JPH01248303A - 浮上型複合磁気ヘッド及びその磁気コア - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ディスク装置において記録媒体表−面より
ごく僅かに浮上させて用いる浮上型複合磁気ヘッドに組
み込む磁気コアに関する。

〔従来の技術及び問題点〕

磁気ディスク装置での情報の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドとしては例えば米国特許３８２３４１
６号及び特公昭５７−５６９号に示されているような浮
上型ヘッドが多く使用されている。この浮上型ヘッドに
おいてはスライダーの後端部に磁気変換ギャップを設け
、全体は高透磁率の酸化物磁性材料で構成されている。

浮上型磁気ヘッドは、磁気ディスクが静止している時に
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触しているが
、磁気ディスクが回転しているｆｈ７には、磁気ディス
ク表面の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が
作用し、磁気ディスクから浮上する。一方磁気ディスク
の回転を開始する時および止める時には、磁気ヘッドは
磁気ディスり上を摺動する。磁気ディスクの回転を止め
る時の接触の状況を説明すると、回転数を落してきた時
にその表面の空気の流れも次第に遅くなる。そして磁気
へノドの浮力が失われた時磁気へノドはディスク面に衝
突するとともにその反動でとび上り、またディスク面に
落ちる。このような運動を何度か繰り返した上で、磁気
へ７）はディスク上を引きずられるようにして停止する
。このような起動、停止時の衝撃に磁気ヘットは耐える
必要があり、その性能をＣＳＳ性（Ｃｏｎｔａｃｔ　５
ｔａｒｔ　５ｔｏｐ）と呼ぶことが多い。

上記高透磁率酸化物磁性材料であるフェライトで構成さ
れた浮上型磁気ヘッドは比較的良好な耐Ｃ８Ｓ性を示す
が、飽和磁束密度が小さく、高保持力の記録媒体に対し
て充分に記録出来ないという欠点がある。すなわち比較
的飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ　−ｌ　ｎ　フェライト
でもＢｓは高々５，０００Ｇ程度である。

そこてＢｓか８．０ＯＯＧ以上となるように金属磁性薄
膜を磁気ギャップ部に配置した構造の磁気へ７）とする
のが望ましいことがわかった。この例として特開昭５８
−１４３１１号に開示されているように、フェライトで
構成された浮上型磁気ヘッドの磁気変換ギャップ部にの
み高飽和磁束密度の金属磁性膜を設けた磁気ヘッドが提
案されている。しかし、この例では磁気変換部に所定の
巻線を施した後のインダクタンスが大きく、そのため共
振周波数が低下し、高周波での記録再生が不利になると
いう欠点がある。ここでインダクタンスが大きいのは磁
気ヘット全体が磁性体で構成されていることに基づく。

従って低インダクタンスとするために磁気回路を小さく
構成する必要がある。このような観点から全体を磁性材
料で構成せず、磁気コアを非磁性のスライダー中に埋設
固着した構成の浮上型複合磁気ヘッドが米国特許３．５
６２．４４４号に開示さた。また本発明者等は時開昭和
６１１９９２１．９号にて磁気コアを非磁性スライダー
中に埋設した磁気ヘンドの望ましい形状について提案し
た。

以上の点から高保磁力の媒体に対して充分に記録可能で
かつインダクタンスの小さな浮上型複合＝　３− 磁気ベントを得るには、飽和磁束密度Ｂｓの高いＭｎ−
Ｚｎ　　フェライトを基板としてギャップ部に高Ｂｓの
薄膜磁性材を成膜した磁気コアを非磁性スライダー中に
埋設したものが優れていることがわかった。

このような複合磁気ヘットの例として本発明者等により
特開昭６１−１５４３１０号に開示されたものがある。

さらに埋設される磁気コアのギャップ部の構造としてＸ
型に斜交したものが特開昭６１−１９９２１７号にて提
案された。しかしながらこのＸ型構造では各コア片の先
端部が鋭くとがっており、その上に高Ｂｓ磁性膜を被着
させ平行に研磨することにより磁気ギャップを形成して
いるので、所定のトランク幅を得るにはある程度高Ｂｓ
磁性膜の膜厚を厚くしておかねばならいという制約があ
る。

このような制約のない磁気コアとして、対向面がそれぞ
れ平坦な一対のコア片により磁気コアを構成し、磁気コ
アのトラック面にトランク幅を規制する切り欠きを設け
たいわゆる平行型の磁気コアがある。平行型の磁気コア
は、一般に■型コア片とＣ型コア片とからなり、通常■
型コア片上にＦｅ−Ａ６−３ｉ等の金属磁性薄膜が形成
されている。平行型の磁気コアは磁気ギャップの形成が
容易であるとともにトラック幅を精確に規定できるとい
う利点を有する。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、金属磁性薄膜とコア片との熱膨張係数の
差は一般に比較的大きいので、コア片をガラスにより接
合するときや磁気コアを非磁性スライダーに固着すると
きに、金属磁性薄膜がコア片から剥離したり、また薄膜
接合部の内部応力によりコア片にクラックが生じたりす
るという問題がある。さらに磁気コアの巻線用の窓部に
まで金属磁性薄膜があると、巻線の際に金属磁性薄膜が
剥離ずろという問題もある。

以上の問題を解決するために種々の試みがなされている
。例えば、熱膨張係数の差による剥離やクラックの問題
を防止するために、金属磁性薄膜を薄くすることが考え
られるが、薄くなるに従って特性も低下するので好まし
くない。また磁気ギャップやハックギャップにのみ金属
磁性薄膜を形成することも考えられるが、極めて小さな
磁気コアの磁気ギャップ部及びバンクギヤ７・プ部のみ
に誤差なく精確に金属磁性薄膜をスパックリング等によ
り形成するのは著しく困難である。

その上、通常磁気コアの一方のコア片に部分的に金属磁
性薄膜を形成するのに用いられるマスクは第９図におい
て９１で示されるような構造を有し、ホルダー９３内に
入れたフエライトコアブロンク９２を覆うようになって
いる。第１０図はホルダー９３内に設置したコアブロッ
ク９２の上にマスク９１を配置した状態を詳細に示す。

この状態でスパックリングにより金属磁性薄膜を形成す
ると、第１１図（ａ）及び（ｂ）に示すようにンヤトウ
効果による薄膜９４の膜タレや、マスク９１の浮き上り
による膜タレが生してしまう。このような膜ダレのため
、後述ずろように、薄膜の端部に近つくにつれて磁気ギ
ャップのギャップ長さが大きくなり特性が低下するとい
う問題がある。

従って本発明の目的は、上記問題点のない金属磁性薄膜
を有する浮上型複合磁気ヘッド用磁気コアを提供するこ
とである。

〔課題を解決ずろための手段〕

上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は磁気コアの
磁気ギャップ及びハックギャップに形成する金属磁性薄
膜の長さを特定の範囲に設定するこ吉により、金属磁性
薄膜の剥離やコア片のクラックの問題がなく、それによ
り良好な特性を示す磁気コアを得ることができることを
発見し、本発明に想到した。

すなわち、本発明の浮上型複合磁気へノド用磁気コアは
一対のコア片と、前記コア片を接合するガラス部と、前
記コア片の少なくとも一方の対向面に形成された金属磁
性薄膜とを有し４、前記コア片により形成された磁気ギ
ャップにおける前記金属磁性薄膜が磁気ギャップのエイ
ペックスより１θμｍ以」二延長しているとともに前記
接合ガラス部の内端より１５μｍ以上短かく、かつ前記
コア片のハックギャップにおける前記金属磁性薄膜が前
記ハックギャップの内端より一５０〜１００μｍ延長し
ていることを特徴とする。

〔作　用〕

通常のマスクを用いたスパックリングの場合、形成され
る金属磁性薄膜の端部にはダレが生じ、そのタレの長さ
は１０μｍ程度である。従って、そのタレによる特性低
下を防止するために、その分だけ磁気ギャップにおける
金属磁性薄膜を長くしておかなければならない。それと
ともに、各ギャップより延びる金属磁性薄膜の長さをそ
れが剥離しやすくなる長さより短かく設定しておかなけ
ればならないことがわかった。このような観点から、上
記範囲の延長部を有するように金属磁性薄膜の長さを設
定すると、薄膜の剥離やコア片のクランクを防止するこ
とができ、磁気ヘッドの特性を良好なものとすることが
できる。

〔実施例〕

本発明を添付図面を参照して以下に詳細に説明ずろ。

第１図は本発明の磁気コアを組み込んだ浮上型複合磁気
ヘットの全体構成を示す斜視図である。

＝　８− １］は非磁性スライダー、１２．１３はスライダー１１
に設けられたサイトレール、１４はサイトレール１３に
設けられたスリット部、１５はスリット部１４に埋設さ
れた磁気コア、１６はその磁気コア１５を固着するガラ
スである。なおスライダーＸ１としては熱膨張係数が１
０５〜１１５　Ｘ　１０−７／　ｔ、空孔率が０．５％
以下のＣａＴｉ口。からなる非磁性セラミックを用いる
のが好ましい。

第２図は本発明の磁気コア１５の拡大斜視図である。２
］、２２はそれぞれ１４　ｎ　−Ｉ　ｎフェライトから
なるＣ型および■型コア片と称される磁性体であり、２
３及び２３′は■型コア片上に被着されたＦｅ−／Ｊ−
３ｉ薄膜である。２４はＣ型コア片２１とＩ型コア片２
２との間に形成された巻線用の窓であり、その上部にＣ
型コア２１と１型コア片２２を接合するガラス部２５が
設けられている。

磁気コア１５のトラック面にはトランク幅Ｔｗを規制す
る切り欠き２６が形成されている。切り欠き２６は磁気
コア１５の長手方向に延在する。これにより磁気ギャッ
プ２７のトランク幅’ｈは任意に設定することができる
。なお磁気キャンプ２７はスパッタリング等により被着
された５ＩＯ２等のギャップ規制膜により形成されてい
る。

第３図は第２図に示す磁気コアの縦断面図であり、コア
片２１．２２と磁性薄膜２３及び２３′　と接合ガラス
部２５との関係を示す。この磁気コアの形状は一般的に
次の通りである。

トラック幅Ｔｖノ　　　　　　　　１３〜２０Ａ１ｍ磁
気ギャップ長さ６β　　０．５〜０８　μｍ磁気ギャン
プ深さＧｄ　　　　　２〜１５μｍコア幅　　　　　　
　　１５０〜１７０μｍ磁気キャンプ２７における金属
磁性薄膜２３は通常２〜４μｍ程度の厚さを有し、磁気
キャンプ２７の内端（エイペックス）３０よりＡだけ内
側に延長しているとともに、接合ガラス部２５よりＢだ
け内側（エイペックス側）に引っ込んでいる。本発明に
おいて、Δは１０μｍ以上であることが必要であり、Ｂ
は１５μｍ以上であることが必要である。これについて
以下詳述する。

第４図は磁気ギャップ２７における薄膜２３の長さが不
十分な場合を示す。ここでは薄膜２３はＣ型コア片２１
のエイペックス（ＡＰＥＸ）　３０よりＡだけ延長して
いるが、八が１０μｍより短かいので、薄膜端部のダレ
２９は磁気ギャップ２７内まで延びている。

このため磁気ギャップ２７のギャフプ長さ６１は外端と
内端で異なってくる。詳述すると、５１０２薄膜３１に
より規定されたギャップ長さＧβは、磁気ギャップ２７
の外端部では本来の長さＧβを有するが、内端部に近づ
くにつれてＧＩ！、’に示されるように拡大する。この
ため磁気ヘッドとしての正常な動作ができなくなる。こ
の原因は明らかに金属磁性薄膜２３の端部にダレ２９が
あるためである。ダレ２９の長さＸはマスクを用いたス
パッタリング法による場合、通常１０μｍ程度であるの
で、エイペックス３０より延びるべき薄膜２３の長さＡ
は１０μｍ以上である必要がある。

また磁気ギャップ２７から延びる磁性薄膜２３は接合ガ
ラスＢ２５に完全に覆われている必要がある。

というのは、コア片の接合時や磁気コアのスライダー中
への固着時に受ける加熱により、磁性薄膜２３に剥離が
生じたりコア片にクランクが生じたりする傾向があるが
、それは接合ガラス部２５により抑制することができる
からである。磁性薄膜２３の先端部と接合コア部の内端
部との距離Ｂは一般に１５μｍ以上である必要がある。

これより短かいと接合ガラス部２５による剥離防止効果
が不十分となる。なお接合ガラス部の内端部とエイペッ
クス３０との間隔は、例えば１．４Ｘ　１．６Ｘ０．１
６ｍｍのサイズの磁気コアの場合０２〜０．３ｍｍ程度
である。

次にハックギャップ２８における磁性薄膜２３′　はそ
の先端部がＣだけ延びているが、Ｃは一般に−５０〜１
００μｍである必要がある。Ｃが一５０μｍの場合、す
なわち若干磁性薄膜２３′のダレによる空隙がハックギ
ャップ２８に存在する場合、回路効率は低下するが、バ
ンクギャップ部２８の長さく図中高さ方向の長さ）は通
常４００μｍ程度と磁気ギャップ深さＧｄより著しく大
きいので、若干の空隙は実質的に問題とならない。一方
磁性薄膜２３′が１００μｍより長く延長すると磁性薄
膜２３′の剥離の問題が生じてくる。より好ましくはＣ
は０〜７０μｍとする。

この磁気コアは以下のプロセスにより製造することがで
きる。まず■型コア片及びＣ型コア片を構成すべきフェ
ライト材料のブロックを準備する。

このフェライト材料としては高Ｂｓでかつ高周波での透
磁率が極力大きいＭｎ−Ｚｎ　フェライトが望ましい。

またガラス接合時にガラス中に生じる気泡（ｖｏｉｄ）
を減らすために、フェライト材料は熱間静水圧プレス（
Ｈｏｔ　ｌ５ｏｓｔａｔｉｃ　Ｐｒｅｓｓ）法により高
密度化されたものを用いるのが好ましい。特にＢ１゜−
４７００−５４０００、Ｈｃ　＝０．１〜０．２０ｅ、
５　ＭＨｚ　に於る透磁率８００〜１３００、空孔率０
．５％以下、熱膨張係数１０５−１３０　ｘｌＯ−７／
　ｔ：のＭｎ−Ｚｎ　多結晶フェライトを用いるのが好
ましいが、多結晶フェライトの代りに単結晶材を用いて
も良い。

いずれかのコアブロックに金属磁性薄膜を形成するが、
Ｉ型コアブロックに設ける方が容易であり好ましい。金
属磁性薄膜としてはＦｅ−Ａｆｆ−５＋金合金スパッタ
リングで被着したものが好ましい。

スパッタの条件としては安定な放電を維持するため５〜
１２ｍＴｏｒｒ　のＡｒガス圧が望ましい。また電力は
合金ターゲットの温度上昇による割れを防ぐとともに、
８００八／分程度の膜生成速度を得るために、６００〜
１２００Ｗ（直径１５０ｍｍのターゲットの例）が望ま
しい。Ｆｅ−／Ｊ−３ｉ膜の組成としては高透磁率を得
るため、重量基準で８３〜８６％のＦｅ、　５〜８％の
成、８〜１１％のＳｉが好ましい。特に磁歪定数を小さ
くする目的で、重量基準で８３．５〜８５％のｌｅｅ、
　５〜７％のＭ、９〜１０５％の８１のものが望ましい
。

Ｆｅ−／Ｊ−３ｉ　膜には耐食性を向上させる目的で微
量の添加物を加えてもよい。この場合、２重量％以下の
Ｔｉ、Ｒｕ、　Ｃｒ等を単独あるいは複合添加するのが
望ましい。

Ｆｅ−ＡＡ−５ｉ薄膜の部分形成はマスクスパッタを用
いることにより行なう。マスクスパッタは一般に第９図
乃至第１１図に示すように、ホルダーと薄膜を形成すべ
き部分が開口したマスクとの組合せを用いて行う。フェ
ライトコアには、マスクの開口部を通して所望の部分に
スパンクリンクにより薄膜が形成される。

次に第５図に示すように、Ｆｅ−／Ｖ−３ｉ膜５３．５
３′を部分被着した■型コアブロック５２にＣ型コアブ
ロック５１を接触させ、巻線窓５４中に置いたガラス棒
５５を加熱流入させることにより接合する。この場合、
好ましい接合ガラスは軟化点５４０〜６３０℃、熱膨張
係数９４〜１０３Ｘ１０−７／ｌのものである。このよ
うな物性を示す接合用ガラス（第一のガラス）としては
ＰｂＤ−３ｉＯ２を主成分とし、他に種々の元素を加え
た多くの組合せが考えられるけれども、本発明者による
実験の結果ではＰｂＯ−３ｉＯ□にアルカリ金属酸化物
（Ｋ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２’（１等）を加えた系、又
はＰ１］０−３１０２−８２０３　Ａ１２２０３　にア
ルカリ金属酸化物を加えた系が適している。このような
系での好ましい組成範囲は重量基準で、２８〜４９％の
５ｉｎ２．４４〜５９％のＰｂＯ１７〜１３％のアルカ
リ金属酸化物からなる組成、又は２８〜４９％の８１０
２．５〜１０％の８２０３．７〜１３％のアルカリ金属
酸化物、残部ＰｂＯからなる組成である。また後者の系
には５〜１２％のＡｌ２２０３を添加してもよい。この
第一のガラスの特に好ましい一例として重量基準で３５
ＰｂＯ−４５３＋０２８Ｂ２０゜−７”　２０３−５　
Ｋ　２　口の組成のもの（軟化点５８０℃、熱膨張係数
９５　ｘｌＯ−’　／　ｔ：　）が挙げられる。このガ
ラスを使用し接合を行った磁気コアの接合強度は５ｋｇ
／ｒｒ１ｍ２　であり申し分なく、またＦｅ−ＡＡ−３
ｉ膜の浸食もδ忍められない。

なお５１０２は高湿度下でのガラスの腐食を防止する作
用を有する。しかし逆に５ｉｎ２が多すぎるとＦｅ−／
留〜３１膜あるいはＭ　ｎ　−Ｉ　ｎ　フェライトとの
濡れ性が悪くなり、接合強度が保てない。Ｍ２Ｏ３は高
温度下でのガラスの変色を防止するが、逆に多すぎると
軟化点が高くなり接合できなくなる。アルカリ金属酸化
物類はさらにガラスの流動性を調節する効果を担ってい
る。

このようなガラスを用い７００〜７６０℃で接合を行う
。この接合ブロックを切断し、トラック幅Ｔｗ規制用の
切り欠きを設けろことにより磁気コアを得ることができ
る。

この磁気コアのスライダーのスリント部への固着は次の
ようにして行う。第６図は接合した磁気コア６３をスラ
イダー６１のスリット部６２内に設置するとともに、ガ
ラス棒６８をスライダー６１の上面に乗せた状態を示す
斜視図である。磁気コア６３の切り欠き６５はスライダ
ーの片端部６４に向けられているので、磁気コア６３が
片端部６４に押しつけられていても、スリット部の内面
との間に間隙６７．６９が確保される。磁気コア６３の
固定はバネ材６６による仮固定で容易に達成される。ガ
ラス棒６８は第二のガラスとして磁気コア６３をスリッ
ト部６２に固着するものであり、かかる第二のガラスと
しては熱膨張係数８７〜９６Ｘ１０−７／ｌ、軟化点３
７０〜４８０℃程度のものが好ましい。このような性質
を示す組成としては、重量基準で７０〜８３％のＰｂ口
、３〜１０％のＭ２Ｏ３，６〜１３％の８１０２．４〜
１０％の８２０３のものがあり、特に好ましい一例とし
て７８ＰｂＯ−８Ａ１．２０３−１０３１０２−４８２
０３　（重量％）がある。このガラスの熱膨張係数は９
１Ｘ１０−７／ｌ：であり軟化点は４４０℃である。こ
のガラスを用いて例えば５３０℃で固着すれば、クラッ
クのおそれなく接合を行うことができる。

以上のような第二のガラスによる磁気コアのスリット部
への固着には、一般に第二のガラスを５００〜５８０℃
に加熱して磁気コアの両側の隙間に流入させる。その後
磁気ヘンドの空気ベアリング面を研削後研摩加工し、磁
気ヘットを完成する。

本発明をさらに以下の具体的な実施例により詳細に説明
する。

実　　施　　例　　１ 第２図に示す構造の磁気コアを形成するためにＭｎ−Ｚ
ｎ　多結晶フェライトからなるＣ型コアブロック及び■
型コアブロックを作成した。Ｍｎ−２ｎ　多結晶フェラ
イトは熱間静水圧プレス法により高密度化されたので、
空孔率がＯ，１％であり、磁気特性としてはＢ、ｏ＝５
１００６、Ｈｃ＝Ｏ，］、５０ｅ、５Ｍｔｌｚ　におけ
る透磁率−９５０であり、また熱膨張係数は１１５×１
０″′７／℃であった。

各Ｃ型コアブロック及び■型コアフロックは外周スライ
サーにより成形し、平面研削盤で研削後ランプ機により
研磨したものである。研磨後クロロセン煮沸を行い、ク
ロロセン中、アセトン中及びアルコール中でそれぞれ超
音波洗浄を行った後、フレオン煮沸を行い、最後にフレ
オン蒸気で洗浄した。

次に■型コアブロンク上の磁気ギャップ及びハックギャ
ップに相当する位置にマクネトロンスパック装置により
Ｆｅ−／Ｊ−３ｔ薄膜を種々の幅で形成した。マグネト
ロンスパック装置の投入電力は０８Ｋｗ、アルコン圧は
３ｍＴｏｒｒ　、基板温度は２００℃であった。またＦ
ｅ−Ａ３−３ｉ薄膜は重量基準で８５％のＦｅ。

６％の成及び９％のＳｉからなる組成を有し、厚さは２
９μｍであった。この膜の特性はＢｓ＝１１，０００Ｇ
　、、Ｈｃ＝０．３〜０．５０ｅ、　５Ｍｔｌｚにおけ
る透磁率＝１゜０００〜２，０００　、磁歪定数−＋１
×１０″′６てあった。

次にＦｅ−Ａｊ２−３＋薄膜を形成した■型コアブロッ
ク上にＲＦスパック装置を用いて、Ｑ、３ｋｌＪ＋の投
入電力、５ｍＴｏｒｒ　のアルゴン圧、１５０℃の基板
温度で０．５μｍの膜厚のＳｉ口、ギャップ規制膜を形
成した。

さらにＣ型コアブロックと■型コアブロックを接合した
第一のガラスの組成は以下の通りであった。

ＰｂＯ５４重量％ ５ｉ口、　　　３５９重量％ に２０　　　　　１０．１重量％ この第一のガラスの軟化点は５９７℃、熱膨張係数は９
６Ｘ１０−７／ｌであった。第一のガラスによるコアブ
ロックの接合は電気炉によりＮ２ガス中で３００　℃／
時間の昇温速度で加熱し、７６０℃に３０分間保持する
ことにより行った。

このようにして接合したコアブロックを平面研削盤及び
ランプ機を用いて研削、研磨し、また外周スライ勺−に
より厚さ２５０μｍに切断した後ラップ機によりコアの
両面を研磨し１５２μｍのコアを作製した。

次に各磁気コアのトラック幅Ｔジノを規定するために、
高剛性クイサーにより幅１３８５μｍ、深さ２００μｍ
の切り火きを形成した。

このようにして得られた磁気コアの構造は以下の通りで
ある。

磁気コアの幅　　０９１１５２μｍ トラック幅　　　Ｔｖｔ　　　　１３．５μｍキヤ、ブ
長さ　　Ｇ　Ｒ０，５５μｍ ギャンプ深さ　　Ｇｃｌ　　　　　５０μｍ接合ガラス
の厚さＧＷ　　　約２００μｍこのようにして得られた
磁気コアについて、磁性薄膜のへ寸法と磁気ギャップ長
さＧβの寸法精度との関係、３寸法と磁性膜の剥離及び
コア片のクラックとの関係、及びＣ寸法と磁性膜の剥離
及びコア片のクラックとの関係を調べた。結果を第１表
及至第３表にそれぞれ示す。

第　　　　１　　　　表 （注）（１）Ａ寸法の−は磁性膜がエイペックスより引
っ込んでいる場合を示し、＋はそれより延びている場合
を示す。

（２）Ｘ：膜端部のテーパーによりＧρが規定寸法を外
れたもの。

○・膜端部のテーパーにかからず、Ｇρが完全に規定寸
法内のもの。

第　　　　２　　　表 （注）（１，）８寸法の＋は磁性膜が接合ガラス部より
内側に引っ込んでいる場合を示し、−はそれより延びて
いる場合を示す。

第　　　　３　　　　表 （注）（１）Ｃ寸法の＋は磁性膜がハックギャップより
延びている場合を示す。

△、磁性膜の剥離が発生する（一部分）。

×　磁性膜の剥離が発生ずる（膜付部 分全体）。

以上の結果からへ寸法は１０μｍ以上、８寸法は１５μ
ｍ以上、Ｃ寸法は１００μｍ以下がよいことがわかる。

実　　施　　例　　２ 熱膨張係数が１０８　Ｘｌ０−７℃、空孔率が０１５％
のＣａＴ＋ｏ３セラミンクからなるスライダーの一方の
サイトレールの端部に、長さ１．５ｍｍ、幅２２０　ｔ
−ｔ　ｍのスリット部を形成し、その中に実施例１で得
られた磁気コアを板ばねにより固定して、下記組成の第
二のガラスにより固着した。

ＰｂＯ７９，０重里％ Ｓｉ口。　　　９．０重量％ Ｍ２Ｏ３６，０重量％ Ｂ２［１３６，０重量％ 第二のガラスの熱膨張係数は９１　Ｘ　１０−７／　ｔ
、軟化点は４４７℃、転移点は３７９℃、屈伏点は４０
６℃であった。これを電気炉てＮ２中３００℃／時間の
昇温速度で加熱し、５４０℃の温度に３０分間保持する
ことによりスリット部と磁気コアとの間隙に流入させた
。このようにして得た磁気ヘットの空気べアリング面を
鏡面研削盤及びランプ機により研削、研磨し、浮上型複
合磁気ヘッドとした。これにより切り欠き深さは７５μ
ｍとなった。なおスリット部の内面と磁気コアの両側部
との間隙はそれぞれ６８μｍ、　　１３８．５μｍであ
った。

この磁気ヘッドを用い、Ｃ○−Ｎ１　　スパッタ記録媒
体（Ｈｃ　＝　１１５００ｅ　）を有する５、２５イン
チの磁気ディスクに対して浮上量０．３μｍ、周速１２
．１ｍ／秒で５　ＭＨｚ　における再生出力特性（書き
込み電流と再生出力との関係）を測定した。なお磁気ヘ
ッドの巻線は４８ターンであった。結果を第７図及び第
８図に示す。

以上の比較から、へ寸法が１０μｍ以上の場合及びＣ寸
法が０〜１００μｍの場合、磁気ヘッドは優れた再生出
力特性を有することがわかる。

〔発明の効果〕

以上に詳述した通り、本発明の磁気コアは金属磁性薄膜
を所定の範囲で形成しているので、良好な特性を有する
のみならず、磁性膜剥離やコア片のクラックの問題がな
い。

【図面の簡単な説明】

第１図は浮上型複合磁気ヘッドを示す斜視図であり、 第２図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドに組み込まれる
本発明の磁気コアの一例を示す斜視図であり、 第３図は本発明の磁気コアの縦断面図であり、第４図は
第３図の磁気コアの磁気ギャップ周辺の部分拡大図であ
り、 第５図は両コアブロックを組み合わせた後接合用ガラス
棒を巻線用窓内に挿入した状態を示す斜視図であり、 第６図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドを製造するため
に磁気コアをスライダーに固着する工程を示す図であり
、 第７図及び第８図はそれぞれ書き込み電流と再生出力と
の関係を示すグラフであり、 第９図はコアブロックに部分的に金属磁性薄膜を形成す
るマスク装置を示す斜視図であり、第１０図はコアブロ
ック上にマスクを配置した状態を示す図であり、 第１１図はマスクを有するコアブロック上に形成された
金属磁性薄膜を示す断面図である。 １１・・・・スライダー １２．１３・・・サイトレール １４・　・　・　・　・スリ　ン　ト部１５・・・・・
磁気コア １６・・・・・固着ガラス ２１・・・・・Ｃ型コア片 ２２・・　・　・・■型コア片 ２３．２３　’　　・・Ｆｅ−Ａｇ−３ｉ薄膜２４・・
・・・巻線用窓 ２５・・・・・接合ガラス部 ２６・・・・・切り欠き ２７・・・・・磁気ギャップ ２８・・・・・パンクギャップ ２９・・・・・磁性膜のダレ ３０・・・・・エイペックス ３１・・・・・５ｉｎ２膜 ５１・・・・・Ｃ型コア ＝２９− ５２・・・・・Ｉ型コア ５３．５３　’　　・・Ｆｅ−／Ｖ−３ｉ薄膜５４・・
・・・巻線窓 ５５・・・・・ガラス棒 ６１・・・・・スライダー ６２・　・　・　・　・スリブ　ト部 ６３・・・・・磁気コア ６４・・・・・スライダー片端部 ６５・・・　・・切り欠き ６６・・・・・ハネ材 ６７．６９・・・間隙 ６８・・・・・ガラス棒 ９１・・・・・マスク ９２・・・・・コアブロック ９３・・・・・ホルダー ９４・・・・・磁性膜 Ｔｗ・・・・・トラック幅 Ｇｊ！　　、ＧＡ’　　・・ギャップ長さＧｄ・　・　
・　・　・ギャンプ深さ Ｘ・・・・・磁性膜のダレの長さ 第３図 第７図 相ヌ・１目盛 書き込み１危　（ｍＡｐ−ｐ） 第６図 山き込み電流　（ｍＡｐ−ｐ）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）浮上型複合磁気ヘッド用磁気コアにおいて、一対
   のコア片と、前記コア片を接合するガラス部と、前記コ
   ア片の少なくとも一方の対向面に形成された金属磁性薄
   膜とを有し、前記コア片により形成された磁気ギャップ
   における前記金属磁性薄膜が磁気ギャップのエイペック
   スより１０μｍ以上延長しているとともに、前記接合ガ
   ラス部の内端より１５μｍ以上短かく、かつ前記コア片
   のバックギャップにおける前記金属磁性薄膜の端部が前
   記バックギャップの内端より−５０〜１００μｍの範囲
   にあることを特徴とする磁気コア。
2. （２）請求項１に記載の磁気コアにおいて、前記コア片
   がＩ型コア片とＣ型コア片とからなり、かつ前記金属磁
   性薄膜がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金からなることを特徴とす
   る磁気コア。