JPS60187909A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS60187909A JPS60187909A JP4360884A JP4360884A JPS60187909A JP S60187909 A JPS60187909 A JP S60187909A JP 4360884 A JP4360884 A JP 4360884A JP 4360884 A JP4360884 A JP 4360884A JP S60187909 A JPS60187909 A JP S60187909A
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- JP
- Japan
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- glass
- core
- layers
- gap
- layer
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
- G11B5/1475—Assembling or shaping of elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は磁気ヘッドに関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来より磁気ヘッド用コア材として、耐摩耗性が良いと
いう特徴からフェライトが広く使用されているが、飽和
磁束密度ＢＳが合金材料に比べて３０〜５０％低いので
、近年登場してきた高抗磁力の高密度記録媒体に使用し
た場合、ヘッドコア材料の磁気飽和が問題となり、この
ような観点から、高密度記録媒体の対応ヘッドとして、
パーマロイやセンダストなどの合金材料が注目され、実
用化されている。
いう特徴からフェライトが広く使用されているが、飽和
磁束密度ＢＳが合金材料に比べて３０〜５０％低いので
、近年登場してきた高抗磁力の高密度記録媒体に使用し
た場合、ヘッドコア材料の磁気飽和が問題となり、この
ような観点から、高密度記録媒体の対応ヘッドとして、
パーマロイやセンダストなどの合金材料が注目され、実
用化されている。
他方、耐摩耗性、磁気特性ともに優れた材料として、非
晶質合金が脚光をあびてきている。
晶質合金が脚光をあびてきている。
通常、磁気ヘッドを構成する上で重要な技術として、ギ
ャップ形成技術があり、とりわけそのなかでも接着技術
が重要である。
ャップ形成技術があり、とりわけそのなかでも接着技術
が重要である。
フェライト磁気ヘットは通常、ガラス接着で、合金材料
は銀ろう系の材料で接合される。そして、これらの作業
温度としては７００℃以上で行われるのが通常である。
は銀ろう系の材料で接合される。そして、これらの作業
温度としては７００℃以上で行われるのが通常である。
ところが、前記非晶質合金となると、材料目体の結晶化
温度（以下Ｔχと称す）があり、磁気特性を考慮した場
合、通常５００℃以下となる。すなわち、非晶質合金を
ＴＸ以上に加熱すると結晶化して脆くなると同時に、磁
気特性が劣化して磁性材料として使用できなくなる。
温度（以下Ｔχと称す）があり、磁気特性を考慮した場
合、通常５００℃以下となる。すなわち、非晶質合金を
ＴＸ以上に加熱すると結晶化して脆くなると同時に、磁
気特性が劣化して磁性材料として使用できなくなる。
したがって、ヘッドコア材料の接着もしくはギャップ形
成は、非晶質材料を使用する場合には、通常のエポキシ
系樹脂などのいわゆる接着剤を使用するか、半田系のも
ので接着するのが望ましい。
成は、非晶質材料を使用する場合には、通常のエポキシ
系樹脂などのいわゆる接着剤を使用するか、半田系のも
ので接着するのが望ましい。
これらの接着時の作業温度としては、たかだか３００℃
以下であるので、結晶化しないという点で安全であるが
、これにも接着強度が低いという欠点がある。
以下であるので、結晶化しないという点で安全であるが
、これにも接着強度が低いという欠点がある。
オーディオヘッドでは、トラック幅が広く、かつギャッ
プ長も長いのであまり問題はない。しかしながら、ビデ
オ、コンピュータ、計測機用ヘッドとなると、トランク
幅が非常に、小さく （例えば数十ミクロン）、かつギ
ャップ長が非常に短い（例えば０．３ｔクロン以下）の
で、接着剤や半田系のものでは高精度のギャップを維持
することは困難であるのが現状である。
プ長も長いのであまり問題はない。しかしながら、ビデ
オ、コンピュータ、計測機用ヘッドとなると、トランク
幅が非常に、小さく （例えば数十ミクロン）、かつギ
ャップ長が非常に短い（例えば０．３ｔクロン以下）の
で、接着剤や半田系のものでは高精度のギャップを維持
することは困難であるのが現状である。
したがって、高精度のギャップを維持するには、ガラス
による接着が最も信頼性が高い。ところが、非晶質金属
の磁気ヘッドを構成する場合、前記理由から、接着、ギ
ャップ形成は５００℃以下が望ましく、したがって、５
００℃以下の低融点のガラス材料が必要となる。このよ
うな軟化点のガラスでは、多量の鉛を含んでおり、例え
ば成分元素中ＰｂＯとして８０％程度含有している。
による接着が最も信頼性が高い。ところが、非晶質金属
の磁気ヘッドを構成する場合、前記理由から、接着、ギ
ャップ形成は５００℃以下が望ましく、したがって、５
００℃以下の低融点のガラス材料が必要となる。このよ
うな軟化点のガラスでは、多量の鉛を含んでおり、例え
ば成分元素中ＰｂＯとして８０％程度含有している。
ヘッド構成上、このガラスを接着ガラス層として使用し
た場合に、ガラス基板と接着ガラス層との境界が反応、
侵蝕されて、接着ガラス層が広がる現象が生しる。
た場合に、ガラス基板と接着ガラス層との境界が反応、
侵蝕されて、接着ガラス層が広がる現象が生しる。
通常、低融点ガラスは、磁気ヘッドとして使用した場合
、テープに対する摩耗特性はあまり良くなく、テープ走
行中にこのガラスの部分的な摩耗が進むと、いわゆる偏
摩耗が発生する。
、テープに対する摩耗特性はあまり良くなく、テープ走
行中にこのガラスの部分的な摩耗が進むと、いわゆる偏
摩耗が発生する。
第１図は従来の接着方法について示している。
すなわち、第１図は磁気ヘッドのテープ摺動面を示すも
のであり、１，５はガラス基板、２，４は接着ガラス層
、３はセンダスト、非晶質合金などの磁性材料からなる
コア、６はギヤ・ノブを示す。
のであり、１，５はガラス基板、２，４は接着ガラス層
、３はセンダスト、非晶質合金などの磁性材料からなる
コア、６はギヤ・ノブを示す。
このものにおいて、接着ガラス層２．４に前述の偏摩耗
が発生すると、コア３のギヤ・ノプエ・ノブ部分がくず
れ、ヘッドテープタッチに不良が生しることにより、な
いし４１Ｌ、偏摩耗部分にテープかすが付着することに
起因するスペーシングロスにより、安定した記録再生が
不可能となる。このような観点から、接着ガラス層２．
４は可能な限り小さい方が望ましい。
が発生すると、コア３のギヤ・ノプエ・ノブ部分がくず
れ、ヘッドテープタッチに不良が生しることにより、な
いし４１Ｌ、偏摩耗部分にテープかすが付着することに
起因するスペーシングロスにより、安定した記録再生が
不可能となる。このような観点から、接着ガラス層２．
４は可能な限り小さい方が望ましい。
第１図に示す構造の・＼ソトとして、あらかじめガラス
基板Ｉ、″５に接着ガラス層２，４を所定の厚さたり付
けておき、コア３を挟んで加圧、昇温してヘッドを完成
させる。
基板Ｉ、″５に接着ガラス層２，４を所定の厚さたり付
けておき、コア３を挟んで加圧、昇温してヘッドを完成
させる。
このときの接着ガラス層２，４の厚みの下限は、コア３
の大きさ９表面の加工性の限界より０．５μｍ程度であ
るが、この程度まで接着ガラス層２，４を薄くすると、
前記反応浸蝕によりガラス層２゜４自身の性質が変化し
、軟化温度が上昇するので、所定の温度、圧力条件では
十分接着せず、機械加工時の歩留りが悪かった。
の大きさ９表面の加工性の限界より０．５μｍ程度であ
るが、この程度まで接着ガラス層２，４を薄くすると、
前記反応浸蝕によりガラス層２゜４自身の性質が変化し
、軟化温度が上昇するので、所定の温度、圧力条件では
十分接着せず、機械加工時の歩留りが悪かった。
したがって、従来方法では３μｍが限界であり、実際に
完成したヘッドでは、この接着ガラス層２゜４は約５μ
ｍないしはそれ以上に厚くなる傾向があった。この値で
は前述のスペーシングロスが発生し、安定した記録再生
の立場から改善が望まれていた。
完成したヘッドでは、この接着ガラス層２゜４は約５μ
ｍないしはそれ以上に厚くなる傾向があった。この値で
は前述のスペーシングロスが発生し、安定した記録再生
の立場から改善が望まれていた。
発明の目的
この発明の目的は、上記接着ガラス層を薄くして、安定
した記録再生を可能とする長寿命の磁気ヘッドを提供す
ることである。
した記録再生を可能とする長寿命の磁気ヘッドを提供す
ることである。
発明の構成
この発明の磁気ヘッドは、上記の目的を達成するため、
ガラス基板と接着ガラス層との界面に酸化物セラミック
層を介在させて構成したもので、その接着ガラス層が従
来構成の磁気ヘッドに比べて非常に小さいので、信頼性
の向上が図られる。
ガラス基板と接着ガラス層との界面に酸化物セラミック
層を介在させて構成したもので、その接着ガラス層が従
来構成の磁気ヘッドに比べて非常に小さいので、信頼性
の向上が図られる。
実施例の説明
（実施例１）
ヘッド構成を第２図に示しである。トランク幅に相当す
る厚みの超急冷非晶質合金からなるコア２４、市販の高
融点ガラス（軟化温度約７００°Ｃ）を基板２１．２７
として、その表面をクーゲットとして約５０００人付着
させてＳ ｉ’ ０２層すなわち酸化物セラミック層を
形成し、このセラミック層２２．２６の上に、さらに市
販の鉛系低融点ガラス（軟化温度約３５０“Ｃ）の粉末
を約１μｍ７布した後、空気中において４８０℃、３０
分間焼付け、接着ガラス層２’３．２５としたものを積
層して、Ａｒ雰囲気中において４８０℃、３０分で接着
を行ない、積層コア半休を得た。
る厚みの超急冷非晶質合金からなるコア２４、市販の高
融点ガラス（軟化温度約７００°Ｃ）を基板２１．２７
として、その表面をクーゲットとして約５０００人付着
させてＳ ｉ’ ０２層すなわち酸化物セラミック層を
形成し、このセラミック層２２．２６の上に、さらに市
販の鉛系低融点ガラス（軟化温度約３５０“Ｃ）の粉末
を約１μｍ７布した後、空気中において４８０℃、３０
分間焼付け、接着ガラス層２’３．２５としたものを積
層して、Ａｒ雰囲気中において４８０℃、３０分で接着
を行ない、積層コア半休を得た。
次に、ギャップ突合せ面に巻線溝２９およびガラス溜溝
３０を加工した後、突合せ面を鏡面に加工した。この突
合せ面にギャップスペーサ材であるＳ ｉ Ｏ２と、ス
パッタにより所定の厚みに付着させる。
３０を加工した後、突合せ面を鏡面に加工した。この突
合せ面にギャップスペーサ材であるＳ ｉ Ｏ２と、ス
パッタにより所定の厚みに付着させる。
このコア半休と全く同じ構造からなるコア半休とを互い
に突合せ、前記二つの溝２９′、ａＯに前記市販の棒状
の低融点ガラス２０を挿入し、ギャップ形成を行なった
。第２図では簡略化して１１固のヘッドについて示しで
あるが、実際は複数のヘッドが連なった長い棒より各々
のヘッドを切り出し、ヘッドを完成した。２８はギヤツ
ブである。
に突合せ、前記二つの溝２９′、ａＯに前記市販の棒状
の低融点ガラス２０を挿入し、ギャップ形成を行なった
。第２図では簡略化して１１固のヘッドについて示しで
あるが、実際は複数のヘッドが連なった長い棒より各々
のヘッドを切り出し、ヘッドを完成した。２８はギヤツ
ブである。
こうして得られたヘッドチップのテープ摺動面を研磨し
、接着ガラス層２３．２５を調べたところ、接着ガラス
層２３．２５の厚みは約１．３μｍであり、塗布した厚
みよりやや広がっていた。
、接着ガラス層２３．２５を調べたところ、接着ガラス
層２３．２５の厚みは約１．３μｍであり、塗布した厚
みよりやや広がっていた。
このヘッドを市販のメタルテープを用いて、テープ走行
試験を行ったところ、３００時間時間後のガラス基板２
１２７．非晶質磁性のコア２４の間の接着ガラス層２３
．２５の段差（偏摩耗）は約２００人発生しており（接
着ガラス層２３゜２５がくほむ）、５Ｍｌ１ｚにおりる
ー・ソ１゛相対出力は１ｄＢ減少Ｕ７ていた。
試験を行ったところ、３００時間時間後のガラス基板２
１２７．非晶質磁性のコア２４の間の接着ガラス層２３
．２５の段差（偏摩耗）は約２００人発生しており（接
着ガラス層２３゜２５がくほむ）、５Ｍｌ１ｚにおりる
ー・ソ１゛相対出力は１ｄＢ減少Ｕ７ていた。
一方、従来の第１図に示していた構造のヘッドでは、塗
布した厚み３μｍに対して完成したヘッドの接着ガラス
層２，４は約Ｆ３１ｔｍに広がっていた。このヘッドを
比較のため、この発明のヘッドと同様にテープ走行試験
をしたとごろ、３００時間走行でガラス基板１．５に対
して、接着ガラスＩ？ｉ２，４の段差は最大６００人発
生しており、５Ｍ Ｈｚにおけるヘッド相対出力は最大
４ｄＢ低下することが刊かった。また、この接着ガラス
層２゜４にテープかすか付着して、それが原因でしばし
ば大幅な出力低下が見られた。
布した厚み３μｍに対して完成したヘッドの接着ガラス
層２，４は約Ｆ３１ｔｍに広がっていた。このヘッドを
比較のため、この発明のヘッドと同様にテープ走行試験
をしたとごろ、３００時間走行でガラス基板１．５に対
して、接着ガラスＩ？ｉ２，４の段差は最大６００人発
生しており、５Ｍ Ｈｚにおけるヘッド相対出力は最大
４ｄＢ低下することが刊かった。また、この接着ガラス
層２゜４にテープかすか付着して、それが原因でしばし
ば大幅な出力低下が見られた。
（実施例２）
ヘッド構成を第３図に示す。市販の高融点ガラス基Ｆｊ
、３１をターゲットとして、非晶質合金をスパッタして
、′：１ア３２を形成した。一方基板３１と同一の基板
３５の表面にＡ１４２０３層すなわち酸化物セラミック
層３４を３０００人スパッタし、さらにその−Ｌに低融
点の接着ガラス層３３を４゜００人スパックした。そし
て全体を、実施例１と同一の条件で接着し、積層コア半
休を得、次に実施例１と同様の方法でギャップ形成を行
ない、ヘッドを完成した。３６はギャップである。
、３１をターゲットとして、非晶質合金をスパッタして
、′：１ア３２を形成した。一方基板３１と同一の基板
３５の表面にＡ１４２０３層すなわち酸化物セラミック
層３４を３０００人スパッタし、さらにその−Ｌに低融
点の接着ガラス層３３を４゜００人スパックした。そし
て全体を、実施例１と同一の条件で接着し、積層コア半
休を得、次に実施例１と同様の方法でギャップ形成を行
ない、ヘッドを完成した。３６はギャップである。
こうしてｉｑられたヘッドを、実施例１と同様にして接
着ガラス層３３を調べたところ、接着ガラス層３３の厚
みはほぼ４０００人であり、はとんど広がっていなかっ
た。当然のことながら、このヘソ］゛の記録再生特性は
安定しており、実施例１と同様のテープ走行試験の３０
０時間走行での接着ガラス層３３の偏摩耗は５０人以内
であり、ヘッドの出力変化もなかった。
着ガラス層３３を調べたところ、接着ガラス層３３の厚
みはほぼ４０００人であり、はとんど広がっていなかっ
た。当然のことながら、このヘソ］゛の記録再生特性は
安定しており、実施例１と同様のテープ走行試験の３０
０時間走行での接着ガラス層３３の偏摩耗は５０人以内
であり、ヘッドの出力変化もなかった。
この発明において、低融点の接着ガラス層とガラス基板
の反応、侵蝕防止という点では、酸化物セラミック層は
厚いほど望ましいが、各材料の熱膨張の差異、スパッタ
能率などを考慮すれば、実用的には３０００〜５０００
人が望ましい。
の反応、侵蝕防止という点では、酸化物セラミック層は
厚いほど望ましいが、各材料の熱膨張の差異、スパッタ
能率などを考慮すれば、実用的には３０００〜５０００
人が望ましい。
また、実施例では酸化物セラミック層として５ｉ０２と
ＡＡ２０３について述べたが、他の酸化物セラミック層
、例えばＺｒＯ２，ＴｉＯ２についても同様の効果があ
り、また複合酸化物であるフォルステライト（ＭｇＯＳ
＋０２系）、ステアタイト（ＭｇＯ５ｉ０２系）、ジル
コン（Ｚｒ０２ ５ｉ０２系）、ムライト（Ａβ２０３
Ｓｉ０２系）、スピネル（ＭｇＯ−Ａｊ！２０３系）な
どについても同様の効果があり、これらを組み合わせて
使用しても支障はない。
ＡＡ２０３について述べたが、他の酸化物セラミック層
、例えばＺｒＯ２，ＴｉＯ２についても同様の効果があ
り、また複合酸化物であるフォルステライト（ＭｇＯＳ
＋０２系）、ステアタイト（ＭｇＯ５ｉ０２系）、ジル
コン（Ｚｒ０２ ５ｉ０２系）、ムライト（Ａβ２０３
Ｓｉ０２系）、スピネル（ＭｇＯ−Ａｊ！２０３系）な
どについても同様の効果があり、これらを組み合わせて
使用しても支障はない。
他方、これらの炭化物、窒化物も考えられるが、ガラス
とのなじみを＝Ｊ見位すれば、あまり望ましくない。
とのなじみを＝Ｊ見位すれば、あまり望ましくない。
本実施例では磁性材料（コア材料）として非晶質合金に
ついて述べたが、ガラスの熱膨張係数を適当に選べば、
センダスト合金、パーマロイ合金でも良い。また信頼性
の点では、第３図に示したスパッタ構成による絹み合わ
せが最も望ましく、かつ接着ガラス層も、塗布法では不
可能な非常に薄い厚みが均一に得られる利点がある。ま
た低融点の接着ガラス層の組成をＰｂＯの量を９０％以
上にすると、ガラスとして不安定で、失透しやすく、接
着性が低１・−するから実用的でないためである。
ついて述べたが、ガラスの熱膨張係数を適当に選べば、
センダスト合金、パーマロイ合金でも良い。また信頼性
の点では、第３図に示したスパッタ構成による絹み合わ
せが最も望ましく、かつ接着ガラス層も、塗布法では不
可能な非常に薄い厚みが均一に得られる利点がある。ま
た低融点の接着ガラス層の組成をＰｂＯの量を９０％以
上にすると、ガラスとして不安定で、失透しやすく、接
着性が低１・−するから実用的でないためである。
発明の効果
以上のように、この発明によれば、ガラス基板と接着ガ
ラス層との間に、酸化物セラミック層を介在させること
により、完成した磁気ヘッドの、接着ガラス層の基板ガ
ラス基板に対する反応、浸蝕による接着ガラス層の広が
りを防止することが可能となり、その結果、極めて薄い
（例えば従来のヘッドでは不可能であった１μｍ以下の
）接着ガラス層でも、その形成が可能であり、使用時に
そのくずれがないため、安定した記録再生が可能な信頼
性の高い磁気ヘッドとすることができるという効果があ
る。
ラス層との間に、酸化物セラミック層を介在させること
により、完成した磁気ヘッドの、接着ガラス層の基板ガ
ラス基板に対する反応、浸蝕による接着ガラス層の広が
りを防止することが可能となり、その結果、極めて薄い
（例えば従来のヘッドでは不可能であった１μｍ以下の
）接着ガラス層でも、その形成が可能であり、使用時に
そのくずれがないため、安定した記録再生が可能な信頼
性の高い磁気ヘッドとすることができるという効果があ
る。
−第１図は従来例の磁気ヘッドのテープ摺動面を示す正
面図、第２図の（Ａ）は本発明の実施例１における正面
図、（Ｂ）は側面図、第３図は同様に実施例２における
正面図である。 ２１．２７，３Ｌ ３５・・・ガラス基板、２２゜２６
．３４・・・酸化物セラミック層、２３，２５゜３３・
・・ガラス接着層、２４．３２・・・コア第１図 ８ ０ 第２図
面図、第２図の（Ａ）は本発明の実施例１における正面
図、（Ｂ）は側面図、第３図は同様に実施例２における
正面図である。 ２１．２７，３Ｌ ３５・・・ガラス基板、２２゜２６
．３４・・・酸化物セラミック層、２３，２５゜３３・
・・ガラス接着層、２４．３２・・・コア第１図 ８ ０ 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ＋１１ コアと、このコアを挟む一対のガラス基板と、
前記コアと前記両基板のうちの少なくとも一方の基板と
の間に接着ガラス層の方が前記コア側となる状態で介在
させた接着ガラス層および酸化物セラミック層とを備え
た磁気ヘッド。 （２） 前記接着ガラス層および酸化物セラミック層が
、前記コアと前記両基板それぞれとの間に介在されてい
る特許請求の範囲第（］）項記載の磁気ヘッド。 （３）前記コアが、非晶質合金、センダスト合金。 パーマロイ合金からなる群より選ばれるものである特許
請求の範囲第（］）項記載の磁気ヘッド。 （４） 前記酸化物セラミック層′が５ｊ０２．Ａρ２
０３ 、Ｔ ｉ Ｏ２、Ｚ ｒ Ｏ２、フェルステライ
ト。 ステアタイト ジルコン、ムライト、スピネル。 チタン酸バリウムからなる群より選ばれる１種もしくは
２種以上のものである特許請求の範囲第（１１項記載の
磁気ヘッド。 （５）前記接着ガラス層が、重量比でＰＭＩを９０％以
下、残部をＳ ｉ Ｏ２、Ａ Ｉ２２０３ 、８２０３
等とする組成のものである特許請求の範囲第ｉｌ＋項記
載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4360884A JPS60187909A (ja) | 1984-03-07 | 1984-03-07 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4360884A JPS60187909A (ja) | 1984-03-07 | 1984-03-07 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60187909A true JPS60187909A (ja) | 1985-09-25 |
Family
ID=12668543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4360884A Pending JPS60187909A (ja) | 1984-03-07 | 1984-03-07 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60187909A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62236107A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | Toshiba Corp | ガラス接合磁気ヘツド |
| JPH0411305A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-16 | Nikko Kyodo Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
-
1984
- 1984-03-07 JP JP4360884A patent/JPS60187909A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62236107A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | Toshiba Corp | ガラス接合磁気ヘツド |
| JPH0411305A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-16 | Nikko Kyodo Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
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