JPH0439731B2 - - Google Patents
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- JPH0439731B2 JPH0439731B2 JP60167804A JP16780485A JPH0439731B2 JP H0439731 B2 JPH0439731 B2 JP H0439731B2 JP 60167804 A JP60167804 A JP 60167804A JP 16780485 A JP16780485 A JP 16780485A JP H0439731 B2 JPH0439731 B2 JP H0439731B2
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
この発明は、VTR用磁気ヘツド、フロツピー
デイスクドライブ用磁気ヘツドあるいはコンピユ
ーター用ハードデイスクに用いられる磁気ヘツド
等、高精度かつ高信頼性を有する磁気ヘツド及び
その製造方法に関するものである。 〔従来の技術〕 VTR、フロツピー磁気デイスクドライブある
いは、コンピユーター用ハードデイスクドライブ
のために使用される磁気ヘツドは、その記録周波
数が高く、高分解能が要求される。そのため、そ
の製造工程においては厳しい加工精度が必要とさ
れる。特に磁気ヘツドのギヤツプの精度について
言及すると、ヘツドのギヤツプ長が、0.5〜2.0μm
であり、その製造公差は、±0.05〜0.2μmというよ
うに厳しい仕様を満足しなければならない。 また、形成されたギヤツプ部とコアである強磁
性酸化物との耐摩耗性の差が少ないこと、ギヤツ
プ部の付着強度の強いこと、耐食性が十分あるこ
と、さらには、形成されたギヤツプの光学的ギヤ
ツプ長と実効的ギヤツプ長がほぼ一致すること
等、磁気ヘツド製造上の加工性及び完成品での信
頼性向上などの点から種々の要求がなされてい
る。 従来の磁気ヘツドの製造法には、両コアの間に
所定の厚さのスペーサを用いて空隙を作り、ガラ
スを溶融状態にて毛細管現象によりその空隙に入
れる方法（特公昭39−28376号公報）も考えられ
ているが、この方法によるとコアとガラス材の接
合は十分行なわれる反面、コアとガラスとの接合
層が大きくなり、光学的ギヤツプ長と実効的ギヤ
ツプ長が異なつたり、さらに、制御すべきギヤツ
プ部と離れた部所にスペーサがあるために、精度
が出ないという問題がある。 また、ギヤツプを形成するガラス材を蒸着また
はスパツタ法によりコアのギヤツプ形成面に付着
させ加熱圧着させる方法（特公昭47−26336号公
報）さらに、上記方法において、ギヤツプ形成面
上に付着させたガラスより軟化点の低いガラスを
巻線窓に配し、上記加熱圧着させたコアを再度加
熱し溶融接着させて補強する方法（特公昭47−
268号公報）、ギヤツプ介在物としてSiO2膜を用
いる方法（特公昭43−30386号公報）等が提案さ
れている。 また最近では、一般的にスパツタ法を利用する
ことにより磁性体のコア上にSiO2等の酸化物膜
を付着させた後に、それらと突き合わせ加熱、加
圧しながら補強用ガラスを充填させて高精度のギ
ヤツプを形成したものが、VTRヘツドのみなら
ず、その他の磁気ヘツドの主流になつている。 スパツタ法を利用したギヤツプ形成法は、前述
したように、高精度のギヤツプ長を作成できる。
しかし、この方法においても、磁気ヘツドを製造
するにあたり、信頼性や歩留りを低下させる問題
点を有する。 以下に、その製造工程と問題点について述べ
る。 〔発明が解決しようとする問題点〕 例えば、第２図の斜視図に示すように従来の磁
気ヘツドチツプ製造工程においては、まず巻線用
の溝４を一方のコア１に設け、かつギヤツプ対向
面２，２′を鏡面加工した一方のコア１，１′の表
面に酸化膜を形成し（第２図ａ、それらのコア
１，１′を突き合わせ、溝４に補強のためのガラ
ス棒５を挿入し（第２図ｂ）に、それを加熱・加
圧することにより、ガラス棒５を溶融接着するこ
とで、磁気ヘツドポンテイングコア３を製造する
（第２図ｃ）。 この中の加熱工程において、ギヤツプ中あるい
は、補強に用いたガラス内部に第３図に示すよう
な気泡６が生ずる。これらの気泡６のうち、ギヤ
ツプ７中に存在する気泡６に、摩耗によつて生じ
た磁気ヘツドとデイスク（あるいはテープ）等の
記録媒体の硬質磁性粉末が埋め込まれることによ
り、特性及び信頼性の劣化を生ずる。 また、補強ガラス中に存在する気泡６は、特性
劣化の要因となつたり、その後の磁気ヘツドコア
加工におけるクラツクの発生起点となる。 上記のように、磁気ヘツドのギヤツプあるいは
ガラス中に発生する気泡は、磁気ヘツドの製造上
歩留向上あるいは信頼性向上に対し、大きい障害
となつている。 本発明者らは、磁気ヘツドを製造するにあた
り、前述のギヤツプ及び補強ガラスに発生する気
泡を低減するという点に関し、鋭意検討を進めて
きた。 本発明の目的は、上記気泡を大幅に低減し、か
つ耐食性に富み、さらには、形成されたギヤツプ
の光学ギヤツプと実効ギヤツプがほとんど一致す
るという、今までの磁気ヘツドに要求される事項
を一挙に満足できる構造の磁気ヘツド及びその製
造方法を提供しようとするものである。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明の磁気ヘツドは、第２図に示すような、
巻線のための溝４を少なくとも一方に有し、所定
の形状に加工した強磁性体のコア１，１′の対向
面２，２′をそれぞれ鏡面に仕上げ、その対向面
２，２′を所定の膜厚になるように、SiO2等の高
融点酸化物膜を第１層目としてスパツタ法により
付着せしめ、ついでFe2O3を２〜15wt含有する
PbO−SiO2−B2O3系ガラス膜を第２層目として
スパツタ法により付着せしめ、これらの膜を介し
て対向面２，２′突き合わせた後、補強のための
ガラス棒５またはガラス粉末を前記溝４内に配
し、加圧・加熱することにより、ギヤツプ部の接
着と補強ガラスの溶融、固着を同時に行なつて作
製される。 〔作用〕 第２層目のガラスとして、Fe2O3を２〜15wt含
有するPbO−SiO2−B2O3系ガラスを用いること
により、磁気ヘツドを製造する工程で気泡発生の
低減に対し次に示すような作用・効果を有する。 ガラス成分としてFe2O3を含有するガラスは、
その粘度の温度変化が緩やかになることが知られ
ている。実際に本研究により得られたガラスにつ
いては、粘度をηとした場合、代表的な粘度の数
値としてlogηをとり、ガラスの粘度がlogη1＝11
からlogη2＝7.65まで変化する温度差をΔTとした
ときPbO−SiO2−B2O3系ガラス中のFe2O3含有
量を０〜15wt％まで増加して行くにつれて、ΔT
が100〜180℃と大きくなる。 本発明者らは、磁気ヘツドの製造プロセスにお
ける気泡の発生原因を究明する研究過程におい
て、スパツタ法における膜形成時に膜中に取り込
まれたスパツタ原子が磁気ヘツドを接合するため
の熱処理工程において、粘度が低下したガラス中
に放出され、それが成長したり、集合したりする
ことにより体積が増大することが気泡発生の大き
な原因になつていることを明らかにした。 スパツタしたガラス膜を真空中で加熱して、各
温度条件下において、ガラス膜より放出するAr
ガスの量を調査した。 通常のPbO−SiO2−B2O3系のガラスでlogη3
７付近でガス放出が行なわれるが、この粘度領域
では前述のように、放出ガスがギヤツプ形成部材
中で成長したり、集合したりする。しかしなが
ら、SiO2では、そのガス放出が350〜600℃とほ
ぼ固体の状態のままで完了することを見出だし
た。この放出温度と粘度との関係は、ガラス中で
のガスの拡散係数に依存することが大と考えられ
る。 本発明者らは、これらの調査結果をもとに軟化
点が低いガラスにおいても、SiO2と同様な性質
を持つガラスを作るべく検討した結果、PbO−
SiO2−B2O3系ガラスに対して、Fe2O3を添加す
ることにより、ガラスの粘性係数の温度変化が緩
やかになり、粘度がlogη７〜14の範囲でガス放
出を可能とし、実際の磁気ヘツドのボンデイング
ができるガラスを見出だした。上記の粘度範囲で
は、放出ガスがギヤツプ形成部材中で成長した
り、集合したりする現象はほとんど生じない。 すなわち、前述した磁気ヘツド製造プロセスに
おいて、ギヤツプ形成部材中に気泡が成長した
り、集合したりすることがない条件下で気泡の発
生原因となるスパツタ原子を放出させ、かつその
後接着を行なうという手法を用いてギヤツプ形成
が可能となり、ギヤツプ部材中の気泡の発生を大
幅に低減させることができる。 さらにこの時に補強用として用いるガラスは、
第２層のガラスより軟化点が同じか高いものの方
が補強用ガラスの気泡発生の低減の効果が著し
い。 また、補助用のガラスとして、コアの対向面に
形成する第２層目のガラスとほぼ同じ組成のガラ
スを使用することにより、補助ガラス中へのガス
取り込みを少なくし、かつその後、溶融接着を行
ない、補強ガラスの気泡の発生を低減できる。 さらに、Fe2O3を含有させたPbO−SiO2−
B2O3系ガラスを用いて、前述のプロセスにより
製造した磁気ヘツドは、以下に示すような作用・
効果を有する。 このガラスはFe2O3を含有することにより、単
に粘度の温度変化を緩やかにするのみではなく、
耐食性が大幅に向上するため、完成した磁気ヘツ
ドにおいても耐食性が大きく改善される。またギ
ヤツプ形成部材の第１層として高融点酸化物を用
いることにより、この第１層の高融点酸化物及び
第２層のガラスと磁性体コアの対向面の界面にお
ける、接着のための熱処理時の相互拡散が抑制さ
れ、光学ギヤツプと実効ギヤツプの差もほとんど
みられない。 本発明において、PbO−SiO2−B2O3系ガラス
中のFe2O3含有量を、２〜15wt％に規定したの
は、2wt％未満では、Fe2O3添加の効果が十分現
られず、また15wt％を超えると、作製したガラ
スが失透する可能性が大きくなり、ギヤツプある
いは補強用ガラス部材として使用できなくなるた
めである。 また、ガラス組成全体を規定しているのは、フ
エライトを中心とする強磁性酸化物を接合し、か
つ耐食性、耐熱性を付与するために必要なガラス
条件であり、軟化点範囲500〜650℃及び熱膨張係
数75〜120×10-7／℃のガラスを得るためである。 〔実施例〕 以下実施例を用いて、この発明についての詳細
を説明する。 実施例 １ まず、第２図に示すような、少なくとも一方は
巻線のための溝４の加工を行ない、かつ、対向す
る面２，２′を鏡面にラツピング加工したMnZn
フエライトのコア１，１′を準備した。 これを洗浄した後に、スパツタ装置の試料室内
部に装着した。ついでこれを、まず約300℃程度
に熱保持し、１×10-6Torrの真空度まで排気し
た（この排気によつてフエライトコア上に吸着し
ている水分やガスを除去することができる）。所
定の真空度まで排気した後、加熱保持のままAr
ガスを導入した。 このガスはマスフローコントローラを通じて導
入され、スパツタ室内容積200lに対し、Arが
80SCCMにコントロールされている。またスパツ
タガスの全圧は、５×10-3Torrにコントロール
した。 さらに、ガス圧が安定するまで放置した後に、
13.56MH2の高周波電力を約400W／cm2印加し、
ターゲツト表面のクリーニングの目的でプレスパ
ツタを20分ほど行なつた。その後、第１層として
SiO2を付着させ、さらに、第２層として、Fe2O3
を２〜15wt含有するPbO−SiO2−B2O3系ガラス
膜を付着させた。 各コアの膜厚は、第１層と第２層との和が形成
しようとするギヤツプ長のほぼ1/2とし、第１層
と第２層の膜厚の比は、ギヤツプ精度の点から
７：３〜19：１の範囲が良い。 スパツタに用いるターゲツトは、第１層は
SiO2板を、第２層は形成された膜が目標の組成
になるように作製されたガラス板を使用し、プレ
ーナーマグネトロン方式のスパツタリングを行な
つた。 本実施例において用いたガラスの代表的組成
は、wt％にてSiO237.5％、B2O32.5％、PbO33.8
％、Al2O30.9％、Na04.1％、K2O8.1％、
Fe2O38.1％であり、その軟化点が556℃、αが10
×８×10-7／℃のものである。 次に、これらのコアを互いに突き合わせて組み
立てた後に、巻線用の溝部４に補強のためのガラ
ス棒５を入れ、そのガラス棒５の軟化点より約
130℃高い温度で加熱しながら所定の時間保持す
ることにより、ガラス棒５を溶融充填せしめた。
この時の昇温速度は約３℃／分であつた。 このような工程により製造された磁気ヘツドチ
ツプは第３図に示すような、ギヤツプ７及び補強
ガラス５ａ中の気泡が大幅に低減された。 このときの磁気ヘツドの構造は第１図に示すと
おりである。すなわち、１，１′は強磁性体のコ
ア、５ａは溝４中溶融充填した補強ガラス、８，
８′は第１層の酸化物膜、９は第２層のFe2O3含
有PbO−SiO2−B2O3系ガラスである。 実施例 ２ 実施例１の工程において、補強ガラスとして、
前述の代表的組成を有するガラスを用い、ガラス
棒の溶融充填を760℃で30分間保持して行なつた
ものについても、気泡低減の効果が見られた。 実施例 ３ 実施例２の工程において、磁性体コアをNiZn
フエライトとし、ガラスとしてwt％でSiO253.0
％、B2O32.0％、PbO28.0％、Al2O30.7％、
Na2O3.3％、K2O6.5％、Fe2O36.5％、であり、
その軟化点が650℃、αが80×10-7／℃のものを
用い、ガラス棒の溶融充填を850℃で30分間保持
して行なつたものについても気泡の低減ができ
た。 実施例１〜３において、ガラスの軟化点及び熱
膨張係数は、各フエライトの最高処理温度及び熱
膨張係数を考えに入れて最適化したものである。 実施例 ４ さらに気泡低減を図る目的で、コアの接合を行
なう熱処理の前に、脱ガスのためのプレヒートを
ガラスの溶融充填温度より約10℃高い温度で行な
つたもの、特に実施例１〜３の工程で磁気ヘツド
チツプを作成したものは、さらに気泡低減の効果
が著しかつた。 実施例 ５ 本発明におけるガラスの耐食性を評価するため
に、湿度95％、温度40℃で1000hr放置する高温高
湿テストを行なつた結果を第１表に示す。Fe2O3
を含有する本発明用PbO−SiO2−B2O3系ガラス
は、試験前後での差はみられなかつた。
デイスクドライブ用磁気ヘツドあるいはコンピユ
ーター用ハードデイスクに用いられる磁気ヘツド
等、高精度かつ高信頼性を有する磁気ヘツド及び
その製造方法に関するものである。 〔従来の技術〕 VTR、フロツピー磁気デイスクドライブある
いは、コンピユーター用ハードデイスクドライブ
のために使用される磁気ヘツドは、その記録周波
数が高く、高分解能が要求される。そのため、そ
の製造工程においては厳しい加工精度が必要とさ
れる。特に磁気ヘツドのギヤツプの精度について
言及すると、ヘツドのギヤツプ長が、0.5〜2.0μm
であり、その製造公差は、±0.05〜0.2μmというよ
うに厳しい仕様を満足しなければならない。 また、形成されたギヤツプ部とコアである強磁
性酸化物との耐摩耗性の差が少ないこと、ギヤツ
プ部の付着強度の強いこと、耐食性が十分あるこ
と、さらには、形成されたギヤツプの光学的ギヤ
ツプ長と実効的ギヤツプ長がほぼ一致すること
等、磁気ヘツド製造上の加工性及び完成品での信
頼性向上などの点から種々の要求がなされてい
る。 従来の磁気ヘツドの製造法には、両コアの間に
所定の厚さのスペーサを用いて空隙を作り、ガラ
スを溶融状態にて毛細管現象によりその空隙に入
れる方法（特公昭39−28376号公報）も考えられ
ているが、この方法によるとコアとガラス材の接
合は十分行なわれる反面、コアとガラスとの接合
層が大きくなり、光学的ギヤツプ長と実効的ギヤ
ツプ長が異なつたり、さらに、制御すべきギヤツ
プ部と離れた部所にスペーサがあるために、精度
が出ないという問題がある。 また、ギヤツプを形成するガラス材を蒸着また
はスパツタ法によりコアのギヤツプ形成面に付着
させ加熱圧着させる方法（特公昭47−26336号公
報）さらに、上記方法において、ギヤツプ形成面
上に付着させたガラスより軟化点の低いガラスを
巻線窓に配し、上記加熱圧着させたコアを再度加
熱し溶融接着させて補強する方法（特公昭47−
268号公報）、ギヤツプ介在物としてSiO2膜を用
いる方法（特公昭43−30386号公報）等が提案さ
れている。 また最近では、一般的にスパツタ法を利用する
ことにより磁性体のコア上にSiO2等の酸化物膜
を付着させた後に、それらと突き合わせ加熱、加
圧しながら補強用ガラスを充填させて高精度のギ
ヤツプを形成したものが、VTRヘツドのみなら
ず、その他の磁気ヘツドの主流になつている。 スパツタ法を利用したギヤツプ形成法は、前述
したように、高精度のギヤツプ長を作成できる。
しかし、この方法においても、磁気ヘツドを製造
するにあたり、信頼性や歩留りを低下させる問題
点を有する。 以下に、その製造工程と問題点について述べ
る。 〔発明が解決しようとする問題点〕 例えば、第２図の斜視図に示すように従来の磁
気ヘツドチツプ製造工程においては、まず巻線用
の溝４を一方のコア１に設け、かつギヤツプ対向
面２，２′を鏡面加工した一方のコア１，１′の表
面に酸化膜を形成し（第２図ａ、それらのコア
１，１′を突き合わせ、溝４に補強のためのガラ
ス棒５を挿入し（第２図ｂ）に、それを加熱・加
圧することにより、ガラス棒５を溶融接着するこ
とで、磁気ヘツドポンテイングコア３を製造する
（第２図ｃ）。 この中の加熱工程において、ギヤツプ中あるい
は、補強に用いたガラス内部に第３図に示すよう
な気泡６が生ずる。これらの気泡６のうち、ギヤ
ツプ７中に存在する気泡６に、摩耗によつて生じ
た磁気ヘツドとデイスク（あるいはテープ）等の
記録媒体の硬質磁性粉末が埋め込まれることによ
り、特性及び信頼性の劣化を生ずる。 また、補強ガラス中に存在する気泡６は、特性
劣化の要因となつたり、その後の磁気ヘツドコア
加工におけるクラツクの発生起点となる。 上記のように、磁気ヘツドのギヤツプあるいは
ガラス中に発生する気泡は、磁気ヘツドの製造上
歩留向上あるいは信頼性向上に対し、大きい障害
となつている。 本発明者らは、磁気ヘツドを製造するにあた
り、前述のギヤツプ及び補強ガラスに発生する気
泡を低減するという点に関し、鋭意検討を進めて
きた。 本発明の目的は、上記気泡を大幅に低減し、か
つ耐食性に富み、さらには、形成されたギヤツプ
の光学ギヤツプと実効ギヤツプがほとんど一致す
るという、今までの磁気ヘツドに要求される事項
を一挙に満足できる構造の磁気ヘツド及びその製
造方法を提供しようとするものである。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明の磁気ヘツドは、第２図に示すような、
巻線のための溝４を少なくとも一方に有し、所定
の形状に加工した強磁性体のコア１，１′の対向
面２，２′をそれぞれ鏡面に仕上げ、その対向面
２，２′を所定の膜厚になるように、SiO2等の高
融点酸化物膜を第１層目としてスパツタ法により
付着せしめ、ついでFe2O3を２〜15wt含有する
PbO−SiO2−B2O3系ガラス膜を第２層目として
スパツタ法により付着せしめ、これらの膜を介し
て対向面２，２′突き合わせた後、補強のための
ガラス棒５またはガラス粉末を前記溝４内に配
し、加圧・加熱することにより、ギヤツプ部の接
着と補強ガラスの溶融、固着を同時に行なつて作
製される。 〔作用〕 第２層目のガラスとして、Fe2O3を２〜15wt含
有するPbO−SiO2−B2O3系ガラスを用いること
により、磁気ヘツドを製造する工程で気泡発生の
低減に対し次に示すような作用・効果を有する。 ガラス成分としてFe2O3を含有するガラスは、
その粘度の温度変化が緩やかになることが知られ
ている。実際に本研究により得られたガラスにつ
いては、粘度をηとした場合、代表的な粘度の数
値としてlogηをとり、ガラスの粘度がlogη1＝11
からlogη2＝7.65まで変化する温度差をΔTとした
ときPbO−SiO2−B2O3系ガラス中のFe2O3含有
量を０〜15wt％まで増加して行くにつれて、ΔT
が100〜180℃と大きくなる。 本発明者らは、磁気ヘツドの製造プロセスにお
ける気泡の発生原因を究明する研究過程におい
て、スパツタ法における膜形成時に膜中に取り込
まれたスパツタ原子が磁気ヘツドを接合するため
の熱処理工程において、粘度が低下したガラス中
に放出され、それが成長したり、集合したりする
ことにより体積が増大することが気泡発生の大き
な原因になつていることを明らかにした。 スパツタしたガラス膜を真空中で加熱して、各
温度条件下において、ガラス膜より放出するAr
ガスの量を調査した。 通常のPbO−SiO2−B2O3系のガラスでlogη3
７付近でガス放出が行なわれるが、この粘度領域
では前述のように、放出ガスがギヤツプ形成部材
中で成長したり、集合したりする。しかしなが
ら、SiO2では、そのガス放出が350〜600℃とほ
ぼ固体の状態のままで完了することを見出だし
た。この放出温度と粘度との関係は、ガラス中で
のガスの拡散係数に依存することが大と考えられ
る。 本発明者らは、これらの調査結果をもとに軟化
点が低いガラスにおいても、SiO2と同様な性質
を持つガラスを作るべく検討した結果、PbO−
SiO2−B2O3系ガラスに対して、Fe2O3を添加す
ることにより、ガラスの粘性係数の温度変化が緩
やかになり、粘度がlogη７〜14の範囲でガス放
出を可能とし、実際の磁気ヘツドのボンデイング
ができるガラスを見出だした。上記の粘度範囲で
は、放出ガスがギヤツプ形成部材中で成長した
り、集合したりする現象はほとんど生じない。 すなわち、前述した磁気ヘツド製造プロセスに
おいて、ギヤツプ形成部材中に気泡が成長した
り、集合したりすることがない条件下で気泡の発
生原因となるスパツタ原子を放出させ、かつその
後接着を行なうという手法を用いてギヤツプ形成
が可能となり、ギヤツプ部材中の気泡の発生を大
幅に低減させることができる。 さらにこの時に補強用として用いるガラスは、
第２層のガラスより軟化点が同じか高いものの方
が補強用ガラスの気泡発生の低減の効果が著し
い。 また、補助用のガラスとして、コアの対向面に
形成する第２層目のガラスとほぼ同じ組成のガラ
スを使用することにより、補助ガラス中へのガス
取り込みを少なくし、かつその後、溶融接着を行
ない、補強ガラスの気泡の発生を低減できる。 さらに、Fe2O3を含有させたPbO−SiO2−
B2O3系ガラスを用いて、前述のプロセスにより
製造した磁気ヘツドは、以下に示すような作用・
効果を有する。 このガラスはFe2O3を含有することにより、単
に粘度の温度変化を緩やかにするのみではなく、
耐食性が大幅に向上するため、完成した磁気ヘツ
ドにおいても耐食性が大きく改善される。またギ
ヤツプ形成部材の第１層として高融点酸化物を用
いることにより、この第１層の高融点酸化物及び
第２層のガラスと磁性体コアの対向面の界面にお
ける、接着のための熱処理時の相互拡散が抑制さ
れ、光学ギヤツプと実効ギヤツプの差もほとんど
みられない。 本発明において、PbO−SiO2−B2O3系ガラス
中のFe2O3含有量を、２〜15wt％に規定したの
は、2wt％未満では、Fe2O3添加の効果が十分現
られず、また15wt％を超えると、作製したガラ
スが失透する可能性が大きくなり、ギヤツプある
いは補強用ガラス部材として使用できなくなるた
めである。 また、ガラス組成全体を規定しているのは、フ
エライトを中心とする強磁性酸化物を接合し、か
つ耐食性、耐熱性を付与するために必要なガラス
条件であり、軟化点範囲500〜650℃及び熱膨張係
数75〜120×10-7／℃のガラスを得るためである。 〔実施例〕 以下実施例を用いて、この発明についての詳細
を説明する。 実施例 １ まず、第２図に示すような、少なくとも一方は
巻線のための溝４の加工を行ない、かつ、対向す
る面２，２′を鏡面にラツピング加工したMnZn
フエライトのコア１，１′を準備した。 これを洗浄した後に、スパツタ装置の試料室内
部に装着した。ついでこれを、まず約300℃程度
に熱保持し、１×10-6Torrの真空度まで排気し
た（この排気によつてフエライトコア上に吸着し
ている水分やガスを除去することができる）。所
定の真空度まで排気した後、加熱保持のままAr
ガスを導入した。 このガスはマスフローコントローラを通じて導
入され、スパツタ室内容積200lに対し、Arが
80SCCMにコントロールされている。またスパツ
タガスの全圧は、５×10-3Torrにコントロール
した。 さらに、ガス圧が安定するまで放置した後に、
13.56MH2の高周波電力を約400W／cm2印加し、
ターゲツト表面のクリーニングの目的でプレスパ
ツタを20分ほど行なつた。その後、第１層として
SiO2を付着させ、さらに、第２層として、Fe2O3
を２〜15wt含有するPbO−SiO2−B2O3系ガラス
膜を付着させた。 各コアの膜厚は、第１層と第２層との和が形成
しようとするギヤツプ長のほぼ1/2とし、第１層
と第２層の膜厚の比は、ギヤツプ精度の点から
７：３〜19：１の範囲が良い。 スパツタに用いるターゲツトは、第１層は
SiO2板を、第２層は形成された膜が目標の組成
になるように作製されたガラス板を使用し、プレ
ーナーマグネトロン方式のスパツタリングを行な
つた。 本実施例において用いたガラスの代表的組成
は、wt％にてSiO237.5％、B2O32.5％、PbO33.8
％、Al2O30.9％、Na04.1％、K2O8.1％、
Fe2O38.1％であり、その軟化点が556℃、αが10
×８×10-7／℃のものである。 次に、これらのコアを互いに突き合わせて組み
立てた後に、巻線用の溝部４に補強のためのガラ
ス棒５を入れ、そのガラス棒５の軟化点より約
130℃高い温度で加熱しながら所定の時間保持す
ることにより、ガラス棒５を溶融充填せしめた。
この時の昇温速度は約３℃／分であつた。 このような工程により製造された磁気ヘツドチ
ツプは第３図に示すような、ギヤツプ７及び補強
ガラス５ａ中の気泡が大幅に低減された。 このときの磁気ヘツドの構造は第１図に示すと
おりである。すなわち、１，１′は強磁性体のコ
ア、５ａは溝４中溶融充填した補強ガラス、８，
８′は第１層の酸化物膜、９は第２層のFe2O3含
有PbO−SiO2−B2O3系ガラスである。 実施例 ２ 実施例１の工程において、補強ガラスとして、
前述の代表的組成を有するガラスを用い、ガラス
棒の溶融充填を760℃で30分間保持して行なつた
ものについても、気泡低減の効果が見られた。 実施例 ３ 実施例２の工程において、磁性体コアをNiZn
フエライトとし、ガラスとしてwt％でSiO253.0
％、B2O32.0％、PbO28.0％、Al2O30.7％、
Na2O3.3％、K2O6.5％、Fe2O36.5％、であり、
その軟化点が650℃、αが80×10-7／℃のものを
用い、ガラス棒の溶融充填を850℃で30分間保持
して行なつたものについても気泡の低減ができ
た。 実施例１〜３において、ガラスの軟化点及び熱
膨張係数は、各フエライトの最高処理温度及び熱
膨張係数を考えに入れて最適化したものである。 実施例 ４ さらに気泡低減を図る目的で、コアの接合を行
なう熱処理の前に、脱ガスのためのプレヒートを
ガラスの溶融充填温度より約10℃高い温度で行な
つたもの、特に実施例１〜３の工程で磁気ヘツド
チツプを作成したものは、さらに気泡低減の効果
が著しかつた。 実施例 ５ 本発明におけるガラスの耐食性を評価するため
に、湿度95％、温度40℃で1000hr放置する高温高
湿テストを行なつた結果を第１表に示す。Fe2O3
を含有する本発明用PbO−SiO2−B2O3系ガラス
は、試験前後での差はみられなかつた。
【表】
実施例 ６
実施例２により製造した磁気ヘツドチツプを用
いた磁気ヘツドの実効ギヤツプ及び光学ギヤツプ
は第２表のようになり、ほとんど一致する。
いた磁気ヘツドの実効ギヤツプ及び光学ギヤツプ
は第２表のようになり、ほとんど一致する。
以上記述したように、本発明によりその製造過
程における気泡の発生を大幅に低減することがで
き、かつ耐食性に富み、さらに実効ギヤツプと光
学ギヤツプがほとんど一致する磁気ヘツドが供給
可能となつた。
程における気泡の発生を大幅に低減することがで
き、かつ耐食性に富み、さらに実効ギヤツプと光
学ギヤツプがほとんど一致する磁気ヘツドが供給
可能となつた。
第１図は本発明による磁気ヘツド用チツプの構
成を示す側面図、第２図ａ，ｂ，ｃは、磁気ヘツ
ド用チツプの製造工程ごとの斜視図、第３図は気
泡の発生状態を示す要部斜視図である。 １，１′：コア、２，２′：対向面、３：ボンデ
イングコア、４：溝、５：ガラス棒、５ａ：補強
ガラス、７：ギヤツプ、８：酸化物膜、９：
Fe2O3含有ガラス。
成を示す側面図、第２図ａ，ｂ，ｃは、磁気ヘツ
ド用チツプの製造工程ごとの斜視図、第３図は気
泡の発生状態を示す要部斜視図である。 １，１′：コア、２，２′：対向面、３：ボンデ
イングコア、４：溝、５：ガラス棒、５ａ：補強
ガラス、７：ギヤツプ、８：酸化物膜、９：
Fe2O3含有ガラス。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一対の強磁性酸化物コアを対向させて形成さ
れた磁気ヘツドにおいて、前記強磁性酸化物コア
の対向面にSiO2等の高融点酸化物膜がそれぞれ
形成され、これらの酸化物膜の間に、この酸化物
膜よりも軟化点が低く、Fe2O3を２〜15wt％含有
したPbO−SiO2−B2O3系ガラスが充填されてい
ることを特徴とする磁気ヘツド。 ２ 特許請求の範囲第１項において、強磁性体コ
アの接着を補強する上記ガラスとほぼ同一の組成
を有するガラスを、ギヤツプ面近傍に配したこと
を特徴とする磁気ヘツド。 ３ 特許請求の範囲第１項または第２項におい
て、Fe2O3を２〜15wt％含有するガラスが、他に
SiO2を22〜55wt％、PbOを25〜45wt％、NaO及
びK2Oを合わせて５〜15wt％、B2O3を１〜6wt
％、Al2O3を０〜8wt％含有し、その総和が100％
であるガラスであることを特徴とする磁気ヘツ
ド。 ４ 少なくとも一方に溝を有する一対の強磁性酸
化物コアの対向する面の各々に、スパツタ法によ
り、所定の厚さのSiO2等の高融点酸化物膜を第
１層として形成し、ついで第２層としてFe2O3を
２〜15wt％含有し第１層より軟化点の低いPbO
−SiO2−B2O3系ガラス膜を形成し、これらのコ
アを突き合わせた後、溝内にコア補強用のガラス
棒またはガラス粉末を配し、加圧、加熱すること
により、上記ガラスを溶融し、磁気ヘツドのコア
とギヤツプとの両方を同時に接着することを特徴
とする磁気ヘツドの製造方法。 ５ 特許請求の範囲第４項において、コア補強用
のガラスとして、第２層のFe2O3を２〜15wt％含
有したガラスとほぼ同一の組成を有するガラスを
用いた磁気ヘツドの製造方法。 ６ 特許請求の範囲第４項または第５項におい
て、Fe2O3を２〜15wt％含有するガラスが、他に
SiO2を22〜55wt％、PbO25〜45wt％、Na2O及
びK2Oを合わせて５〜15wt％、B2O3を１〜6wt
％、Al2O3を０〜8wt％含有し、その総和が100％
であるガラスであることを特徴とする磁気ヘツド
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16780485A JPS6228909A (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16780485A JPS6228909A (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6228909A JPS6228909A (ja) | 1987-02-06 |
| JPH0439731B2 true JPH0439731B2 (ja) | 1992-06-30 |
Family
ID=15856414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16780485A Granted JPS6228909A (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6228909A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2551014B2 (ja) * | 1987-07-21 | 1996-11-06 | ソニー株式会社 | 複合磁気ヘッド |
| JPH02149905A (ja) * | 1988-11-30 | 1990-06-08 | Tokin Corp | 磁気ヘッドコアの製造方法 |
| JP2734053B2 (ja) * | 1989-01-31 | 1998-03-30 | ソニー株式会社 | ボンディングガラス及び磁気ヘッド |
| JP4730217B2 (ja) * | 2006-06-12 | 2011-07-20 | トヨタ自動車株式会社 | フランジ付カラーを含む締結構造体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5654622A (en) * | 1979-10-12 | 1981-05-14 | Hitachi Ltd | Magnetic head and its manufacture |
| JPS57203215A (en) * | 1981-06-09 | 1982-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
-
1985
- 1985-07-31 JP JP16780485A patent/JPS6228909A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5654622A (en) * | 1979-10-12 | 1981-05-14 | Hitachi Ltd | Magnetic head and its manufacture |
| JPS57203215A (en) * | 1981-06-09 | 1982-12-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6228909A (ja) | 1987-02-06 |
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