JPH08255308A - 複合磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
複合磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH08255308A JPH08255308A JP7328638A JP32863895A JPH08255308A JP H08255308 A JPH08255308 A JP H08255308A JP 7328638 A JP7328638 A JP 7328638A JP 32863895 A JP32863895 A JP 32863895A JP H08255308 A JPH08255308 A JP H08255308A
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/133—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores composed of particles, e.g. with dust cores, with ferrite cores with cores composed of isolated magnetic particles
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- G11B5/255—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for protection against wear
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 磁気ヘッドのコア部材として用いるＭｎ‐Ｚ
ｎ単結晶亜鉄酸塩に非磁性酸化物を添加し結晶亜鉄酸塩
を製造し、核多結晶亜鉄酸塩を磁気ヘッドのコア部材に
して製造した磁気ヘッドの摂動面にＤＬＣ膜を所定の厚
さにコーティング処理した複合磁気ヘッドの製造方法。 【解決手段】 配合容器内の亜鉄酸塩の出発物質に非金
属酸化物を添加し、適正比率で原料を配合する工程と、
配合原料を湿式ミル方法で細粉砕後、乾燥し、焼結材を
鍛造する工程と、焼結材を熱間静水圧焼結法で多結晶亜
鉄酸塩を形成する工程と、多結晶亜鉄酸塩の表面を機械
的に加工し鏡面にした後、亜鉄酸塩の表面にトラック
溝、巻線溝、及び補強溝の形成工程と、溝の全面に金属
磁性膜を蒸着し、一対の磁気コアの界面に接合ガラス物
を介し接合して磁気ヘッドコアを形成する工程と、磁気
へッドコアのテープの摂動面にプラズマＣＶＤ法でＤＬ
Ｃ膜をコーティングする工程を包含する。
ｎ単結晶亜鉄酸塩に非磁性酸化物を添加し結晶亜鉄酸塩
を製造し、核多結晶亜鉄酸塩を磁気ヘッドのコア部材に
して製造した磁気ヘッドの摂動面にＤＬＣ膜を所定の厚
さにコーティング処理した複合磁気ヘッドの製造方法。 【解決手段】 配合容器内の亜鉄酸塩の出発物質に非金
属酸化物を添加し、適正比率で原料を配合する工程と、
配合原料を湿式ミル方法で細粉砕後、乾燥し、焼結材を
鍛造する工程と、焼結材を熱間静水圧焼結法で多結晶亜
鉄酸塩を形成する工程と、多結晶亜鉄酸塩の表面を機械
的に加工し鏡面にした後、亜鉄酸塩の表面にトラック
溝、巻線溝、及び補強溝の形成工程と、溝の全面に金属
磁性膜を蒸着し、一対の磁気コアの界面に接合ガラス物
を介し接合して磁気ヘッドコアを形成する工程と、磁気
へッドコアのテープの摂動面にプラズマＣＶＤ法でＤＬ
Ｃ膜をコーティングする工程を包含する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複合磁気ヘッドの
製造方法に関する。本発明は、一対の磁気コアの製造時
に単結晶亜鉄酸塩（ｆｅｒｒｉｔｅ）系にＳｉＯ２、Ｚ
ｒＯ２あるいはＶ２０５等の酸化物を添加して、多結晶
亜鉄酸塩を製造することによって、高周波特性を向上さ
せ、且つ磁気へッドの摂動面にＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ
ＬｉｋｅＣａｒｂｏｎ)膜をコーティング処理するこ
とによって、磁気へッドの出力低下を補償して、保磁力
を向上させることができる複合磁気ヘッドの製造方法に
関する。
製造方法に関する。本発明は、一対の磁気コアの製造時
に単結晶亜鉄酸塩（ｆｅｒｒｉｔｅ）系にＳｉＯ２、Ｚ
ｒＯ２あるいはＶ２０５等の酸化物を添加して、多結晶
亜鉄酸塩を製造することによって、高周波特性を向上さ
せ、且つ磁気へッドの摂動面にＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ
ＬｉｋｅＣａｒｂｏｎ)膜をコーティング処理するこ
とによって、磁気へッドの出力低下を補償して、保磁力
を向上させることができる複合磁気ヘッドの製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、ビデオテープレコーダの記録媒体
として用いられる磁気テープの記録密度の増加に伴い、
高い残留磁束密度（Ｂｒ）及び高い保磁力（Ｈｃ）をも
つ磁気テープ、例えば金属粉末が結合剤によって非磁性
材に被覆されて磁気記録層を形成する酸化鉄系磁気テー
プがたくさん使用されている。
として用いられる磁気テープの記録密度の増加に伴い、
高い残留磁束密度（Ｂｒ）及び高い保磁力（Ｈｃ）をも
つ磁気テープ、例えば金属粉末が結合剤によって非磁性
材に被覆されて磁気記録層を形成する酸化鉄系磁気テー
プがたくさん使用されている。
【０００３】磁気ヘッドが酸化鉄系テープやディジタル
オーディオテープ等に使用される場合、ヘッドの磁気ギ
ャップの磁界強度は、テープの高保磁力のため、増加し
なければならない。このため、テープに記録された信号
を消去するための磁気消去ヘッドは一層高い飽和磁束密
度を有するべきである。磁気ヘッドは保磁力（Ｈｃ）の
大きい記録媒体を磁化するために、磁気ヘッドの飽和磁
束密度が記録媒体（テープ、ディスク）の保磁力（Ｈ
ｃ）より６〜８倍程度大きくなければ、記録及び再生は
不可能である。
オーディオテープ等に使用される場合、ヘッドの磁気ギ
ャップの磁界強度は、テープの高保磁力のため、増加し
なければならない。このため、テープに記録された信号
を消去するための磁気消去ヘッドは一層高い飽和磁束密
度を有するべきである。磁気ヘッドは保磁力（Ｈｃ）の
大きい記録媒体を磁化するために、磁気ヘッドの飽和磁
束密度が記録媒体（テープ、ディスク）の保磁力（Ｈ
ｃ）より６〜８倍程度大きくなければ、記録及び再生は
不可能である。
【０００４】現在使用されている酸化鉄系テープは、保
磁力（Ｈｃ）が６００〜８００エルステッド（Ｏｅ）程
度であり、残留磁気（Ｂｒ）が５０００ガウス（Ｇａｕ
ｓｓ）であるＭｎ‐Ｚｎ亜鉄酸塩コアを使用している。
しかし、８ｍｍ ＶＣＲ（Ｖｉｄｅｏ Ｃａｓｓｅｔｔ
ｅ Ｒｅｃｏｒｄｅｒ）やＤＡＴ（ＤｉｇｉｔａｌＡｕ
ｄｉｏ Ｔａｐｅ Ｒｅｃｏｒｄｅｒ）等に使用される
テープは、保磁力（Ｈｃ）が１５００エルステッド（Ｏ
ｅ）程度であるため、前記亜鉄酸塩コアで製造された磁
気ヘッドでは記録もしくは再生が難しい。このため、亜
鉄酸塩コアと磁気ギャップとの間に、金属磁性膜を蒸着
することにより、ヘッドギャップの問題を解決すること
ができる。この際、前記金属磁性膜は、スパッタリング
のような物理的蒸着法でセンダスト（ｓｅｎｄｕｓｔ）
（Ｆｅ-Ａ１-Ｓｉ）のような高透磁率合金を沈積させた
軟磁性合金膜を用いることができる。なお、ヘッドギャ
ップダメージ（ｈｅａｄ ｇａｐ ｄａｍａｇｅ）を減少
するために、亜鉄酸塩コアと金属磁性膜との界面にＣ
ｒ、ＳｉＯ２、及びＦｅ‐Ｎｅ等の物質で障壁層を形成
した後、金属磁性膜を沈積させた磁性膜を用いてもよ
い。このような方法で製造した磁気へッドは、ＭＩＧ
（Ｍｅｔａ１‐Ｉｎ‐Ｇａｐ）型磁気ヘッドと呼ばれ
る。
磁力（Ｈｃ）が６００〜８００エルステッド（Ｏｅ）程
度であり、残留磁気（Ｂｒ）が５０００ガウス（Ｇａｕ
ｓｓ）であるＭｎ‐Ｚｎ亜鉄酸塩コアを使用している。
しかし、８ｍｍ ＶＣＲ（Ｖｉｄｅｏ Ｃａｓｓｅｔｔ
ｅ Ｒｅｃｏｒｄｅｒ）やＤＡＴ（ＤｉｇｉｔａｌＡｕ
ｄｉｏ Ｔａｐｅ Ｒｅｃｏｒｄｅｒ）等に使用される
テープは、保磁力（Ｈｃ）が１５００エルステッド（Ｏ
ｅ）程度であるため、前記亜鉄酸塩コアで製造された磁
気ヘッドでは記録もしくは再生が難しい。このため、亜
鉄酸塩コアと磁気ギャップとの間に、金属磁性膜を蒸着
することにより、ヘッドギャップの問題を解決すること
ができる。この際、前記金属磁性膜は、スパッタリング
のような物理的蒸着法でセンダスト（ｓｅｎｄｕｓｔ）
（Ｆｅ-Ａ１-Ｓｉ）のような高透磁率合金を沈積させた
軟磁性合金膜を用いることができる。なお、ヘッドギャ
ップダメージ（ｈｅａｄ ｇａｐ ｄａｍａｇｅ）を減少
するために、亜鉄酸塩コアと金属磁性膜との界面にＣ
ｒ、ＳｉＯ２、及びＦｅ‐Ｎｅ等の物質で障壁層を形成
した後、金属磁性膜を沈積させた磁性膜を用いてもよ
い。このような方法で製造した磁気へッドは、ＭＩＧ
（Ｍｅｔａ１‐Ｉｎ‐Ｇａｐ）型磁気ヘッドと呼ばれ
る。
【０００５】前記ＭＩＧ磁気へッドには、図１に示すよ
うに、一対の単結晶亜鉄酸塩コア１、１’のラッピング
（ｌａｐｐｉｎｇ）面に、それぞれトラック溝、巻線
溝、及び補強溝が加工形成されている。前記構造の亜鉄
酸塩コア１、１’の全面にスパッタリング法で金属磁性
膜２が蒸着される。前記金属磁性膜２上に、ヘッドギャ
ップ３からなるＳｉ０２のギャップ膜がスピンコーティ
ング（Ｓｐｉｎ Ｃｏａｔｉｎｇ）される。それから、
融着ジグ（ｊｉｇ）内に前記構造の亜鉄酸塩コア１、
１’を位置させた後、その接合面にＰｂＯ２系の接合用
ガラス物４がスピンコーティングされる。最後、炉（ｆ
ｕｒｎａｃｅ）で高温融着させた磁気ヘッド部材を一定
大きさの薄片に切り分けることによりヘッドチップが得
られる。
うに、一対の単結晶亜鉄酸塩コア１、１’のラッピング
（ｌａｐｐｉｎｇ）面に、それぞれトラック溝、巻線
溝、及び補強溝が加工形成されている。前記構造の亜鉄
酸塩コア１、１’の全面にスパッタリング法で金属磁性
膜２が蒸着される。前記金属磁性膜２上に、ヘッドギャ
ップ３からなるＳｉ０２のギャップ膜がスピンコーティ
ング（Ｓｐｉｎ Ｃｏａｔｉｎｇ）される。それから、
融着ジグ（ｊｉｇ）内に前記構造の亜鉄酸塩コア１、
１’を位置させた後、その接合面にＰｂＯ２系の接合用
ガラス物４がスピンコーティングされる。最後、炉（ｆ
ｕｒｎａｃｅ）で高温融着させた磁気ヘッド部材を一定
大きさの薄片に切り分けることによりヘッドチップが得
られる。
【０００６】しかし、前記磁気ヘッドは、磁気記録媒体
と接触する摂動面５でテープ走行時に磨耗が発生し、こ
の磨耗された粉末が磁気ヘッドと酸化鉄系テープとの間
に止まるので、前記酸化鉄系テープ及び磁気ヘッドの周
辺構成部品に致命的な損傷を被る問題がある。
と接触する摂動面５でテープ走行時に磨耗が発生し、こ
の磨耗された粉末が磁気ヘッドと酸化鉄系テープとの間
に止まるので、前記酸化鉄系テープ及び磁気ヘッドの周
辺構成部品に致命的な損傷を被る問題がある。
【０００７】かかる問題を改善するため、特開平４−４
９５０８号公報には、図２に示すように、磁気ヘッド１
の摂動面に硬質を有するダイアモンド状カボン（Ｄｉａ
ｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ、以下“ＤＬＣ”と
いう）膜６をコーティング処理し、磁気記録媒体の走行
方向に対してＲ２＜Ｒ１の曲率を有するようにＲ１の曲
率を有する摂動部と、Ｒ２の曲率を有する肩部を備えた
磁気ヘッドにおいて、前記曲率がＲ２＜Ｒ１となるよう
に前記摂動部の表面をＤＬＣ膜で被覆処理する技術内容
が記載されている。
９５０８号公報には、図２に示すように、磁気ヘッド１
の摂動面に硬質を有するダイアモンド状カボン（Ｄｉａ
ｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ、以下“ＤＬＣ”と
いう）膜６をコーティング処理し、磁気記録媒体の走行
方向に対してＲ２＜Ｒ１の曲率を有するようにＲ１の曲
率を有する摂動部と、Ｒ２の曲率を有する肩部を備えた
磁気ヘッドにおいて、前記曲率がＲ２＜Ｒ１となるよう
に前記摂動部の表面をＤＬＣ膜で被覆処理する技術内容
が記載されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記ＤＬＣ膜
を摂動面にコーティングする技術は、ＤＬＣ膜のコーテ
ィング厚さによって磁気ヘッドと走行する磁気記録媒体
（テープ）との間で遮断層が形成されるので、磁気ヘッ
ドの摂動面の磨耗は減少するが、これに伴って磁気ヘッ
ドの出力低下が必ず発生する。
を摂動面にコーティングする技術は、ＤＬＣ膜のコーテ
ィング厚さによって磁気ヘッドと走行する磁気記録媒体
（テープ）との間で遮断層が形成されるので、磁気ヘッ
ドの摂動面の磨耗は減少するが、これに伴って磁気ヘッ
ドの出力低下が必ず発生する。
【０００９】 Spacing loss ＝28.2 ×（DLCフィルムの厚さ／記録波長）dB・・・式(1) 上記式（１）に示すように、記録周波数が５ＭＨｚの場
合、ＤＬＣフィルムの厚さが１０００Åであれば、Ｓｐ
ａｃｉｎｇ １ｏｓｓは約４．７ｄＢ程度となる。従っ
て、通常の磁気ヘッドの使用による出力変動の許容範囲
は２ｄＢ程度であって、式（１）によるＳｐａｃｉｎｇ
１ｏｓｓ４．７ｄＢ程度は画質の低下を招く。
合、ＤＬＣフィルムの厚さが１０００Åであれば、Ｓｐ
ａｃｉｎｇ １ｏｓｓは約４．７ｄＢ程度となる。従っ
て、通常の磁気ヘッドの使用による出力変動の許容範囲
は２ｄＢ程度であって、式（１）によるＳｐａｃｉｎｇ
１ｏｓｓ４．７ｄＢ程度は画質の低下を招く。
【００１０】このようなＳｐａｃｉｎｇ ｌｏｓｓの克
服は、ＤＬＣ薄膜の厚さを薄くずれは可能であるが、前
記ＤＬＣ薄膜が少なくとも１０００Å（０．１マイクロ
メーター）とならなければ耐磨耗性を保持し得ないの
で、それ以上に薄く被覆するのは意味がない。
服は、ＤＬＣ薄膜の厚さを薄くずれは可能であるが、前
記ＤＬＣ薄膜が少なくとも１０００Å（０．１マイクロ
メーター）とならなければ耐磨耗性を保持し得ないの
で、それ以上に薄く被覆するのは意味がない。
【００１１】本発明は、かかる問題点を解決するための
ものである。その目的は、磁気ヘッドのコア部材として
用いられるＭｎ‐Ｚｎ単結晶亜鉄酸塩に非磁性酸化物を
添加して結晶亜鉄酸塩を製造し、この多結晶亜鉄酸塩を
磁気ヘッドのコア部材にして製造した磁気ヘッドの摂動
面にＤＬＣ膜を所定の厚さにコーティング処理した複合
磁気ヘッドの製造方法を提供することにある。
ものである。その目的は、磁気ヘッドのコア部材として
用いられるＭｎ‐Ｚｎ単結晶亜鉄酸塩に非磁性酸化物を
添加して結晶亜鉄酸塩を製造し、この多結晶亜鉄酸塩を
磁気ヘッドのコア部材にして製造した磁気ヘッドの摂動
面にＤＬＣ膜を所定の厚さにコーティング処理した複合
磁気ヘッドの製造方法を提供することにある。
【００１２】本発明の他の目的は、多結晶亜鉄酸塩及び
ＤＬＣコーティング膜を使用して複合磁気ヘッドを形成
することによって、既存の厚いＤＬＣ膜による磁気ヘッ
ドの出力低下を防止するとともに磁気ヘッドの摂動面の
磨耗を最小化した複合磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことにある。
ＤＬＣコーティング膜を使用して複合磁気ヘッドを形成
することによって、既存の厚いＤＬＣ膜による磁気ヘッ
ドの出力低下を防止するとともに磁気ヘッドの摂動面の
磨耗を最小化した複合磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことにある。
【００１３】本発明のもう１つの目的は、ＤＬＣ膜を含
む複合磁気ヘッドによって高周波数におけるヘッドの特
性とヘッドの信頼性を向上させることができる複合磁気
ヘッドの製造方法を提供することにある。
む複合磁気ヘッドによって高周波数におけるヘッドの特
性とヘッドの信頼性を向上させることができる複合磁気
ヘッドの製造方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明による複合磁気ヘ
ッドの製造方法は、配合容器内の亜鉄酸塩の出発物質に
非金属酸化物を添加して、適正比率で原料を配合する工
程と、前記工程後、配合された原料を湿式ミル方法で細
かく粉砕した後、噴霧乾燥器で乾燥して粉末からなる焼
結材を鍛造する工程と、前記焼結材を熱間静水圧焼結法
で多結晶亜鉄酸塩に形成する工程と、前記多結晶亜鉄酸
塩の表面を機械的に加工して鏡面にした後、前記亜鉄酸
塩表面にトラック溝、巻線溝、及び補強溝を設ける工程
と、前記溝の全面に金属磁性膜を蒸着し、一対の磁気コ
アの界面に接合ガラス物を介して接合して、磁気ヘッド
コアを設ける工程と、前記磁気ヘッドコアのテープの摂
動面にプラズマＣＶＤ法でＤＬＣ膜をコーティングする
工程と、を包含しており、そのことにより上記目的が達
成される。
ッドの製造方法は、配合容器内の亜鉄酸塩の出発物質に
非金属酸化物を添加して、適正比率で原料を配合する工
程と、前記工程後、配合された原料を湿式ミル方法で細
かく粉砕した後、噴霧乾燥器で乾燥して粉末からなる焼
結材を鍛造する工程と、前記焼結材を熱間静水圧焼結法
で多結晶亜鉄酸塩に形成する工程と、前記多結晶亜鉄酸
塩の表面を機械的に加工して鏡面にした後、前記亜鉄酸
塩表面にトラック溝、巻線溝、及び補強溝を設ける工程
と、前記溝の全面に金属磁性膜を蒸着し、一対の磁気コ
アの界面に接合ガラス物を介して接合して、磁気ヘッド
コアを設ける工程と、前記磁気ヘッドコアのテープの摂
動面にプラズマＣＶＤ法でＤＬＣ膜をコーティングする
工程と、を包含しており、そのことにより上記目的が達
成される。
【００１５】ある実施形態では、前記亜鉄酸塩の出発物
質は、Ｆｅ２０３、ＭｎＯあるいはＺｎＯ等の２価金属
塩である。
質は、Ｆｅ２０３、ＭｎＯあるいはＺｎＯ等の２価金属
塩である。
【００１６】ある実施形態では、前記非金属酸化物添加
剤は、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５のうち、任意の群
で選択されて添加される。
剤は、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５のうち、任意の群
で選択されて添加される。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明による複合磁気ヘッ
ドの製造方法の一実施例を図面を参照して詳細に説明す
る。図３（ａ）及び（ｂ）は亜鉄酸塩素材の組織状態図
である。図３（ａ）は単結晶亜鉄酸塩を示す。図３
（ｂ）は多結晶亜鉄酸塩を示す。図４は本発明による複
合磁気ヘッドに適用される亜鉄酸塩素材の製造過程を工
程順に示す工程図である。
ドの製造方法の一実施例を図面を参照して詳細に説明す
る。図３（ａ）及び（ｂ）は亜鉄酸塩素材の組織状態図
である。図３（ａ）は単結晶亜鉄酸塩を示す。図３
（ｂ）は多結晶亜鉄酸塩を示す。図４は本発明による複
合磁気ヘッドに適用される亜鉄酸塩素材の製造過程を工
程順に示す工程図である。
【００１８】本発明による複合磁気ヘッドの製造方法
は、磁気記録媒体としてのテープが走行しながら接触す
る単結晶亜鉄酸塩コアの摂動面にＤＬＣ膜がコーティン
グされた磁気ヘッドにおいて、前記単結晶亜鉄酸塩コア
を多結晶亜鉄酸塩コアに製造するのが好ましい。前記摂
動面にＤＬＣ膜をコーティングすることにより高周波数
で磁気ヘッドの出力が殆ど一定となるようにするのが好
ましい。
は、磁気記録媒体としてのテープが走行しながら接触す
る単結晶亜鉄酸塩コアの摂動面にＤＬＣ膜がコーティン
グされた磁気ヘッドにおいて、前記単結晶亜鉄酸塩コア
を多結晶亜鉄酸塩コアに製造するのが好ましい。前記摂
動面にＤＬＣ膜をコーティングすることにより高周波数
で磁気ヘッドの出力が殆ど一定となるようにするのが好
ましい。
【００１９】前記亜鉄酸塩コアとして用いられる単結晶
素材と多結晶素材との相違点は、図３（ａ）に示すよう
に、単結晶素材は、結晶粒界を含んでいないので、相対
的に電気的抵抗が低い。図３（ｂ）に示すように、多結
晶素材は、素材の内部に結晶粒界を含んでいるので、素
材内における電子の移動を抑制して、材料の電気的抵抗
を高めることができる。この際、前記亜鉄酸塩素材の電
気的抵抗が高くなると、高周波で透磁率が高くなるの
で、磁気ヘッドの効率が増加するのは当たり前のことで
ある。従って、磁気ヘッドに適用される磁気コア部材と
して多結晶亜鉄酸塩系を使用し、前記多結晶亜鉄酸塩系
を用いて製造された磁気へッドの摂動面にＤＬＣ膜をコ
ーティングすることにより、前記Ｓｐａｃｉｎｇ ｌｏ
ｓｓを補償することができる。
素材と多結晶素材との相違点は、図３（ａ）に示すよう
に、単結晶素材は、結晶粒界を含んでいないので、相対
的に電気的抵抗が低い。図３（ｂ）に示すように、多結
晶素材は、素材の内部に結晶粒界を含んでいるので、素
材内における電子の移動を抑制して、材料の電気的抵抗
を高めることができる。この際、前記亜鉄酸塩素材の電
気的抵抗が高くなると、高周波で透磁率が高くなるの
で、磁気ヘッドの効率が増加するのは当たり前のことで
ある。従って、磁気ヘッドに適用される磁気コア部材と
して多結晶亜鉄酸塩系を使用し、前記多結晶亜鉄酸塩系
を用いて製造された磁気へッドの摂動面にＤＬＣ膜をコ
ーティングすることにより、前記Ｓｐａｃｉｎｇ ｌｏ
ｓｓを補償することができる。
【００２０】第１実施例 表１に示す出発組成物とする原料を配合した後、図４の
ような工程で製作する。図４によれば、先ず、配合容器
（図示せず）内の亜鉄酸塩、例えばＦｅ２０３やＭｎＯ
やＺｎＯ等の２価金属塩からなる出発物質に非金属酸化
物、例えばＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５のいずれかを
選択して適正比率で原料を配合する（Ｓ４１）。
ような工程で製作する。図４によれば、先ず、配合容器
（図示せず）内の亜鉄酸塩、例えばＦｅ２０３やＭｎＯ
やＺｎＯ等の２価金属塩からなる出発物質に非金属酸化
物、例えばＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５のいずれかを
選択して適正比率で原料を配合する（Ｓ４１）。
【００２１】
【表１】
【００２２】次に、配合された原料を湿式ミル（Ｗｅｔ
Ｍｉｌｌｉｎｇ）方法で細かく粉砕した後、噴霧乾燥
器（ｓｐｒａｙ ｄｒｙｅｒ）で乾燥して、粉末からな
る焼結材を鍛造する（Ｓ４２）（Ｓ４３）。ここで、前
記焼結材は、湿式ミルと噴霧乾燥を経て所望の大きさに
なるように加圧することにより、１３００℃近くで焼結
される（Ｓ４４)。
Ｍｉｌｌｉｎｇ）方法で細かく粉砕した後、噴霧乾燥
器（ｓｐｒａｙ ｄｒｙｅｒ）で乾燥して、粉末からな
る焼結材を鍛造する（Ｓ４２）（Ｓ４３）。ここで、前
記焼結材は、湿式ミルと噴霧乾燥を経て所望の大きさに
なるように加圧することにより、１３００℃近くで焼結
される（Ｓ４４)。
【００２３】その後、前記焼結材を１２００℃の容器内
に入れて熱間静水圧焼結法（ＨｏｔＩｓｏｓｔａｔｉｃ
Ｐｒｅｓｓｉｎｇ：以下ＨＩＰという）で２時間にわ
たり７００ｋｇｆ／ｃｍ2の静水圧を加えると、１００
％の密度で平滑な多結晶亜鉄酸塩が形成される（Ｓ４
５）（Ｓ４６）。
に入れて熱間静水圧焼結法（ＨｏｔＩｓｏｓｔａｔｉｃ
Ｐｒｅｓｓｉｎｇ：以下ＨＩＰという）で２時間にわ
たり７００ｋｇｆ／ｃｍ2の静水圧を加えると、１００
％の密度で平滑な多結晶亜鉄酸塩が形成される（Ｓ４
５）（Ｓ４６）。
【００２４】その結果、表１に示すように、多結晶亜鉄
酸塩が単結晶亜鉄酸塩と比較して、電気抵抗ρ及び透磁
率μiが非常に高く現われ、飽和磁束密度は５０００ガ
ウス近くであって、大差がなかった。尚、単結晶及び多
結晶亜鉄酸塩の熱膨張率においても大差がなくて、磁気
ヘッドの製造工程に無理が無いことが分かった。
酸塩が単結晶亜鉄酸塩と比較して、電気抵抗ρ及び透磁
率μiが非常に高く現われ、飽和磁束密度は５０００ガ
ウス近くであって、大差がなかった。尚、単結晶及び多
結晶亜鉄酸塩の熱膨張率においても大差がなくて、磁気
ヘッドの製造工程に無理が無いことが分かった。
【００２５】このような多結晶亜鉄酸塩を用いて、図１
及び図２に示すように、コア部材で磁気ヘッドの製作を
完了した後、ヘッドギャップの摂動面にプラズマＣＶＤ
法でＤＬＣ膜をコーティングするが、これに対する磁気
へッドの製造工程とＤＬＣ膜のコーティング工程を概略
的に説明する。
及び図２に示すように、コア部材で磁気ヘッドの製作を
完了した後、ヘッドギャップの摂動面にプラズマＣＶＤ
法でＤＬＣ膜をコーティングするが、これに対する磁気
へッドの製造工程とＤＬＣ膜のコーティング工程を概略
的に説明する。
【００２６】前記工程によって製造された多結晶亜鉄酸
塩の表面を機械的に加工して鏡面にした（図４のＳ４
７）後、前記亜鉄酸塩の表面に横方向に巻線溝及び補強
溝を加工形成する。前記巻線溝及び補強溝と交差するよ
うに縦方向にトラック溝を所定の深さに形成する。
塩の表面を機械的に加工して鏡面にした（図４のＳ４
７）後、前記亜鉄酸塩の表面に横方向に巻線溝及び補強
溝を加工形成する。前記巻線溝及び補強溝と交差するよ
うに縦方向にトラック溝を所定の深さに形成する。
【００２７】その後、前記溝の全面に二酸化シリコンＳ
ｉＯ２やアルミナＡ１２０３や五酸化タンタルＴａ２Ｏ
５等の酸化物をスパッタリング方法で厚さ５００〜２０
００Åの非磁性酸化物を形成する。前記非磁性酸化物上
にＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＲｕＧａＳｉ、ＦｅＡｌＮ、Ｆｅ
ＴａＮ、ＮｉＦｅ等の金属磁性膜を蒸着した後、前記構
造を有する一対の磁気コアの界面にＰｂＯ２系の接合ガ
ラス物を介して融着させることにより、磁気ヘッドコア
を形成する。
ｉＯ２やアルミナＡ１２０３や五酸化タンタルＴａ２Ｏ
５等の酸化物をスパッタリング方法で厚さ５００〜２０
００Åの非磁性酸化物を形成する。前記非磁性酸化物上
にＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＲｕＧａＳｉ、ＦｅＡｌＮ、Ｆｅ
ＴａＮ、ＮｉＦｅ等の金属磁性膜を蒸着した後、前記構
造を有する一対の磁気コアの界面にＰｂＯ２系の接合ガ
ラス物を介して融着させることにより、磁気ヘッドコア
を形成する。
【００２８】その次、前記磁気へッドコアのテープの摂
動面に、プラズマ化学気相蒸着（ＣＶＤ）法でＤＬＣ膜
をコーティングする。この際、合成ガスとしてメタン
（Ｍｅｔｈａｎ：ＣＨ４）を使用し、基板の温度は２０
０℃、合成圧力は１００〜５００ｍＴｏｒｒにして、１
０００Å程度の厚さにコーティング処理した。尚、へッ
ドギヤップの長さは０．３７μm、トラック幅は３１μm
である。
動面に、プラズマ化学気相蒸着（ＣＶＤ）法でＤＬＣ膜
をコーティングする。この際、合成ガスとしてメタン
（Ｍｅｔｈａｎ：ＣＨ４）を使用し、基板の温度は２０
０℃、合成圧力は１００〜５００ｍＴｏｒｒにして、１
０００Å程度の厚さにコーティング処理した。尚、へッ
ドギヤップの長さは０．３７μm、トラック幅は３１μm
である。
【００２９】このように製造された磁気ヘッドを用いて
へッドとテープの相対速度を５．８ｍ／ｓｅｃにして、
ヘッドの再生出力を測定した。表２に示すように、同一
の単結晶磁気ヘッドのうち、コーティングしていないヘ
ッドとコーティングしたヘッドとを比較すると、コーテ
ィングしていないヘッドは、コーティングしたヘッドよ
り高周波（５ＭＨｚ以上）で５ｄＢ以上出力が低いこと
が分かる。しかし、多結晶亜鉄酸塩にコーティングをし
た場合、コーティングをしていないヘッドと比較してみ
れば、低周波（０．５ＭＨｚ）では出力が同等もしくは
以上であったが、高周波（５ＭＨｚ）では出力が同等も
しくは以下であった。
へッドとテープの相対速度を５．８ｍ／ｓｅｃにして、
ヘッドの再生出力を測定した。表２に示すように、同一
の単結晶磁気ヘッドのうち、コーティングしていないヘ
ッドとコーティングしたヘッドとを比較すると、コーテ
ィングしていないヘッドは、コーティングしたヘッドよ
り高周波（５ＭＨｚ以上）で５ｄＢ以上出力が低いこと
が分かる。しかし、多結晶亜鉄酸塩にコーティングをし
た場合、コーティングをしていないヘッドと比較してみ
れば、低周波（０．５ＭＨｚ）では出力が同等もしくは
以上であったが、高周波（５ＭＨｚ）では出力が同等も
しくは以下であった。
【００３０】
【表２】
【００３１】図５は複合磁気ヘッドのテスト時間による
磁気コアの磨耗量を比較するグラフである。３つの場合
の磁気ヘッドに対して図５のように磨耗テストをした結
果、ＤＬＣ膜をコーティングした単結晶及び多結晶亜鉄
酸塩を適用した磁気ヘッドの場合には磨耗が殆ど生じな
く、ＤＬＣ膜をコーティングしていない磁気へッドの場
合には磨耗が引き続き生じていることが分かった。
磁気コアの磨耗量を比較するグラフである。３つの場合
の磁気ヘッドに対して図５のように磨耗テストをした結
果、ＤＬＣ膜をコーティングした単結晶及び多結晶亜鉄
酸塩を適用した磁気ヘッドの場合には磨耗が殆ど生じな
く、ＤＬＣ膜をコーティングしていない磁気へッドの場
合には磨耗が引き続き生じていることが分かった。
【００３２】従って、高周波における磁気ヘッドの出力
をより高くするために、表１に示した多結晶の組成と同
一の母組成のＦｅ２０３、ＭｎＯ、ＺｎＯにＳｉＯ２と
ＺｒＯ２をそれぞれ０．０５ｗｔ％、Ｖ２Ｏ５を０．０
３ｗｔ％添加して、多結晶亜鉄酸塩を製造した結果、表
１に示すように、高周波における透磁率が増加すること
が分かった。
をより高くするために、表１に示した多結晶の組成と同
一の母組成のＦｅ２０３、ＭｎＯ、ＺｎＯにＳｉＯ２と
ＺｒＯ２をそれぞれ０．０５ｗｔ％、Ｖ２Ｏ５を０．０
３ｗｔ％添加して、多結晶亜鉄酸塩を製造した結果、表
１に示すように、高周波における透磁率が増加すること
が分かった。
【００３３】一方、本発明は１０００ÅのＤＬＣ膜をコ
ーティングして磁気ヘッドを製作した後、前記のような
条件によって出力特性を測定してみた結果、表２に示す
ように、添加剤を加えると、高周波（５ＭＨｚ）で相当
な出力の増加があることが分かった。
ーティングして磁気ヘッドを製作した後、前記のような
条件によって出力特性を測定してみた結果、表２に示す
ように、添加剤を加えると、高周波（５ＭＨｚ）で相当
な出力の増加があることが分かった。
【００３４】第２実施例 第２実施例は、多結晶の母組成に添加されるＳｉＯ２、
ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５の添加範囲によるヘッド特性を調べ
たものである。表３に示す材料１〜６のような組成比の
範囲にして、第１実施例と同一方法でＤＬＣ膜を磁気ヘ
ッドのヘッドギャップ領域にコーティング処理を行う。
ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５の添加範囲によるヘッド特性を調べ
たものである。表３に示す材料１〜６のような組成比の
範囲にして、第１実施例と同一方法でＤＬＣ膜を磁気ヘ
ッドのヘッドギャップ領域にコーティング処理を行う。
【００３５】
【表３】
【００３６】その結果、ＳｉＯ２及びＺｒＯ２が０．０
１ｗｔ％以下であり、Ｖ２Ｏ５が０．０１ｗｔ％以下で
ある場合には、高周波特性効果が殆ど現われず、これら
がそれぞれ０．０１ｗｔ％、０．１５ｗｔ％を越える場
合には、かえって高周波特性が低下するという逆効果を
招いた。従って、ＳｉＯ２及びＺｒＯ２は０．０２〜
０．１ｗｔ％、Ｖ２Ｏ５は０．０２〜０．１５ｗｔ％で
ある場合が一番好ましいことが分かった。
１ｗｔ％以下であり、Ｖ２Ｏ５が０．０１ｗｔ％以下で
ある場合には、高周波特性効果が殆ど現われず、これら
がそれぞれ０．０１ｗｔ％、０．１５ｗｔ％を越える場
合には、かえって高周波特性が低下するという逆効果を
招いた。従って、ＳｉＯ２及びＺｒＯ２は０．０２〜
０．１ｗｔ％、Ｖ２Ｏ５は０．０２〜０．１５ｗｔ％で
ある場合が一番好ましいことが分かった。
【００３７】
【発明の効果】本発明の複合磁気ヘッドの製造方法によ
れば、高周波で磁気ヘッドの特性を向上させ、ヘッドの
出力低下を防止することができる。
れば、高周波で磁気ヘッドの特性を向上させ、ヘッドの
出力低下を防止することができる。
【００３８】本発明による複合磁気ヘッドの製造方法
は、多結晶亜鉄酸塩で製造された磁気ヘッドコアのヘッ
ドギャップにＤＬＣ膜をコーティング処理することによ
り、ＤＬＣ膜によるヘッドの出力低下を補償するととも
にヘッドの磨耗現象を最小化することができる。
は、多結晶亜鉄酸塩で製造された磁気ヘッドコアのヘッ
ドギャップにＤＬＣ膜をコーティング処理することによ
り、ＤＬＣ膜によるヘッドの出力低下を補償するととも
にヘッドの磨耗現象を最小化することができる。
【００３９】尚、本発明による複合磁気ヘッドの製造方
法は、多結晶亜鉄酸塩にＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５
のうち、任意の群で選択される添加剤を加えることによ
り、ヘッドの高周波出力特性を高くすることができるの
で、本発明の技術的思想に反しない範囲内で本発明の実
施例のみに限らず、多様な変調変化が可能であることは
明らかである。
法は、多結晶亜鉄酸塩にＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５
のうち、任意の群で選択される添加剤を加えることによ
り、ヘッドの高周波出力特性を高くすることができるの
で、本発明の技術的思想に反しない範囲内で本発明の実
施例のみに限らず、多様な変調変化が可能であることは
明らかである。
【図１】従来技術によるＭＩＧ（Ｍｅｔａ１-Ｉｎ-Ｇａ
ｐ）型磁気ヘッドを示す斜視図である。
ｐ）型磁気ヘッドを示す斜視図である。
【図２】図１の磁気ヘッドの摂動面にＤＬＣ膜をコーテ
ィングした状態を示す断面図である。
ィングした状態を示す断面図である。
【図３】亜鉄酸塩素材の組織状態図である。図３（ａ）
は単結晶亜鉄酸塩を、図３（ｂ）は多結晶亜鉄酸塩を示
す。
は単結晶亜鉄酸塩を、図３（ｂ）は多結晶亜鉄酸塩を示
す。
【図４】本発明による複合磁気ヘッドに適用される亜鉄
酸塩素材の製造過程を工程順に示す工程図である。
酸塩素材の製造過程を工程順に示す工程図である。
【図５】複合磁気ヘッドのテスト時間による磁気コアの
磨耗量を比較するグラフである。
磨耗量を比較するグラフである。
１ 亜鉄酸塩コア ２ 金属磁性膜 ３ ヘッドギャップ ４ 接合用ガラス物 ５ 摂動面 ６ ＤＬＣ膜
Claims (3)
- 【請求項１】 配合容器内の亜鉄酸塩の出発物質に非金
属酸化物を添加して、適正比率で原料を配合する工程
と、 前記工程後、配合された原料を湿式ミル方法で細かく粉
砕した後、噴霧乾燥器で乾燥して粉末からなる焼結材を
鍛造する工程と、 前記焼結材を熱間静水圧焼結法で多結晶亜鉄酸塩に形成
する工程と、 前記多結晶亜鉄酸塩の表面を機械的に加工して鏡面にし
た後、前記亜鉄酸塩表面にトラック溝、巻線溝、及び補
強溝を設ける工程と、 前記溝の全面に金属磁性膜を蒸着し、一対の磁気コアの
界面に接合ガラス物を介して接合して、磁気ヘッドコア
を設ける工程と、 前記磁気ヘッドコアのテープの摂動面にプラズマＣＶＤ
法でＤＬＣ膜をコーティングする工程と、を包含する複
合磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 前記亜鉄酸塩の出発物質は、Ｆｅ２０
３、ＭｎＯあるいはＺｎＯ等の２価金属塩である、請求
項１に記載の複合磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 前記非金属酸化物添加剤は、ＳｉＯ２、
ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５のうち、任意の群で選択されて添加
される、請求項１に記載の複合磁気ヘッドの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940034714A KR960025332A (ko) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 자기헤드 |
| KR1994-34714 | 1994-12-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08255308A true JPH08255308A (ja) | 1996-10-01 |
Family
ID=19401915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7328638A Pending JPH08255308A (ja) | 1994-12-16 | 1995-12-18 | 複合磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08255308A (ja) |
| KR (1) | KR960025332A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005313533A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Shinko Electric Co Ltd | リライタブルペーパー用磁気ヘッドおよびリライタブルプリンタ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS644905A (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-10 | Sony Corp | Composite magnetic head |
| JPH0449508A (ja) * | 1990-06-19 | 1992-02-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
-
1994
- 1994-12-16 KR KR1019940034714A patent/KR960025332A/ko not_active Application Discontinuation
-
1995
- 1995-12-18 JP JP7328638A patent/JPH08255308A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS644905A (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-10 | Sony Corp | Composite magnetic head |
| JPH0449508A (ja) * | 1990-06-19 | 1992-02-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005313533A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Shinko Electric Co Ltd | リライタブルペーパー用磁気ヘッドおよびリライタブルプリンタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR960025332A (ko) | 1996-07-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19971113 |