉末を基板材料全量に対して5重量%となるように加
え、ボールミルで24時時間式混合し、乾燥後プレスバ
インダーとしてPVA(ポリビニルアルコール1重量%
)を加え、2 ton/crdで成形し、1300℃で
1時間焼成して表1に示すサンプル1〜9を作成した。
このようにして優られた焼結体のC0LO、MtL、0
.換算の組成比率と熱膨張率及び耐摩耗性の結果を表1
に示す。なおこの表1には従来のZnフェライトの特性
をも示しである。
以下余白 表 1 この表1においてサンプル2〜6が本発明の範囲内のも
のである。サンプル1は摩耗量が犬であり、サンプル7
〜9は熱膨張率が小である。これ場合には耐摩耗性が悪
く、また75チを超えた場合には熱膨張率が小であるこ
とかわかる、。
実施例 2 炭酸カルシウムおよび炭酸マンガンの比率を変えボール
ミルで24時時間式混合し、乾燥後大気中1000℃で
焼成して各種仮焼粉末を作成した。
次に得られた各種仮焼粉末に酸化ニッケル、酸化マグネ
シウム(重量比1/1)及びアルミナ粉末を基板材料全
量に対して5重量%となるように加え、ボールミルで2
4時時間式混合し、乾燥後プレスバインダーとしてPV
Aを加え、これを前記の如< 2 ton成形して表2
に示すサンプル10〜25を作成し、それらの各特性を
測定し、表2に示す結果か得られた。
以下余白 表 2 表2においてサンプル10〜13.17,21゜22〜
25が本発明の範囲外のものであり、サンプル14〜1
6.18〜20か本発明の範囲内のものである。
耐摩耗性が悪く、75チを超えると熱膨張率が小を超え
ると摩耗量が大きいことかわかる。
実施例 3 炭酸カルシウムおよび炭酸マンガンの比率を末をボール
ミルに入れ24時時間式混合し、乾燥後大気中1000
℃で焼成して仮焼粉末を作成した。
X100=50重量%酸化ニッケル、酸化マグネシウム
(重量比1/1)各粉末と、アルミナ、シリカ及びクロ
ミア粉末を種々の重量で加えボールミルで24時時間式
混合し、乾燥後プレスバインダーとしてPVAを加え2
 torL/Jで成形し、1300℃で1時間焼成して
表3に示すサンプル26〜38を作成し、それらの各特
性を測定し、表3に示す結果が得られた。
表 3 表3により、アルミナ、シリカ又はクロミアの少なくと
も1種が基板材料全量に対して0.1重量%以上で耐摩
耗性の向上が見られ、10重量%以上では熱膨張率が小
さいことかわかる。
〔効 果〕
本発明によれば、熱膨張係数もパーマロイ等の金属磁性
薄膜に合致し、摩耗量が小さい非磁性の薄膜ヘッド用セ
ラミック基板として好適なものを得ることができる。
特許出願人 ティーディーケイ株式会社代理人 弁理士
 山 谷 晧 栄

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、Cαイオン、 MrLイオン及びNiイオン又はM
    。 イオンの少なくとも1種を含む複合酸化物とアルミナ、
    シソ力、クロミアの少なくとも1種よりなる磁気ヘッド
    用基板材料であって、前記イオンがCaO、MnxOs
     、 NtO2MyO酸化物換算で、であることを特徴
    とする磁気ヘッド用セラミック基板材料。 2、前記アルミナ、シリカ又はクロミアの少なくとも1
    種の量が、基板材料全量に対して0.1〜10重量係で
    あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気
    ヘッド用セラミック基板材料。
JP59055798A 1984-03-23 1984-03-23 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 Pending JPS60200854A (ja)

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JP59055798A JPS60200854A (ja) 1984-03-23 1984-03-23 磁気ヘツド用セラミツク基板材料

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Publication Number Publication Date
JPS60200854A true JPS60200854A (ja) 1985-10-11

Family

ID=13008929

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59055798A Pending JPS60200854A (ja) 1984-03-23 1984-03-23 磁気ヘツド用セラミツク基板材料

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JP (1) JPS60200854A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5057374A (en) * 1985-07-22 1991-10-15 Hitachi Metals, Ltd. Mno/nio-based nonmagnetic substrate material

Cited By (1)

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