JPS60200854A - 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 - Google Patents
磁気ヘツド用セラミツク基板材料Info
- Publication number
- JPS60200854A JPS60200854A JP59055798A JP5579884A JPS60200854A JP S60200854 A JPS60200854 A JP S60200854A JP 59055798 A JP59055798 A JP 59055798A JP 5579884 A JP5579884 A JP 5579884A JP S60200854 A JPS60200854 A JP S60200854A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate material
- ceramic substrate
- magnetic head
- thermal expansion
- coefficient
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属磁性薄膜を蒸着あるいはスパッタリング等
をするための薄膜磁気ヘッド用の非磁性セラミック基板
材料に関するものである。
をするための薄膜磁気ヘッド用の非磁性セラミック基板
材料に関するものである。
磁気ヘッドはV T R(VidgOTape Rle
corder ) 。
corder ) 。
コンピュータ、オーディオ機器の心臓部品として近年需
要が急拡大している。
要が急拡大している。
VTRやコンピュータ等の高密度記録が一段と進むにつ
れ、次世代の磁気ヘッドとして薄膜で構成する薄膜磁気
ヘッドの研究が最近活発に行われている。
れ、次世代の磁気ヘッドとして薄膜で構成する薄膜磁気
ヘッドの研究が最近活発に行われている。
薄膜ヘッドは記録、再生機能をパーマロイ(F、−Ni
) 、センダスト(’ Ft −At−Si)等の金
属磁性薄膜に持たせ、耐摩耗性等の摺動性能を非磁性基
板に持たせる複合ヘッドであり、基板自体にも重要な特
性が要求される。
) 、センダスト(’ Ft −At−Si)等の金
属磁性薄膜に持たせ、耐摩耗性等の摺動性能を非磁性基
板に持たせる複合ヘッドであり、基板自体にも重要な特
性が要求される。
従来、この種の非磁性セラミック基板としては、ガラス
あるいはチタン酸カルシウムCa、T、:0. 、アル
ミナ・炭化チタンAZ、O3・TiO等のセラミック材
料が提案されていた。
あるいはチタン酸カルシウムCa、T、:0. 、アル
ミナ・炭化チタンAZ、O3・TiO等のセラミック材
料が提案されていた。
ところがこのような材料で構成されたセラミック基板に
は次の如き問題があった。
は次の如き問題があった。
すなわち、金属磁性薄膜の特性を引き出すための蒸着、
スパッタリング等の膜形成の際およびその後の熱処理や
、ギャップ部のガラスボンディング時に後述するように
基板との熱膨張率の相異から薄膜か剥離するという難点
かあった。。
スパッタリング等の膜形成の際およびその後の熱処理や
、ギャップ部のガラスボンディング時に後述するように
基板との熱膨張率の相異から薄膜か剥離するという難点
かあった。。
また従来提案されていた前記セラミック基板はその熱膨
張係数が高々l0XIO’−’/℃程度と小さく、又熱
膨張率が金属磁性薄膜と一致するカラスの場合には硬度
が低く磁気テープとの摺動時の摩耗が大きい欠点かあっ
た。
張係数が高々l0XIO’−’/℃程度と小さく、又熱
膨張率が金属磁性薄膜と一致するカラスの場合には硬度
が低く磁気テープとの摺動時の摩耗が大きい欠点かあっ
た。
このためパーマロイ等の金属磁性薄膜の熱膨張率12〜
15X10″′6/℃に合致し、フェライト並みの耐摩
耗性を有する非磁性基板の出現が強く要望されていた。
15X10″′6/℃に合致し、フェライト並みの耐摩
耗性を有する非磁性基板の出現が強く要望されていた。
本発明者は、かかる点に鑑み鋭意研究を進め、Cαイオ
ン、MrLイオン及びNtlイオンはM、イオンの少な
くとも1種を含む特定組成の複合酸化物がかかる目的に
合致することを見出したが、さらにその改良を進めた結
果Cαイオン、 Mnイオン及びNiイオン又はMtl
イオン少なくとも1種を含む複合酸化物とアルミナ、シ
リカ又はクロミアの少なくとも1種よりなるセラミック
基板がさらに好ましい耐摩耗性を有することを見出し、
本発明をなすに至った。
ン、MrLイオン及びNtlイオンはM、イオンの少な
くとも1種を含む特定組成の複合酸化物がかかる目的に
合致することを見出したが、さらにその改良を進めた結
果Cαイオン、 Mnイオン及びNiイオン又はMtl
イオン少なくとも1種を含む複合酸化物とアルミナ、シ
リカ又はクロミアの少なくとも1種よりなるセラミック
基板がさらに好ましい耐摩耗性を有することを見出し、
本発明をなすに至った。
即ち本発明は前記各イオンかCaO9MrLρ、 、N
ip。
ip。
MpO酸化物換算で
である複合酸化物とアルミナ、シリカ又はクロミアの少
なくとも1種よりなる磁気ヘッド用の非磁性セラミック
基板材料を提供するものである。
なくとも1種よりなる磁気ヘッド用の非磁性セラミック
基板材料を提供するものである。
本発明の磁気ヘッド用セラミック基板材料で形成された
非磁性基板の特徴は、Cαイオン、M、lイオン及びN
iイオン又はMfイオンの少なくとも1種を含む特定組
成の複合酸化物とアルミナ、シリカ又はクロミアの少な
くとも1種より成る点にあり、熱膨張率が13X10−
’/℃以上と金属磁性膜の熱膨張率に合致し、フェライ
ト以上の耐摩耗性を有する点にある。
非磁性基板の特徴は、Cαイオン、M、lイオン及びN
iイオン又はMfイオンの少なくとも1種を含む特定組
成の複合酸化物とアルミナ、シリカ又はクロミアの少な
くとも1種より成る点にあり、熱膨張率が13X10−
’/℃以上と金属磁性膜の熱膨張率に合致し、フェライ
ト以上の耐摩耗性を有する点にある。
本発明の基板材料において、CαHMn r Nt +
M2各イオンの含有量はCcLO、Mn、01. Nt
O、MfO酸化物換算で か60重量襲以下であることが必要である。
M2各イオンの含有量はCcLO、Mn、01. Nt
O、MfO酸化物換算で か60重量襲以下であることが必要である。
量チ未満では複合酸化物の過剰のCαイオンの存在によ
るものと思われる耐摩耗性の低下をきたし、75重量%
を超えると熱膨張率か小さくなる。又超えると摩耗量が
大きくなる。
るものと思われる耐摩耗性の低下をきたし、75重量%
を超えると熱膨張率か小さくなる。又超えると摩耗量が
大きくなる。
又、アルミナ、シリカ又はクロミアの少なくとも1種の
含有は耐摩耗性の向上に有効で、基板材料全量に対して
0.1重量%以上あればその目的を達成することか出来
るが、増量に従い熱膨張率は低下するため、10重量%
以下が好ましい。
含有は耐摩耗性の向上に有効で、基板材料全量に対して
0.1重量%以上あればその目的を達成することか出来
るが、増量に従い熱膨張率は低下するため、10重量%
以下が好ましい。
本発明の磁気ヘッド用セラミック基板材料によりセラミ
ック基板を製造する方法について1例を示す。
ック基板を製造する方法について1例を示す。
は焼成によりこれらの酸化物に変換しつる化合物をボー
ルミル等の混合機を用いて充分混合したのち、この混合
物を800〜1200℃の温度で仮焼する。次にこの仮
焼粉末に酸化ニッケル又は酸化マグネシウムの少なくと
も1種の粉末あるいは焼成により酸化物に変換しつる化
合物とアルミナ、シリカ又はクロミアの少なくとも1種
の粉末をボールミル等の混合機を用いて充分に混合した
のちこの混合粉末を乾燥後プレスバインダーを混ぜて成
形し、1250〜1400℃の温度範囲で焼成する。
ルミル等の混合機を用いて充分混合したのち、この混合
物を800〜1200℃の温度で仮焼する。次にこの仮
焼粉末に酸化ニッケル又は酸化マグネシウムの少なくと
も1種の粉末あるいは焼成により酸化物に変換しつる化
合物とアルミナ、シリカ又はクロミアの少なくとも1種
の粉末をボールミル等の混合機を用いて充分に混合した
のちこの混合粉末を乾燥後プレスバインダーを混ぜて成
形し、1250〜1400℃の温度範囲で焼成する。
この場合、各原料を独立粉末として用いてもよいし、あ
るいは共沈法やコロイド添加法等の公知の手段によって
調製した複合酸化物粉末として用いてもよい。又、成形
後の焼成においては、常圧焼結法以外に、ホットプレス
法などの高密度化焼成法を利用してもよい、。
るいは共沈法やコロイド添加法等の公知の手段によって
調製した複合酸化物粉末として用いてもよい。又、成形
後の焼成においては、常圧焼結法以外に、ホットプレス
法などの高密度化焼成法を利用してもよい、。
次に具体的な実施例により本発明をさらに詳しく説明す
る。
る。
なお熱膨張率はJiS法に準じ室温より500℃におけ
る平均線膨張よりめた。又、耐摩耗性は、ピン−円板式
摩耗試験機を使用し、荷重501v/i、周速150
cm / etcの条件で100時間運転し、試験片の
長さの変化によりめた。なおピンにサンプル、円板には
鉄を用いた。
る平均線膨張よりめた。又、耐摩耗性は、ピン−円板式
摩耗試験機を使用し、荷重501v/i、周速150
cm / etcの条件で100時間運転し、試験片の
長さの変化によりめた。なおピンにサンプル、円板には
鉄を用いた。
実施例 1
炭酸カルシウムおよび炭酸マンガンの比率を表1に示す
如く変え、ボールミルで24時時間式混合し、乾燥後大
気中で1000℃で焼成し、各種の仮焼粉末を作成した
。
如く変え、ボールミルで24時時間式混合し、乾燥後大
気中で1000℃で焼成し、各種の仮焼粉末を作成した
。
次に得られた各種仮焼粉末に一定量の酸化ニラびアルミ
ナ粉末を基板材料全量に対して5重量%となるように加
え、ボールミルで24時時間式混合し、乾燥後プレスバ
インダーとしてPVA(ポリビニルアルコール1重量%
)を加え、2 ton/crdで成形し、1300℃で
1時間焼成して表1に示すサンプル1〜9を作成した。
ナ粉末を基板材料全量に対して5重量%となるように加
え、ボールミルで24時時間式混合し、乾燥後プレスバ
インダーとしてPVA(ポリビニルアルコール1重量%
)を加え、2 ton/crdで成形し、1300℃で
1時間焼成して表1に示すサンプル1〜9を作成した。
このようにして優られた焼結体のC0LO、MtL、0
.換算の組成比率と熱膨張率及び耐摩耗性の結果を表1
に示す。なおこの表1には従来のZnフェライトの特性
をも示しである。
.換算の組成比率と熱膨張率及び耐摩耗性の結果を表1
に示す。なおこの表1には従来のZnフェライトの特性
をも示しである。
以下余白
表 1
この表1においてサンプル2〜6が本発明の範囲内のも
のである。サンプル1は摩耗量が犬であり、サンプル7
〜9は熱膨張率が小である。これ場合には耐摩耗性が悪
く、また75チを超えた場合には熱膨張率が小であるこ
とかわかる、。
のである。サンプル1は摩耗量が犬であり、サンプル7
〜9は熱膨張率が小である。これ場合には耐摩耗性が悪
く、また75チを超えた場合には熱膨張率が小であるこ
とかわかる、。
実施例 2
炭酸カルシウムおよび炭酸マンガンの比率を変えボール
ミルで24時時間式混合し、乾燥後大気中1000℃で
焼成して各種仮焼粉末を作成した。
ミルで24時時間式混合し、乾燥後大気中1000℃で
焼成して各種仮焼粉末を作成した。
次に得られた各種仮焼粉末に酸化ニッケル、酸化マグネ
シウム(重量比1/1)及びアルミナ粉末を基板材料全
量に対して5重量%となるように加え、ボールミルで2
4時時間式混合し、乾燥後プレスバインダーとしてPV
Aを加え、これを前記の如< 2 ton成形して表2
に示すサンプル10〜25を作成し、それらの各特性を
測定し、表2に示す結果か得られた。
シウム(重量比1/1)及びアルミナ粉末を基板材料全
量に対して5重量%となるように加え、ボールミルで2
4時時間式混合し、乾燥後プレスバインダーとしてPV
Aを加え、これを前記の如< 2 ton成形して表2
に示すサンプル10〜25を作成し、それらの各特性を
測定し、表2に示す結果か得られた。
以下余白
表 2
表2においてサンプル10〜13.17,21゜22〜
25が本発明の範囲外のものであり、サンプル14〜1
6.18〜20か本発明の範囲内のものである。
25が本発明の範囲外のものであり、サンプル14〜1
6.18〜20か本発明の範囲内のものである。
耐摩耗性が悪く、75チを超えると熱膨張率が小を超え
ると摩耗量が大きいことかわかる。
ると摩耗量が大きいことかわかる。
実施例 3
炭酸カルシウムおよび炭酸マンガンの比率を末をボール
ミルに入れ24時時間式混合し、乾燥後大気中1000
℃で焼成して仮焼粉末を作成した。
ミルに入れ24時時間式混合し、乾燥後大気中1000
℃で焼成して仮焼粉末を作成した。
X100=50重量%酸化ニッケル、酸化マグネシウム
(重量比1/1)各粉末と、アルミナ、シリカ及びクロ
ミア粉末を種々の重量で加えボールミルで24時時間式
混合し、乾燥後プレスバインダーとしてPVAを加え2
torL/Jで成形し、1300℃で1時間焼成して
表3に示すサンプル26〜38を作成し、それらの各特
性を測定し、表3に示す結果が得られた。
(重量比1/1)各粉末と、アルミナ、シリカ及びクロ
ミア粉末を種々の重量で加えボールミルで24時時間式
混合し、乾燥後プレスバインダーとしてPVAを加え2
torL/Jで成形し、1300℃で1時間焼成して
表3に示すサンプル26〜38を作成し、それらの各特
性を測定し、表3に示す結果が得られた。
表 3
表3により、アルミナ、シリカ又はクロミアの少なくと
も1種が基板材料全量に対して0.1重量%以上で耐摩
耗性の向上が見られ、10重量%以上では熱膨張率が小
さいことかわかる。
も1種が基板材料全量に対して0.1重量%以上で耐摩
耗性の向上が見られ、10重量%以上では熱膨張率が小
さいことかわかる。
本発明によれば、熱膨張係数もパーマロイ等の金属磁性
薄膜に合致し、摩耗量が小さい非磁性の薄膜ヘッド用セ
ラミック基板として好適なものを得ることができる。
薄膜に合致し、摩耗量が小さい非磁性の薄膜ヘッド用セ
ラミック基板として好適なものを得ることができる。
特許出願人 ティーディーケイ株式会社代理人 弁理士
山 谷 晧 栄
山 谷 晧 栄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、Cαイオン、 MrLイオン及びNiイオン又はM
。 イオンの少なくとも1種を含む複合酸化物とアルミナ、
シソ力、クロミアの少なくとも1種よりなる磁気ヘッド
用基板材料であって、前記イオンがCaO、MnxOs
、 NtO2MyO酸化物換算で、であることを特徴
とする磁気ヘッド用セラミック基板材料。 2、前記アルミナ、シリカ又はクロミアの少なくとも1
種の量が、基板材料全量に対して0.1〜10重量係で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気
ヘッド用セラミック基板材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59055798A JPS60200854A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59055798A JPS60200854A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60200854A true JPS60200854A (ja) | 1985-10-11 |
Family
ID=13008929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59055798A Pending JPS60200854A (ja) | 1984-03-23 | 1984-03-23 | 磁気ヘツド用セラミツク基板材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60200854A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5057374A (en) * | 1985-07-22 | 1991-10-15 | Hitachi Metals, Ltd. | Mno/nio-based nonmagnetic substrate material |
-
1984
- 1984-03-23 JP JP59055798A patent/JPS60200854A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5057374A (en) * | 1985-07-22 | 1991-10-15 | Hitachi Metals, Ltd. | Mno/nio-based nonmagnetic substrate material |
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