JPS62295208A - 磁気デイスク装置用浮上型磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は固定磁気ディスク装置に係り、特に性能および
信頼性に優れた浮上型磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術〕

磁気ディスク装置での情軸の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドとしては例えばＵＳＰ−３８２３４１
６、特公昭５７−５６９号に示されている様な浮上型ヘ
ッドが多く使用されている。この浮上型ヘッドにおいて
はスライダーの後端部に磁気変換ギャップを設け、全体
は高透磁率の酸化物磁性材料で構成されている。浮上型
磁気ヘッドは、磁気ディスクが静止している時にはスプ
リングの力で軽く磁気ディスクに接触している。また磁
気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表面の
空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用する
。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディスクか
ら離れている。一方磁気ディスクの回転を開始する時お
よび止める時には、磁気ヘッドは磁気ディスク上を摺動
する。磁気ディスクの回転を止める時の接触の状況を説
明すると、回転数を落してきた時にその表面の空気の流
れも次第に遅くなる。そして磁気ヘッドの浮力が失われ
た時磁気ヘッドはディスク面に衝突すると共にその反動
でとび上り、またディスク面に落る。この様な運動を何
度か繰り返した上で、磁気ヘッドはディスク上を引きず
られる様にして停止する。この様な起動、停止時の衝撃
に磁気ヘッドは耐える必要があり、その性能をＣＳＳ性
（Ｃｏｎｔａｃｔ　５ｔａｒｔＳｔｏｐ）と呼ぶことが
多い。この高透磁率酸化物磁性材料であるフェライトで
構成された浮上磁気ヘッドは比較的良好な耐ＣＳＳ性を
示すが、飽和磁束密度が小さく、高保磁力の記録媒体に
対して充分に記録出来ないという欠点がある。すなわち
比較的飽和磁束密度Ｂ、の高いＭｎ　−Ｚｎフェライト
でもＢ、は高々５．５００〜６，０００　Ｇ程度であり
、Ｂ。

≧８０００　Ｇの得られる金属磁性膜を磁気ギャップ部
に配置したものの方が望ましい。この−例として特開昭
５８−１４３１１号に開示された様に、フェライトで構
成される浮上型磁気ヘッドの磁気変換ギャップ部にのみ
高飽和磁束密度の金属磁性膜を設けた磁気ヘッドが提案
されている。しかし、この例では磁気変換部に所定の巻
線を施した後のインダクタンスが大きく、その為共振周
波数が低下し高周波での記録再生が付和となる欠点があ
る。この場合インダクタンスの大きいことは磁気ヘッド
全体が磁性体で構成されていることに基づく。従って低
インダクタンスとするために磁気回路を小さく構成する
必要がある。すなわち全体を磁性材料で構成せず、磁気
コアを非磁性のスライダー中に埋設固着した構成の浮上
型磁気ヘッドとして米国特許３，５６２．４４４号に一
例が開示されている。また発明者等は特願昭６０−４０
０５５号にて磁気コアを非磁性スライダー中に埋設した
磁気ヘッドの望ましい形状について提案した。以上の点
から高保磁力の媒体に対して充分に記録可能でかつイン
ダクタンスの小さな浮上型磁気ヘットを得るにはギヤ・
７ブ部に高Ｂ、の薄膜磁性材を成膜した磁気コアを非磁
性スライダー中に埋設したものが優れており、発明者等
により特開昭６０−１５４１３０に開示されている。さ
らに埋設されるべき磁気コアのギヤツブ部の構造として
Ｘ型に斜交したものを特願昭６０−４００６３号にて提
案した。しかしながらこのＸ型構造では後に詳述する様
に再生出力が低いという問題点がある。発明者はこの再
生出ノＪが低い原因について種々検討の結果後に詳述す
る様にガラスボンディング時に高Ｂ、磁性膜に著しい歪
を生じ特性が劣化していることに起因することが判明し
た。

このため高Ｂ、磁性膜に生じる内部応力を緩和するには
膜厚を薄くすることで解決出来るが、ギャップ部の構造
として特願昭６０−４００６３号に提案した構造ではト
ラック幅と膜厚を任意に独立して選定する事が出来ない
。従って定められたトランク幅を得るにはある程度膜厚
を厚くしておかねばならないという制約がある。かかる
欠点を解消するギャップ部の構造として特開昭６１−４
３７０７号明細書中第１０図に示された台形状の構造と
する事により可能である。しかしながら上記明細書第１
０図の構造では磁性薄膜とフェライト基板の接合面が磁
気ギャップ線と平行になっているのでいわゆる形状効果
により再生出力の周波数特性にうねりを生じ好ましくな
い。

従って磁気ディスク用の望ましい磁気ヘッドとして備え
るべき１）高保持力の媒体に対して充分な記録が可能で
２）低インダクタンスであり３）高Ｂｓ１ｆｆ性膜に極
度の歪を生じず高再生出力を示し４）耐Ｃ８Ｓ性に優れ
るという点を満たすには、特開昭６０−１５４１３０号
に開示された非磁性スライダー中に磁気コアを埋設し耐
ＣＳＳ性に優れ、インダクタンスを小さくし、かつ磁性
膜に著しい応力を生じない様に膜厚を薄く出来る構造で
かつ形状効果を生じない様に構成する必要があった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明の目的は前述した従来技術の欠点を解消し優れた
磁気ディスク用磁気ヘッドを提供する事を目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するため本発明の構成は磁気ギャップ部
を台形状の構造としかつ形状効果を生じない様に高Ｂ、
磁性膜が成膜されるべき平たん部の面粗さを適切に選ぶ
ことにより実質上形状効果を生じない様にした磁気コア
を、耐Ｃ８Ｓ性に優れた非磁性スライダー中に埋設固着
する事を特徴とするものである。以下に詳述する。

〔実施例〕

〔参考例１〕 磁気コアの望ましい構成としてはＭｎ　−Ｚｎフェライ
ト上にＦｅ　　ＡＩ　　Ｓｉ膜を成膜したものが望まし
い。畜Ｂ、膜を成膜すべき基板材としては高熱膨張係数
の非磁性材料がしばしば用いられる。かかる熱膨張係数
の非磁性材料としては米国特許４．５４０．６３８に開
示されたＭｎ０−Ｎｉ０系セラミツクが適している。こ
のＭｎＯ：ＮｉＯ＝　５０　：　５０ｍｏ１％で熱膨張
係数１３０　Ｘ　１０−’　ｄｅｇ−’の基板およびＢ
＋ｏ＝５０００Ｇ、２．５　ＭＨｚの透石佐率１４００
のＦＩｎ−Ｚｎフェライト基板上にＦｅ−Ａｌ　−Ｓｉ
膜を成膜した磁気ヘッドについて比較した。かかる磁気
コアは第７図に概略を示した工程により作製する事が出
来る。すなわち第７図（ａ）の基板半対１　　（Ｉコア
）を用意する。該半対にはＷ形状の溝２をダイシング材
で加工する。さらにｆｂ１図で同様にもう一方の半対（
Ｃコア）３に〜４を加工する。この’ｆ＆（ａ）図の■
コア半対５上にＦｅ−Ａｌ−３ｉ膜６をスパッタにて成
膜する。さらに中間絶縁膜としてＳｉ０２膜７を同様に
スパックにて成膜し、次にＦｅ　　４６　　Ｓｉ膜８を
成膜した積層構造とした。

Ｆｅ−Ａｊ！−Ｓｉ膜の組成は重量％でＡｌ３〜７％、
Ｓｉ７〜１１％、Ｆｅ８２〜９０％である。高透磁率ヲ
得ル目的でＡｌ．５〜６．５％、Ｓｉ８．０〜１０．５
％、Ｆｅ８３〜８７％が好ましい。また中間絶縁層のＳ
ｉＯ□膜厚は０．０２〜０．１μｍが充分に１色縁を維
持出来かつ全体の膜中に占めるＦｅ−Ａｌ　−Ｓｉ膜の
割合を低下させなく好ましい。

次に成膜された基板９上にガラスを乗せ電気炉中で加熱
しガラス１０を溝内に流入させる。好ましいガラスとし
ては後に述べるスライダー中への磁気コアの埋設固着時
にギャップ寸法の変化が生じない様な高軟化点のガラス
が望ましい。かがるガラスとしては軟化点５９０℃１熱
膨張係数９７Ｘ　１０−’　ｄｅｇ−’が適しており、
該物性を示すガラス組成トシテハ、ＰｂＯ５５，８，Ｓ
ｉＯｚ３７．１．　Ｋｚ０７．１重量％が良い。次にガ
ラス１ｏを流入させたコア面を研削加工し所定のトラッ
ク幅１１を得る迄研削する。−男手対のＣコアはＦｅ−
Ａｆｆ　−Ｓｉ膜を成膜せず１３７８図と同一のトラッ
ク幅となる様加工を施した後にｆ図に示す様に両灯のト
ラック位置を合せた後接合され、切断し磁気コアを得る
。この様に作製した磁気コア記録媒体対向面はｇ図に示
す様にＩコア側基板１９およびＣコア側基板１８上に成
膜されたＦｅ−Ａｊｌ！−３ｉ膜１３．　１５はＳｉＯ
□絶縁層１４を介し斜めに斜交しその角度θは６０°で
ある。ギャップ長１６は任意に選ぶ事が出来るがトラッ
ク幅１７を所定（通常１０〜２０μｍ）の寸法にするに
は膜厚を余り薄く出来ない。すなわちＩコア側基板１９
の頂点部は先端が鋭角なため膜厚を薄くすると頂点と磁
気ギャップ間でＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜が必要以下に薄くな
り磁気コアとしての役割を果さない。本参考例では１層
当りの膜厚を５μｍとし０．０５μｍのＳｉ０２絶縁膜
を介して８層積層した。ギャップ長は０．８μｍとしト
ラック幅を１８μｍに加工した磁気コアを得た。

かかる磁気コアの概観図を第８図に示す。

２０は非磁性あるいはＭｎ　−Ｚｎフェライト磁性基板
（磁極）、２１はＦｅ−へｌ−３ｉ４貞層ＢＡ、２２は
ガラスを示す。この様に−して得られた磁気コアは第９
図に示すスライダー２３中に設けられたスリソト中に埋
設され第２のガラスで固着され浮上型磁気ヘッドを得る
。凸条２４，２５は空気ベアリング面であり、ディスク
の回転に伴ない磁気ヘッドの浮上を司どる役割を果して
いる。スライダー材としてはＣａＴｉＯ３が機械的特性
に優れ適している。

ＣａＴｉＯ３の熱膨張係数は１０５〜１１０ｘｌＯ−７
ｄｅｇ−’でありビッカース硬度は８５０ｋｇ／酊２で
ある。このＣａＴｉ０．、スライダー材を用い磁気コア
を埋設固着する場合のガラスとしては熱膨張係数９１　
Ｘ　１０−’　ｄｅｇ−’で軟化点４４６℃程度のもの
を用い５４０℃でガラスを加熱流入させることにより、
ガラス中にクラックを生じない良好な磁気ヘッドが得ら
れる。この様にして得られた磁気ヘッドの再生出力の記
録電流特性を第６図に示す。

試験条件は保（ｎカフ０００ｅのＣｏ−Ｎｉスパフタデ
ィスクを用い浮上ｆｆ１０．３μｍ、ディスクの回転数
３６００ｒｐｍでコイルの巻数は２８ターン、周波数２
、５　ＭＨｚである。曲線１は基板を上記Ｍｎ　−Ｚｎ
フェライトとした場合であり、Ｍｎ０−Ｎｉ０系非磁性
酸化吻を基板とした場合の曲ｖＡ２より大きな再生出力
を示している。従って使用すべき基板材料としてはＭｎ
　−Ｚｎフェライトの方が適しており本発明の構成要件
の一つである。

〔参考例２〕 上記参考例１に述べたごとく基板材としてはＭｎ−Ｚｎ
フェライトの方が優れるが、一方磁気ギャソプ部の構造
としては、上記Ｘ型ではＦｅ−Ａｌ−３ｉ膜およびＭｎ
−Ｚｎフェライトの熱膨張係数の著しい差異に起因した
Ｆｅ−ＡＮ−Ｓｉ膜への応力が著しく磁気特性が損われ
る。磁気コアそのものは第８図に示したように極めて小
さくかつ複雑な形状のためＦｅ−Ａｌ−３ｉ膜に加わっ
た応力を１１１定することは困難であるが、基板材料に
発生する結晶粒の脱落から応力の著しい事が容易に推測
される。本参考例に用いたＭｎ　−Ｚｎフェライトの熱
膨張係数は１１５　Ｘ　Ｉ　Ｏ−’　ｄｅｇ−’であり
、一方Ｆｅ−Ａｆｆ　−Ｓｉの熱膨張係数は１５６Ｘ１
０−７ｄｅｇ−菫と著しく異なる。参考例１と同様に作
製した磁気ヘッドで膜厚を変えた場合の結果を第１表に
示す。磁気ベッドの寸法はトラック幅１８μｍ１ギヤツ
ブ、ＺＯ，Ｓμｍ、ギャップ深さは８μｍである。

第　　　１　　　表 再生出力の試験条件は参考例１と同一ディスクを用い、
浮上量０．３μｍ、回転数３６０Ｏｒｐｍでコイルの巻
数は２８ターンで周波数は２．５ＭＨｚである。

結晶粒の脱落は第８図に示した磁気コアを観察すること
により容易に知れる。第１０図に結晶粒の脱落の様子を
示したが図中黒点で示した箇所に脱落が認められた。従
って第１表に示した様に全体のＦｅ−Ａ＃−Ｓｉ膜厚を
２０μｍ以下とすることによりガラスボンディング時に
発生する応力を小さく出来、再生比カニよ向上する。第
１表に示されたごとくさらに膜厚を薄くすると脱落は失
くなりＦｅ−Ａｌ−３ｉ膜への応力も一層緩和されるが
、Ｘ型構造では頂点部での膜厚が他のトラック部の膜厚
より極度に薄くなりこのため再生出力が低下するという
問題点を生じる。従って２０μｍ以下の膜厚でＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ膜に加わる応力を滅しる事が出来るものの、再
生出力を低下させないギャップ部の構造として従来のＸ
型構造以外のものへと変換する必要のある事が容易に判
る。

〔実施例１〕 本発明は磁気ギャップと平行部を有する金型形Ｍｎ　−
Ｚｎフェライト基板上にＦｅ−ΔＪ　−３ｉ膜を成膜し
、かつ成膜されるべき平行部の基＋５．而粗さを形状効
果を実質的に生じない様にした事を特徴とする。本発明
の金型形構造は第１図に示したトｐなギャップ部の構造
であり、Ｍｎ　−Ｚｎフェライト基板２８．２９は平行
部３０．３１を有しておりその両側は斜めに切除されて
いる。Ｆｅ−Ａ　Ｉ　−３ｉ膜３２．３３は該平行部３
０．３１上および両側の斜め部に成膜されるが、場合に
よっては平行部のみに成膜しても差し支えない。また左
右一対のＣ９ｌコア両方に成膜しても良いし、あるいは
１コアのみに成膜しても差し支えない。かかる磁気コア
は第２図に示した工程により容易に作製することが出来
る。該工程を概略説明すると以下である。

まずＷ形状の溝３９．４０を加工したＭｎ　−Ｚｎフェ
ライト基板３７．３８を用意する。次に頂点部を（イ）
−（ｏ）の点線部迄研摩加工を施こし所定のトラック幅
Ｔｗを得る。該加工基板４２上にＰｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜４
１を成膜する。成膜はＳｉＯ□を介し積層した多層膜あ
るいは単層膜いずれをも採用することが出来る。この成
膜された一対の基板３８．３９は所定のギャップ長Ｇ０
を得るための絶縁層をはさみ（図では省略）巻線窓部４
４に置かれたガラス棒４５を加熱流入させる事により一
対の接合を行なう。この後接合ブロックは所定の厚さに
なる様切所され磁気コアを得る。本実施例では熱膨張係
数９７　Ｘ　１０−’　ｄｅｇ−１、軟化点５９０℃の
ガラス棒を用い７３０℃に加熱しボンディングを行なっ
た。なおＦｅ−Ａｌ　−３ｉ膜を成膜する前の平行部４
３は通常実施されている様な完全な鏡面仕上げとはせず
に面粗さとして平均２００人となる様に加工した。かか
る加工は研摩時の砥粒径、研摩テーブル、加圧力等条件
を変え比較的容易に求める事が出来る。また膜厚は一層
５μｍのものを０．０５μｍのＳｉｎｇ絶縁層を介し４
Ｎ積層した。組成はＡｌ６．０、Ｓｉ９．５残部Ｆｅ重
量％である。

該磁気コアを第９図に示したＣａＴｉ０＋　（熱膨張係
数１０８　Ｘ　１０−０−７ｄｅ’）スライダー中に熱
膨張係数９１　Ｘ　１０−’　ｄｅｇ−１、軟化点４４
６℃のガラスを用い５４０℃に加熱し埋設固着した。か
くして得られた磁気ヘッドのトラック幅は１７μｍ、ギ
ャップ長０．８μｍ、ギャップ深さは８μｍである。該
磁気ヘッドを参考例２のテディスクを用い、参考例２と
同一試験条件で測定した場合の２．５　Ｍｔｌｚにおけ
る再生出力は０．８２ｍＶとＸ型構造で得られたより高
い値を示した。

〔実施例２〕 実施例１と同−Ｍｎ　−Ｚｎフェライ）Ｗ板を用い、同
一組成のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜を５μｍで２層積層した。

この場合平行部４３をその面粗さが異なる様加工を施し
た。該成膜基板は実施例１と同一ガラスで接合され、さ
らに同−ＣａＴｉ０．．スライダー中に同一ガラスで固
着した。該磁気ヘッドのギャップ部の寸法も実施例２と
同一となる様加工し、さらに同一条件での再生出力を測
定した。結果は第２表に示すごと＜２．５ＭＨｚでの再
生出力はいずれもＸ型構造より高い値を示した。

第　　　２　　　表 しかしながら平行部の平均面粗さが４０人の試料では明
瞭な形状効果が認められ再生出力の周波数特性にうねり
を生じた。このうねり現象については本来の磁気ギャッ
プと平行なＭｎ　−ＺｎフェライトとＦｅ−Ａｌ−３ｔ
膜の接合部があると生じるとされており、この好ましく
ない効果を避けるため、接合部を斜めにした構造が特開
昭６１　３４７０７　、特開昭６０−２２９２１０等に
開示されている。しかしこれらの構成では磁気コア作製
が煩雑であり、かつ斜めの部分に成膜されたＦｅ　　Ａ
ｌ　−Ｓｉ膜の磁気特性は必ずしも良好でないという欠
点を生じる。第３図は第２表に示した磁気ヘッドの再生
出力の周波数特性を示したものであり、曲ｖＡ３は平行
部の平均面粗さ４０人の試料、曲線４は１３０人の平均
面粗さの試料である。この様に４０人の平均面粗さでは
形状効果のため周波数特性にうねりを生じ好ましくない
。５・８０，８００人の平均面粗さの試料については１
３０人と同様にうねりは認められなかった。この様にあ
る程度面粗さを粗クシておくとミクロに眺めると本来の
磁気ギャップと平行なＭｎ　−ＺｎフェライトとＦｅ　
　Ａｆ　　Ｓｉ膜の接合面が不平行となっており、実質
的に形状効果を示さないものと考えられる。しかし余り
面粗さを荒くすると金属磁性膜の厚さの精度が悪くなり
好ましくない。該精度としては１０％以下が望ましいと
考えられることから平均面粗さはＦｅ−Ａｆ　−ｓ；膜
厚の１０％以下となる方が望ましい。

〔実施例３〕 本発明のような磁気コアの接合および該コアをスライダ
ー中に埋設固着する場合の２種のガラスを用いるには、
埋設固着の際双方のガラスの軟化点および熱膨張係数を
適切に選ばないと磁気コアのギャップが埋設固着時に変
化したり、あるいはガラスにクラックを生じたりし好ま
しくない。本発明のようにスライダーにＣａＴｉ０ｚ　
（熱膨張係数１０５〜１１０　Ｘ　１０−’　ｄｅｇ−
’）かつ基板として熱膨張係数１１０〜１１５　Ｘ　１
０−’　ｄｅｇ−’のＭｎ　−Ｚｎフェライトを用いる
場合には、スライダーへの埋設固着の際のガラスとして
は熱膨張係数８５〜９５　Ｘ　１０−０−６ｄｅ１、軟
化点４３０〜４６０”Ｃのガラスを５４０℃程度で用い
る事がガラスクラックのない固着を行なわしめるに適す
る事が知れている。しかしながらこのガラスを用いる場
合、磁気コアの接合に用いるガラスとしてどの程度の物
性のものが好ましいかは明確でなかった。第３表はスラ
イダーへの埋設固着ガラスとして熱膨張係数９２　Ｘ　
１０−’　ｄｅｇ−１、軟化点４４５℃のガラスを用い
５４０℃で固着した場合の結果であり、磁気コアを得る
場合の接合ガラスとして異なる物性のものを用いている
。

第　　　３　　　表 第３表の結果から判る様に接合ガラスとして熱膨張係数
９７　Ｘ　１０−’　ｄｅｇ−１、軟化点５９０℃のガ
ラスを用いる事により、スライダーへの埋設固着時のギ
ャップ長の変化もなくクランクの生じない良好な磁気ヘ
ッドを得る事が出来る。接合ガラスとして軟化点が低す
ぎると埋設固着時に、接合ガラスの粘性が低下しギャッ
プ長が変化する。また接合ガラスの熱膨張係数が合致し
ていないと接合ガラスに応力が集中しクランクを生じる
。実施例では熱膨張係数９７　Ｘ　１０−’　ｄｅｇ−
１、軟化点５９０℃のものが良好であったが、通常±５
％の物性の変動は許容される。

〔実施例４〕 磁気ディスク用の浮上型ヘッドはたえずディスクとの７
１１突を操り返すのでＣｏｎｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　５
ｔｏｐ時の信頼性が重要である。第４図はスライダー材
についてＣ８Ｓテストを行なった場合のディスクの損傷
度である。媒体は、５．２５インチのＣｏ−Ｎｉ［性層
のスパッタディスクを用いた。表面には潤滑層としてカ
ーボンを約３００人スパッタリングで形成しである。Ｃ
８Ｓテストのサイクルタイムは第５図に示すｉ、ｆｆｌ
りである。ディスクの損傷度は第９図の凸条部すなわち
空気−・アリング面全面に渡ってディスク面に傷が発生
した場合を１０として評価した。第４図中、１は従来浮
上型磁気ヘッドの非磁性材料として用いられているＡ　
’　２０：ｌ　　ＴｉＣセラミック、２は本発明のＣａ
Ｔｉ０．、を示す。この結果から容易に知れる様に本発
明に用いたＣａＴｉＯ２はＣＳＳ性に優れ、高い信頼性
を有する。

〔作　用〕

以上詳述した様に本発明の磁気ディスク用浮上型磁気ヘ
ッドは高い再生出力を示し、形状効果による再生出力の
うねりがなくかつ高い信頼性を有する磁気ヘッドとして
工業上利用価値が極めて大きい。特にＣｏ−Ｎｉスパッ
タディスク等の薄膜を媒体とした嵩密度記録用磁気ディ
スク装置に用いた場合高出力、高信頼性の磁気ヘッドと
して有用である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気ヘッドのギヤツブ部の構造を示す
概略図、第２図は第１図の磁気ヘッドの得るための工程
図、第３図は本発明の÷は気ヘッドにおいて基板の平行
部の平均面粗さが異なる場合の再生出力の周波数特性を
示す。第４図は本発明および従来使用されている非磁性
スライダーのＣＳＳ試験の回数とディスク１員傷度を示
す。１は従来材、２は本発明材、第５図はＣＳＳ試験の
サイクルタイムを示す図。第６図は記録電流と再生出力
の関係を示す。第７図は従来のＸ型の磁気コアの製造工
程図であり第８図は得られた磁気コアの概観図を示す。 第９図は磁気コアを埋設すべきスライダーおよび埋設さ
れた状態を示す図。第１０図は従来の磁気コアの基板の
脱落を示す。 ２８、　２９　：Ｍｎ−Ｚｎフェライト基板、３２．３
３：Ｆｅ−ＡＡ−Ｓｉ膜、ａｏ、３ｔ：基板の平行部、
３５ニドラック幅、３６：ガラス。 第１図 第３図 周波数（ＭＨｚ） 第２１！！ （Ｃ） （ｄ） 第４図 相対ＣＳＳ回数 第５図 一第６　図 記録電流（ｍＡ） 第７図 （ｆ）　　　　　　　（９） 第８図 第９図

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁気ギャップと平行部を有しかつ平行部が記録再
   生トラックとなる様に平行部の両側を斜めに切除した台
   形型Ｍｎ−Ｚｎフェライトからなり、該磁極の一方ある
   いは両方にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ磁性膜を成膜し、ガラスで
   接合した磁気コアをＣａＴｉＯ＿３スライダー中に接合
   ガラスより低軟化点のガラスで埋設固着した事を特徴と
   する磁気ディスク装置用浮上型磁気ヘッド。
2. （２）特許請求範囲記載第１項においてＦｅ−Ａｌ−Ｓ
   ｉを成膜するＭｎ−Ｚｎフェライトのギャップ部と平行
   な部分の面粗さを平均で４０Å以上でかつＦｅ−Ａｌ−
   Ｓｉ膜厚の１０％以下の大きさの平均面粗さとした事を
   特徴とする浮上型磁気ヘッド。
3. （３）特許請求範囲記載第２項においてＡｌ３〜７、Ｓ
   ｉ７〜１１重量％残部Ｆｅを主成分としあるいは他の添
   加物を含有するＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ膜を熱膨張係数１１０
   〜１１５×１０＾−＾７ｄｅｇ＾−＾１のＭｎ−Ｚｎフ
   ェライト基板上に成膜し、熱膨張係数８５〜９５×１０
   ＾−＾７ｄｅｇ＾−＾１、軟化点４３０〜４６０℃のガ
   ラスを用いて熱膨張係数１０５〜１１０×１０＾−＾７
   ｄｅｇ＾−＾１のＣａＴｉＯ＿３スライダー中に埋設固
   着した事を特徴とする浮上型磁気ヘッド。
4. （４）特許請求範囲記載第３項において熱膨張係数９２
   〜１０２×１０＾−＾７ｄｅｇ＾−＾１、軟化点５６０
   〜６２０℃のガラスを用いて磁気コアを接合する事を特
   徴とする磁気ヘッド。
5. （５）特許請求範囲第４項においてＣｏ−Ｎｉ系スパッ
   タディスクを用いた固定磁気ディスク装置に用いる事を
   特徴とする浮上型磁気ヘッド。